赛默飞 戴安 氢氧化钾淋洗液发生器 074532
赛默飞 戴安 氢氧化钾淋洗液发生器 074532 赛默飞 戴安 氢氧化钾淋洗液发生器 074532淋洗液发生器用来电解产生高纯度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液发生器能避免基线漂移,增加灵敏度,提高分离度,保证色谱峰积分良好重复性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液发生罐产品,包括氢氧根体系淋洗液发生罐,碳酸根体系淋洗液发生罐和甲磺酸体系淋洗液发生罐RFIC-EG 优点RFIC-EG 通过避免基线漂移、增加灵敏度、提高分辨率并确保峰积分一致,从而获得出色的分析结果。提高每日、各系统与各实验室之间的分析一致性和可重现性。提供始终如一的高稳定性淋洗液浓度生成高度可重现的结果,并且峰保留时间和面积的变化很小借助等度泵实现梯度分离RFIC-EG 工作原理带 Reagent-Free IC 淋洗液生成 (RFIC-EG™ ) 功能的系统通过 Dionex EGC 淋洗液发生灌自动电解生成高纯度氢氧化物、碳酸盐、碳酸氢盐或甲磺酸 (MSA) 淋洗液。只需为 RFIC-EG 系统提供高纯度的去离子水源。系统会自动生成指定浓度的淋洗液,既适用于等度方法也适用于梯度方法。也就是说,可以借助等度泵来完成梯度分析。淋洗液通过 Dionex CR-TC 持续再生捕获柱进行在线纯化,并抑制电解直到开始进行检测,无需准备再生剂。戴安离子色谱淋洗液罐常用耗材:074536 PROD,EGCIII,K2CO3,ANALYTICAL074535 PROD,EGCIII,MSA,ANALYTICAL074534 PROD,EGCIII,LIOH,ANALYTICAL074533 PROD,EGCIII,NAOH,ANALYTICAL074532 PROD,EGCIII,KOH,ANALYTICAL072076 PROD,EGC-KOH,ANALYTICAL072077 PROD,EGC-MSA,ANALYTICAL072078 PROD,EGC 500 KOH,ANALYTICAL072079 PROD,EGC 500 MSA,ANALYTICAL088453 PROD,EGC 500 K2CO3,ANALYTICAL戴安公司分析柱及抑制器对应的部件号: 064558 PROD, AMMS-300, 4MM阴离子抑制器 064554 ASRS 300 4mm阴离子抑制器 064555 ASRS 300 2mm阴离子抑制器 064556 CSRS 300 4mm 阳离子抑制器 052962 PROD,COL,IP AG11-HC 4MM阴离子色谱柱 052960 PROD,COL,IP AS11-HC 4MM阴离子分析柱 044076 PROD,COL,IP AS11 4MM(10-32)阴离子分析柱 044078 PROD,COL,IP AG11 4MM(10-32)阴离子保护柱 046124 PROD,COL,IP AS14 4MM阴离子分析柱 046134 PROD,COL,IP AG14 4MM阴离子保护柱 062885 PROD,COL,IP,AS19,4X250MM阴离子分析柱 062887 PROD,COL,IP,AG19,4x50MM阴离子保护柱 064139 IonPac AG22 Guard Column (4mm)阴离子保护柱 064141 IonPac AS22 Analytical Column(4mm)阴离子分析柱 064147 PROD,COL,IP,AG23,4X50MM阴离子保护柱 064149 PROD,COL,IP,AS23,4X250MM阴离子分析柱 046073 PROD,COL,IP CS12A 4MM阳离子分析柱 046074 PROD,COL,IP CG12A 4MM阳离子保护柱 060557 PROD,COL,IP CS17 4MM阳离子色谱柱 060560 PROD,COL,IP CG17 4MM阳离子保护柱