真空蒸发系统

实验室型薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统优莱博薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统是针对于常规蒸馏效果不佳的分离浓缩应用特别设计推出的。因其成膜蒸发，高真空度 ，连续操作等特点，特别适用于热敏性物料，易起泡物料，高粘度物料等的蒸馏和浓缩操作。 工作原理薄膜蒸发在被加热的蒸发器圆筒形内表面，一个旋转的刮膜系统将原料刮成均匀的薄膜。刮膜系统能够使液膜形成良好的湍流效果，优化传热和传质过程，从而能大大地提高蒸发效率。 原料中的低沸点组分在短时间内从液膜中蒸发出来。 物料在蒸发器内的停留时间非常短。蒸发出轻组分气体在外置冷凝器中冷凝。重相的浓缩物由蒸发器底部持续排出。在薄膜蒸发器中，能够处理高粘度的物料以及易于结晶的物料。薄膜蒸发器内操作压力可以低至 1mbar。薄膜蒸发的优点 连续的蒸馏过程 物料停留时间短 高蒸发率 由于操作压力低，因而所需的加 热温度低 可以处理高沸点、高粘度物料 薄膜蒸发器可以连接带有一定理论塔板数的精馏柱 蒸发器内壁不易结垢短程蒸馏 短程蒸发器是将薄膜蒸发器和冷凝器集成在一体的设备。轻组分的蒸汽在短程蒸发器内置冷凝器上冷凝。 蒸发面和冷凝面之间的路径非常短，因此，气相的压力降非常低。短程蒸馏的优点 连续的蒸馏过程 高湍流、高蒸发率：被刮成的膜始终保持高湍流的状态，增加了质量和热量的传递 停留时间短：降低了产品的热应力 一步蒸馏：无需循环 在蒸发器内壁上形成很薄的液膜：无静液面高度的影响 无产品结焦：在加热的蒸发器上由于薄膜的高湍流，使产品不会滞留在蒸发器表面 可进行高粘度产品的蒸馏：提供te殊设计的刮膜系统 操作压力低：ji低的操作压力可降低物质的沸点，zui低可达 0.001mbar（0.1Pa） 装置设计非常紧凑不同蒸馏方法的对比表不同蒸馏方法的对普通蒸馏薄膜蒸发短程 / 分子蒸馏物料被加热的时间非常长 ( 按小时计 )非常短 ( 数十秒 )非常短 ( 数十秒 )真空度一般 ( 几个到几十 mbar)很高 (1mbar)非常高 (0.001mbar)所需要的蒸发温度高比较低非常低热敏性物料的分离不适宜适宜非常适宜对于易于起泡的物料分离不适宜非常适宜适宜是否能够连续化蒸馏不能能能高粘度样品的浓缩或分离不适宜非常适宜适宜溶剂脱除效率一般非常好 ( 外冷凝器面积不受限制）好 TF40 薄膜蒸发或 MD52 分子蒸馏系统蒸馏主体（2 选 1）TF40 薄膜蒸发器主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 100-500rpm，蒸发面积 0.04 ㎡，蒸发能力 0.1-1.5L/h，冷凝面积 0.2 ㎡，zui大物料粘度 1000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢MD52 分子蒸馏仪主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 60-500rpm，蒸发面积 0.052 ㎡，蒸发能力 0.1-2L/h，冷凝面积 0.08 ㎡（分子蒸馏蒸气压低，效率高，无须太大冷凝面积），zui大物料粘度 5000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢蒸发器加热模块（4 选 1）ITHERM-B1 循环水浴zui高温度 100℃，加热功率 1.5KW，稳定性 ±0.05℃DD-BC4 循环油浴zui高温度 200℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MS-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MX-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 3KW，稳定性 ±0.01℃冷凝器冷却模块（2 选 1）CS3 冷却循环器-20 到 100℃，制冷功率 300W，带加热，流量 10L/minFL300 冷却循环器-20 到 40℃，制冷功率 300W，噪音更低，流量 15L/min真空模块（3 选 1）SXD.4 防腐蚀隔膜泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 20mbar耐腐蚀，低噪音冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.05mbar冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 油扩散泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.001mbar进料模块（2 选 1）500ml 进料器，针型阀控制流量针型阀S型回路结构在确保连续蒸馏情况下的系统真空同时，可以实现随时加料1000ml 进料罐 + 高精密齿轮泵 + 单向进料阀连续进料套件-出料模块（2 选 1）三分出料器 +250ml 收集瓶 2 个 +4000ml 收集瓶 1 个在不放散真空的条件下可收集两个条件的清晰馏份重组分及轻组分高精密齿轮泵连续出料套件出料速度连续可调，出料精度 0.1Hz 的 产品应用领域油脂及食品 从食用油和鱼油中分离游离脂肪酸 从食用油和鱼油中脱除杀虫剂 甾醇的精制 浓缩单甘酯 浓缩鱼油酯中的 EPA 和 DHA 浓缩生育酚 浓缩胡萝卜素 干燥卵磷脂 从羊毛脂中脱除杀虫剂 羊毛脂颜色改进石化产品 从原油的减压渣油中分离微晶蜡 精制人工合成的以及石化产品的蜡 煤化工 费托合成蜡不同牌号蜡的切割聚合物 纯化和浓缩聚合物的单体 纯化和浓缩聚合物 脱除聚合物中的溶剂和单体化学、农化、医药产品 1, 4 丁二醇（BDO）精制 聚四氢呋喃醚（PTMEG）精制 多聚甲醛的精制 乳酸的纯化与精制 己内酰胺的提纯与蒸馏 浓缩和提纯二聚脂肪酸 从有机硅和有机硅树脂中脱除挥发组分 浓缩杀虫剂、除菌剂、除草剂 浓缩和提纯甘油 分馏和脱除天然蜡中的低沸点组分 异氰酸酯预聚体中游离的脱除（如 HDI,MDI） 脱除溶剂 除臭和去除农药残留 羊毛脂颜色改进 丙烯酸及丙烯酸酯的精制 医药中间体的蒸馏与精制 中药提取物有效成分的提纯 da麻二酚 (CBD) 的提纯香精和香料 提纯烟草提取物 烟用精油的提纯 脱除萜烯和浓缩精油 纯化香精香料中的芳香物质 浓缩柠檬香料 浓缩胡椒和辣椒提取物回收再循环 回收与精制废润滑油、刹车油、甘油和变压器油 回收和处理制药过程母液 回收有机中间体

仪器简介：真空蒸发系统减少样品体积，可用于农业化学、真菌学试验、和环境试验中。一次可处理多达110个样品；微处理器控制运动把暴沸的可能及样品损耗减至极小。当到达预定时间或样品接近干燥时，报警会响。型号26854-10 和 –15有一个盖子加热器，当蒸发高沸点溶剂时，可消除冷凝现象，改善可见度。随机配备： 3英尺1/2英寸内径真空软管, 2个软管夹, 盖子插座, 1个6 1/2英尺、3芯带插头的电源线。230 伏交流型号的包括一个 15安插头。需要蒸发试管架、真空泵、和样品试管，请单独订购。所有装置都有一个选件RS-232连线，以便您在电脑上设定参数。技术参数：2685405真空蒸发系统，230 伏交流，50/60 赫兹，3.5 安20.75英寸宽 x 13.5英寸高x 18.375英寸深工作电压：230 伏交流，50/60 赫兹，3.5 安最大温度100摄氏度最大真空度999毫巴定时器范围：1至999分钟主要特点：1000瓦加热器快速把样品烘干或加热到一个终馏点体积方便的、设定容易的编程，可存储最多9个程序使用一个理想的效力组合－涡流运动、加热、和真空度－加工多种样品在键区设定时间、加热、速度利用可编程特性，您可以在一个程序执行过程中，更改参数值。

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作，适用于研究开发及少量生产产品特性 / Product characteristics &bull 可搭载多样蒸发源（EB、电阻式、EB+电阻式）。&bull 对应不同制程可选多种基板holder（lift-off、行星式、卫星式等）。&bull φ2 in〜 6 in基板、矩形基板、Si、化合物、glass、陶瓷灯各种基板对应。&bull 液晶触控板集中现实操作。&bull 集成电脑拥有优异的操作性和性能（recipe功能、data-logging、maintenance assistant功能）。产品应用 / Product application&bull Power Device等化合物相关&bull LED、LD、高速device&bull 各种实验用&bull 其他各种电子部件产品参数 / Product parameters 1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

产品详情Denton 热蒸发溅射仪DV-502BDV-502B 高真空蒸发器平台DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。全球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。DV-502B系统在大气和高真空之间快速循环。DENTON 的高真空蒸发器平台&bull 样本准备&bull R & D&bull 批量生产&bull 内联生产&bull 蒸发&bull 溅射&bull PE-CVD DENTON 的区别你们的过程就是我们的过程。我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。&bull 我们的系统规模可以满足您的生产需求&bull 我们永远相信客户&bull 全球支持网络 在DENTON，我们关心你的成功&bull 专业安装可用的&bull 个性化培训可用&bull 实时支持&bull CE / UL / CSA兼容系统典型的应用蒸发&bull 用于TEM和x射线分析的高真空碳涂层&bull 碳支持电影&bull 碳铂副本&bull 孔清洗&bull 旋转跟踪&bull 石棉分析&bull 电阻蒸发&bull 故障分析&bull 高纯度超薄膜没有任何可见的污染为电子显微镜准备样品时。快速循环次数不到3分钟,dv - 502 b达到10 -?托干净,可以排除系统中使用一个标准的12“dia x 12“高钟罩。强大的控制系统PLC的触摸屏界面提供以下模式的完全控制:服务模式、手动模式和半自动模式。标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。安全联锁减轻了对操作者和设备的损害。各种各样的金属蒸发大部分用于光学涂层、金属化和电子显微镜样品制备的金属。常见的金属包括碳、金、金/钯和铂。多个泵配置各种泵的配置，可适用于您的预算和过程。 DV - 502B 选项

小型高真空不锈钢腔体热蒸发镀膜仪CY-EVP180G-HV本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪，蒸发温度从200℃到1700℃，采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。上盖装有可旋转的样品台，能够有效提高成膜的均匀度。仪器拥有高精度的温度控制系统，采用循环加热方式，能够稳定蒸发金属及有机物。采用不锈钢高真空腔体设计，配高精度分子泵，能够达到高真空要求，较高的真空度能够有效提升蒸发镀膜的效率及质量小型高真空热蒸发镀膜仪用途： 本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。

仪器简介：全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等；电子束蒸发系统：1.膜电子束蒸发系统E -Beam Evaporation System2.高真空电子束蒸发系统High Vacuum E -Beam Evaporation System3.超高真空电子束蒸发系统Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System4.离子辅助蒸发系统Ion Beam Assisted Evaporation System5.离子电镀系统Ion Plating System6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System7.在线电子束蒸发系统In-line E -Beam Evaporation System技术参数：1.电子束源&电源 单个或者可自由切换换电子束源： --蒸发室数量 1 ~ 12(标配: 4, 6) --坩埚容量：7 ~ 40 cc (最大可达200 cc) --标准：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) --最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于长时间的沉积 --偏转角度：180o, 270o --输出功率：6, 10, 15, 20 kW --支持两个或者三个电子束源在一个系统上 --可连续或者同时沉积两种或三种材料 --高速率沉积 2.薄膜沉积控制： IC-5 ( or XTC, XTM) 和计算机控制 --沉积过程参数可控 --石英晶体振荡传感器 --光学检测系统用于光学多层薄膜沉积：测量波长范围350-2000 nm，分辨率1 nm --薄膜厚度检测和处理过程可通过计算机程序控制 --薄膜厚度检测和沉积速率可通过计算机程序控制 --支持大面积沉积 --支持在线电子束蒸发沉积 --基底尺寸：20~100英寸 --薄膜均匀性 ±1.0 to 5.0 % 3.真空腔体： --圆柱形腔体 --直径：φ500 ~ 1,500 mm --高度：800 ~ 1500 mm --方形腔体 --根据客户的需求定制 4.真空泵和测量装置： --低真空：干泵和convectron真空规 --高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规 --超高真空：双级涡轮分子泵，离子泵和离子规 5.控制系统PLC和 触摸屏计算机： --硬件: PLC, 触摸屏计算机 --包括模拟和数字输入/输出卡 --显示器: LCD --自动和手动程序控制 --程序控制：加载，编辑和保存 --程序激活控制： --泵抽真空，蒸发沉积，加热， 旋转等 --膜厚度检测和控制多层薄膜沉积 --系统状态，数据加载等 --问题解答和联动状态扩展功能：1、质量流量控制器：反应和等离子体辅助惰性气体控制 2、离子源和控制器：等离子体辅助沉积 3、射频电源：基底预先处理 4、温度控制器：基底加热 5、热蒸发器：1 or 2 boat 6、蒸镀源cell：1 or 2 for doping 7、冷却器：系统冷却

US 8061 056 B2 革命性蒸发技术专利 采用独家自动放空技术Self-generated blow-down, 热冷同步双循环系统，轻组分加热旋转双重过程中，随产生的负压流动气流离心逃逸，同时被standby 密闭循环冷阱系统收集，设计巧妙静音高效，全过程无需真空泵无暴沸，完全密闭安全无泄漏，堪称蒸发技术革命。 非真空蒸发：冷热双循环，无低真空暴沸，样品无交叉污染损失。 毒性和放射性：溶剂蒸汽密闭安全回收、无有毒物损失，循环污染。 程序定时控温：预设蒸发时间，温控0 - 55℃，时间 0 - 1000 min。一键式操作：避免样品运行完全干燥，无需看管。节约成本。简便紧凑设计：静音低能耗，无需通风橱，直接置于试验台。美国技术产品合作 培安公司和专利持有者合作生产EVAPT 5 蒸发器，采用最新SBT 专利的蒸发/ 浓缩/ 干燥系统，为目前世界上功能最强的蒸发系统。培安公司永远秉持客户至上的理念，致力于浓缩系统的制造，为市场提供最新工艺的蒸发系统，其技术的先进性和产品的可靠性成为行业中的佼佼者。转子结构紧凑规格多样 EVAPT 5 蒸发/ 浓缩/干燥系统 占地面积仅有8"× 12"， 高18"，只需要很少的工作台、通风橱空间，可将其放置辐射室内。转子规格多样， 系统内可容纳6× 20ml 闪烁瓶；8× 1.6ml 微离心管；6× 16mm× 100mm 试管；8× 4ml (1 dram)样品瓶6× 30ml 闪烁瓶；4× 40ml 闪烁瓶；10× 1.5ml HPLC 样品瓶，转子可定制。应用范围 特别适用于生命科学、中西制药、合成化学、分析等领域，包括有毒化合物反应、放射性同位素物质、有机合成反应、RNA/DNA纯化、蛋白质浓缩、低温反应、色谱分析、HPLC 等样品快速浓缩。

【美国Organomation蒸发浓缩仪详细说明】美国Organomation平行蒸发仪、浓缩仪S-EVAP-KD系列：美国Organomation蒸发浓缩仪有多种型号可选：独立回收(5，8，10位)；中央回收(5，8位)可同时处理最多10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选；尺寸紧凑，最大限度节约您宝贵的实验台空间；真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，最大97%的溶剂回收效率；平行性好：样品处理条件高度一致，平行性极佳；无交叉污染：单独处理，不受外界污染；旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节；真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小 美国Organomation蒸发浓缩仪主要特点* 平行性好：样品处理条件高度一致，平行性极佳*样品处理量大：可同时处理最多10个不同样品，溶剂瓶125ml至1000ML多种规格可选*无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染* 氮吹功能：具有传统氮吹仪功能(氮吹型)* 真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，最大97%的溶剂回收效率* 2大系列6种型号：独立回收(5，8，10位)；中央回收(5，8，10位)* 可处理单个样品或同时处理多个样品，选择更加灵活*适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等* 旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节*真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统(选配)组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收最高沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用於回收沸点高达90℃的溶剂。装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全，该装置已通过了美国和加拿大最有权威的UL/CUL认证。 美国Organomation蒸发浓缩仪应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩在目前的大多数实验室中，操作人员经常需要使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。美国Organomation公司生产的S-EVAP-KD系列平行蒸发/浓缩仪即专为此设计：它可对最多10个样品进行单独或者集中密闭蒸发/浓缩，快速有效的回收溶剂，降低了多个样品的总蒸发时间，增加了处理量，显著节省了操作时间和实验资源，并且安装简便、使用灵活，可满足各种要求溶剂蒸发/浓缩的实验室需求。由于处理条件高度一致，因此平行性也更好。旋转型的溶剂回收装置提高了蒸发仪的灵活性，使操作更为方便，减少了实验室的占用空间。美国Organomation蒸发浓缩仪,平行蒸发仪,进口浓缩仪

仪器简介：包括：旋转蒸发器、真空蒸发器、离心浓缩系统等 有自动和手动定位方式，升降轻松、定位简单牢靠； 如果功率不足，标准电机自动将旋转瓶从水浴中抬升； 冷却器冷却效果卓越，浓缩回收稳定； 启动平稳，减少了液体喷洒的机会； 温度控制范围从20℃到180℃，多种规格可选； 旋转瓶容量从50ml 到 7L； 加热功率1440瓦； 底座、升降系统、玻璃部件以及浴锅等设计合理紧凑，占用空间少。

六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。产品型号六源有机无机联合蒸发镀膜设备主要特点1、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，最高烘烤加热温度为：室温～180℃，测温控温。2、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统： 真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa； 系统漏率≤1×10-7PaL/s。3、蒸发源系统： 有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw； 挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启； 安装：蒸发源安装在真空室的下底上。4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；样品架可旋转，旋转速度为：0～30转/分；安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜，蒸发源都带有挡板装置。7、 5、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；8、 6、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?。

美国Organomation平行蒸发/浓缩仪详细说明美国Organomation公司生产的S-EVAP-RB系列平行蒸发/浓缩仪集中密闭蒸发/浓缩，快速有效的回收溶剂，降低了多个样品的总蒸发时间，增加了处理量，显著节省了操作时间和实验资源，并且安装简便、使用灵活，可满足各种要求溶剂蒸发/浓缩的实验室需求。由于处理条件高度一致，因此平行性也更好。旋转型的溶剂回收装置提高了蒸发仪的灵活性，使操作更为方便，减少了实验室的占用空间。Organomation平行蒸发/浓缩仪有三种型号可选：独立回收(5，8，10位) 可同时处理最多10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选；平行性好：样品处理条件高度一致，平行性极佳；尺寸紧凑，最大限度节约您宝贵的实验台空间；适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等；真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，最大97%的溶剂回收效率；无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染；旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节； 真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小Organomation根据不同的需求可以将每一规格的基础型号做如下变动：-V：带真空系统和连接管；-N：带氮吹功能；-Z：内安全式、清扫式浴锅Organomation平行蒸发/浓缩仪整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统(选配)组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收最高沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用于回收沸点高达90℃的溶剂。圆形不锈钢水浴温度可调节并可控制，在30℃～100℃的温度范围内可准确保持恒定水温。装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全。可选用电子GFCI插头。该装置已通过了美国和加拿大最有权威的UL/CUL认证。Organomation平行蒸发/浓缩仪应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩。Organomation平行蒸发浓缩仪,平行蒸发/浓缩仪,进口蒸发/浓缩仪

用途：本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜。特 别适合小型企业、科研单位和高校使用。主要技术参数：1. 真空室： 300*300*550mm 方箱形；2. 样品尺寸：φ150mm（根据客户订制）；3. 样品台：水冷样品盘可旋转 0-60 转/分可调，样品台配独立挡板；4. 极限真空度：优于 6.67*10-5Pa 5. 抽气时间：大气压~8*10-4Pa 小于 30min；6. 蒸发：二套蒸发源配一套 2KW 电源（一套可切换）；7. 开启方式：前面开启门设计，便于换丝及装料；8. 真空系统：机械泵+分子泵；9. 膜厚测量仪：进口英福康 SQM160，含探头一套。设备结构介绍：该设备由真空室、真空机组和电气系统组成。1. 真空室方箱形腔体前开门侧面抽气结构，304 不锈钢材质，配φ100 观察窗，方便更换蒸发材料（含防污挡板）、预抽接口、充气接口；内部有底板、蒸发源（三组蒸发源相互隔离避免交叉污染），蒸发源上配有独立自动挡板装置等；2. 真空系统采用莱宝450i分子泵+8L机械泵。采用真空波纹管连接，配有复合式数显真空测量仪表。3. 电气系统电气系统包括真空机组控制、蒸发与烘烤控制、真空测量控制等部分组成。有安全互锁机构，有效防止误操作发生。系统配有 2 套蒸发电源（一套可切换），通过切换选择上电。4. 膜厚测量装置：采用石英晶振膜厚仪及水冷探头一套。5. PLC+触摸屏控制系统，可实现一键抽真空，一键关机。

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

Multivapor P-12是一台可在真空条件下对多达 12 个样品进行平行蒸发的小型仪器，可优化现有个人操作流程。若与Rotavapor旋转蒸发仪配套使用，将如虎添翼，功能更强，而且占用空间小。即使没有Rotavapor旋转蒸发仪，Multivapor P-12本身也不失为个人操作的好帮手。 Rotavapor组合装置扩大协同，减少占用空间。 在大多数实验室中，操作人员经常使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。Multivapor P-12即专为此设计：它可对多达12个样品单独密封并进行处理，并将蒸汽转移到旋转蒸发仪的冷凝器装置中，从而提高了Rotavapor旋转蒸发仪的灵活性，降低了多个样品的总蒸发时间，显著节省了时间与资源，减少了占用空间。 Multivapor P-12全面独立的台式解决方案：Multivapor P-12包括一个外围真空源，并带有控制器。将温度探头（选装件）垂直插入盘管冷凝器，再配以精密V-855真空控制器，通过自动调节，即可自动蒸馏多达12个复杂溶剂混合物样品。 主要特点- 节省时间：一次处理12个样品- 扩大协同，降低成本：一个冷凝器和真空装置即可用于两台仪器。- 减小占用空间：一次处理12 个样品只需额外增加 26 x 40 cm 的空间- 单独密封，无交叉污染- 全面解决方案：Multivapor、温度分步探头、泵和控制器协同工作- 只需很少的照看：几乎无需对仪器进行干预- 与氮吹仪相比，真空蒸发符合ISO 14000的规定以及环保要求 技术参数功耗 600 W 电气要求 100~240 V，50~60 Hz 温度范围 室温至95℃温度偏差 ±3℃旋转速度 20~485 rpm 试管尺寸 内径16~30 mm，长110~170 mm 与样品接触的材料 PETP（或PEEK）、PTFE、PFA、玻璃

仪器简介：Multivapor P-6 是一台可在真空条件下对多达 6个样品进行平行蒸发的小型仪器，可优化现有个人操作流程。若与 Rotavapor 旋转蒸发仪配套使用，将如虎添翼，功能更强，而且占用空间小。即使没有 Rotavapor 旋转蒸发仪，MultivaporTM P-6 本身也不失为个人操作的好帮手。 Rotavapor 组合装置 扩大协同，减少占用空间 在大多数实验室中，操作人员经常使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。MultivaporTM P-6 即专为此设计：它可对多达 6 个样品单独密封并进行处理，并将蒸汽转移到旋转蒸发仪的冷凝器装置中，从而提高了 Rotavapor 旋转蒸发仪的适用性，降低了多个样品的总蒸发时间，显著节省了时间与资源，减少了占用空间。 MultivaporTM P-6 全面独立的台式解决方案 MultivaporTM P-6 包括一个外围真空源，并带有控制器。将温度探头（选装件）垂直插入盘管冷凝器，再配以精密 I-300/I-300 Pro真空控制器，通过自动调节，即可自动蒸馏多达 6 个复杂溶剂混合物样品。 技术参数：功耗：800 W 电气要求 100-240 V，50-60 Hz 温度范围：室温至95℃ 温度偏差：+/-3 ℃ 旋转速度：0-370 rpm样品处理量：0-150 ml 与样品接触的材料 PETP（或 PEEK）、PTFE、PFA、玻璃 主要特点：节省时间：一次处理 6 个样品 扩大协同，降低成本：一个冷凝器和真空装置即可用于两台仪器。 减小占用空间：一次处理 6 个样品适合大样品处理量 单独密封，无交叉污染 全面解决方案：Multivapor 、温度分步探头、泵和控制器协同工作 只需很少的照看：几乎无需对仪器进行干预 与氮吹仪相比，真空蒸发符合 ISO 14000的规定以及环保要求。

仪器简介：Multivapor P-12 是一台可在真空条件下对多达 12 个样品进行平行蒸发的小型仪器，可优化现有个人操作流程。若与 Rotavapor 旋转蒸发仪配套使用，将如虎添翼，功能更强，而且占用空间小。即使没有 Rotavapor 旋转蒸发仪，Multivapor&trade P-12 本身也不失为个人操作的好帮手。 Rotavapor 组合装置 扩大协同，减少占用空间 在大多数实验室中，操作人员经常使用几台旋转蒸发仪来处理不断增加的样品数量。MultivaporTM P-12 即专为此设计：它可对多达 12 个样品单独密封并进行处理，并将蒸汽转移到旋转蒸发仪的冷凝器装置中，从而提高了 Rotavapor 旋转蒸发仪的灵活性，降低了多个样品的总蒸发时间，显著节省了时间与资源，减少了占用空间。 MultivaporTM P-12 全面独立的台式解决方案 MultivaporTM P-12 包括一个外围真空源，并带有控制器。将温度探头（选装件）垂直插入盘管冷凝器，再配以精密I-300/I-300 Pro 真空控制器，通过自动调节，即可自动蒸馏多达 12 个复杂溶剂混合物样品。技术参数：功耗：800 W 电气要求：100-240 V，50-60 Hz 温度范围：20-95℃ 温度偏差: ±3℃ 旋转速度：0-485 rpm 试管尺寸：内径：16-30 mm，长：110-170 mm 与样品接触的材料 PETP（或 PEEK）、PTFE、PFA、玻璃主要特点：节省时间：一次处理 12 个样品 扩大协同，降低成本：一个冷凝器和真空装置即可用于两台仪器。 减小占用空间：一次处理 12 个样品只需额外增加 26 x 40 cm 的空间 单独密封，无交叉污染 全面解决方案：Multivapor 、温度分步探头、泵和控制器协同工作 只需很少的照看：几乎无需对仪器进行干预 与氮吹仪相比，真空蒸发符合 ISO 14000的规定以及环保要求。

一、 产品简介 KORVUS HEX系列PVD真空镀膜系统采用开放式架构，高度模块化，能够提供多种沉积选项。基于基础系统，通过配置不同的模块，可以在一台设备上同时实现真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。这种独特设计操作简单，易于安装，为科研人员提供了一个非常具有成本效益的解决方案。二、 产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小三、 主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，旋转加热台、水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2四、主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件 五、 PVD热源简介（1） FISSION磁控溅射源 Fission磁控溅射源能够快速、无污染地沉积金属或介电薄膜。水冷和气体连接采用快速释放连接器，并消除了每次从腔室中移除源时排放冷却水的危险和不便。Fission 源可以在 DC 模式和 RF 模式下运行。可以引入气体，允许在靶材表面附近实现更高的分压，从而降低沉积过程中所需的整体腔室压力。磁控溅射可用于溅射所有（固体）金属、绝缘体和半导体。可以在一个系统中使用多个来源以生长多层或复合材料薄膜- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 TAU 蒸发源非常小巧，无需使用光束弯曲的电磁铁。TAU可以直接轰击靶材棒，也可以轰击位于坩埚里金属材料。TAU 仅被推荐用于厚度从亚原子厚度到 200 纳米的金属薄膜蒸镀。- 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源 材料在低温 (50-600℃) 下的蒸发需要设计为在此范围内运行的专用热源。传统的蒸发源可在 1000℃ 的温度下最有效地运行，这要求将传导热损失保持在最低水平。在较低温度下，辐射损耗显着降低，传统电池中的控制回路会出现过冲和缓慢的温度变化。 ORCA 低温蒸发源采用主动冷却坩埚，以确保加热过程与强烈的反向冷却过程相平衡，从而实现出色的温度稳定性和控制。 坩埚由高导热材料制成，确保不会出现会影响蒸发速率的热点。可选地，可以使用氧化铝或石墨材料。移除/更换坩埚非常简单。 K 型热电偶插入坩埚主体，与典型的接触式布置相比，可提供更准确的读数。该沉积源可与电子束源、热蒸发源或溅射源结合使用。采用冷却的屏蔽帽将热串扰保持在最低限度。- 坩埚容积：15cc- 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源 热蒸发不需要工艺气体，因此该工艺可以在非常高的真空条件下进行，极少的杂质会被沉积到薄膜之中。热蒸发可以很方便补充要蒸发材料。材料可以是颗粒、粉末或涂层线圈/细丝的形式。蒸发皿和灯丝也可以轻松高效地进行更换。每个源都可以配备手动或自动快门。HEX 腔室最多可容纳三个源，HEX-L 最多可容纳六个。这些热源还可以与其他技术结合使用，例如溅射、电子束沉积和低温有机物沉积源。- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW） 六、 样品台简介 七、 操作软件简介 八、 快速降压及配件展示 九、 手套箱集成展示 Korvus Technology 在高真空和超高真空领域拥有 超过 20 年的经验。Korvus Technology 在全球安装 了 100 多个 HEX 系列系统，始终处于 PVD 行业的 前沿。Korvus 现在是 Judges Scientific 集团的一部 分，同时仍然是一家独立运营公司。这使得 Korvus 能够灵活应对客户的研究挑战，并延续其以客户为 中心的文化。

一、 产品简介 KORVUS HEX系列PVD真空镀膜系统采用开放式架构，高度模块化，能够提供多种沉积选项。基于基础系统，通过配置不同的模块，可以在一台设备上同时实现真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。这种独特设计操作简单，易于安装，为科研人员提供了一个非常具有成本效益的解决方案。二、 产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小三、 主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，旋转加热台、水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2四、主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件 五、 PVD热源简介（1） FISSION磁控溅射源 Fission磁控溅射源能够快速、无污染地沉积金属或介电薄膜。水冷和气体连接采用快速释放连接器，并消除了每次从腔室中移除源时排放冷却水的危险和不便。Fission 源可以在 DC 模式和 RF 模式下运行。可以引入气体，允许在靶材表面附近实现更高的分压，从而降低沉积过程中所需的整体腔室压力。磁控溅射可用于溅射所有（固体）金属、绝缘体和半导体。可以在一个系统中使用多个来源以生长多层或复合材料薄膜- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 TAU 蒸发源非常小巧，无需使用光束弯曲的电磁铁。TAU可以直接轰击靶材棒，也可以轰击位于坩埚里金属材料。TAU 仅被推荐用于厚度从亚原子厚度到 200 纳米的金属薄膜蒸镀。- 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源 材料在低温 (50-600℃) 下的蒸发需要设计为在此范围内运行的专用热源。传统的蒸发源可在 1000℃ 的温度下最有效地运行，这要求将传导热损失保持在最低水平。在较低温度下，辐射损耗显着降低，传统电池中的控制回路会出现过冲和缓慢的温度变化。 ORCA 低温蒸发源采用主动冷却坩埚，以确保加热过程与强烈的反向冷却过程相平衡，从而实现出色的温度稳定性和控制。 坩埚由高导热材料制成，确保不会出现会影响蒸发速率的热点。可选地，可以使用氧化铝或石墨材料。移除/更换坩埚非常简单。 K 型热电偶插入坩埚主体，与典型的接触式布置相比，可提供更准确的读数。该沉积源可与电子束源、热蒸发源或溅射源结合使用。采用冷却的屏蔽帽将热串扰保持在最低限度。- 坩埚容积：15cc- 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源 热蒸发不需要工艺气体，因此该工艺可以在非常高的真空条件下进行，极少的杂质会被沉积到薄膜之中。热蒸发可以很方便补充要蒸发材料。材料可以是颗粒、粉末或涂层线圈/细丝的形式。蒸发皿和灯丝也可以轻松高效地进行更换。每个源都可以配备手动或自动快门。HEX 腔室最多可容纳三个源，HEX-L 最多可容纳六个。这些热源还可以与其他技术结合使用，例如溅射、电子束沉积和低温有机物沉积源。- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW） 六、 样品台简介 七、 操作软件简介 八、 快速降压及配件展示 九、 手套箱集成展示 Korvus Technology 在高真空和超高真空领域拥有 超过 20 年的经验。Korvus Technology 在全球安装 了 100 多个 HEX 系列系统，始终处于 PVD 行业的 前沿。Korvus 现在是 Judges Scientific 集团的一部 分，同时仍然是一家独立运营公司。这使得 Korvus 能够灵活应对客户的研究挑战，并延续其以客户为 中心的文化。

一、 产品简介 KORVUS HEX系列PVD真空镀膜系统采用开放式架构，高度模块化，能够提供多种沉积选项。基于基础系统，通过配置不同的模块，可以在一台设备上同时实现真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。这种独特设计操作简单，易于安装，为科研人员提供了一个非常具有成本效益的解决方案。二、 产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小三、 主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，旋转加热台、水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2四、主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件 五、 PVD热源简介（1） FISSION磁控溅射源 Fission磁控溅射源能够快速、无污染地沉积金属或介电薄膜。水冷和气体连接采用快速释放连接器，并消除了每次从腔室中移除源时排放冷却水的危险和不便。Fission 源可以在 DC 模式和 RF 模式下运行。可以引入气体，允许在靶材表面附近实现更高的分压，从而降低沉积过程中所需的整体腔室压力。磁控溅射可用于溅射所有（固体）金属、绝缘体和半导体。可以在一个系统中使用多个来源以生长多层或复合材料薄膜- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 TAU 蒸发源非常小巧，无需使用光束弯曲的电磁铁。TAU可以直接轰击靶材棒，也可以轰击位于坩埚里金属材料。TAU 仅被推荐用于厚度从亚原子厚度到 200 纳米的金属薄膜蒸镀。- 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源 材料在低温 (50-600℃) 下的蒸发需要设计为在此范围内运行的专用热源。传统的蒸发源可在 1000℃ 的温度下最有效地运行，这要求将传导热损失保持在最低水平。在较低温度下，辐射损耗显着降低，传统电池中的控制回路会出现过冲和缓慢的温度变化。 ORCA 低温蒸发源采用主动冷却坩埚，以确保加热过程与强烈的反向冷却过程相平衡，从而实现出色的温度稳定性和控制。 坩埚由高导热材料制成，确保不会出现会影响蒸发速率的热点。可选地，可以使用氧化铝或石墨材料。移除/更换坩埚非常简单。 K 型热电偶插入坩埚主体，与典型的接触式布置相比，可提供更准确的读数。该沉积源可与电子束源、热蒸发源或溅射源结合使用。采用冷却的屏蔽帽将热串扰保持在最低限度。- 坩埚容积：15cc- 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源 热蒸发不需要工艺气体，因此该工艺可以在非常高的真空条件下进行，极少的杂质会被沉积到薄膜之中。热蒸发可以很方便补充要蒸发材料。材料可以是颗粒、粉末或涂层线圈/细丝的形式。蒸发皿和灯丝也可以轻松高效地进行更换。每个源都可以配备手动或自动快门。HEX 腔室最多可容纳三个源，HEX-L 最多可容纳六个。这些热源还可以与其他技术结合使用，例如溅射、电子束沉积和低温有机物沉积源。- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW） 六、 样品台简介 七、 操作软件简介 八、 快速降压及配件展示 九、 手套箱集成展示 Korvus Technology 在高真空和超高真空领域拥有 超过 20 年的经验。Korvus Technology 在全球安装 了 100 多个 HEX 系列系统，始终处于 PVD 行业的 前沿。Korvus 现在是 Judges Scientific 集团的一部 分，同时仍然是一家独立运营公司。这使得 Korvus 能够灵活应对客户的研究挑战，并延续其以客户为 中心的文化。

S-EVAP-RB系列平行蒸发仪一、仪器介绍：平行蒸发仪整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统（选配）组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用于回收沸点高达90℃的溶剂。圆形不锈钢水浴温度可调节并可控制，在30℃～100℃的温度范围内可准确保持恒定水温。 装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全。可选用电子GFCI插头。该装置已通过了美国和加拿大UL/CUL认证。 二、应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩。 三、主要特点： 三种型号可选：独立回收（5，8，10位） 可同时处理10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选； 平行性好：样品处理条件高度一致，平行性很好； 尺寸紧凑， 适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等； 真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，97%的溶剂回收效率； 无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染； 旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节； 真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小 四、技术参数：技术规格： S-EVAP-RB独立回收系列样品位数 8 5 10 仪器尺寸(W×D×H) 61×56×76cm 61×56×76cm 66×61×76cm 玻璃器具套装* GS2162 GS2163 GS2162 A：溶剂瓶平底圆形烧瓶250ml 平底圆形烧瓶500ml 平底圆形烧瓶250ml B：冷凝管Inverted Hopkins冷凝管375mm C：收集瓶平底圆形烧瓶250ml 平底圆形烧瓶500ml 平底圆形烧瓶250ml *玻璃器具套装包括A、B、C三种玻璃器具加热系统内部尺寸（直径×深度）30.5×11.5cm 30.5×11.5cm 40.6×11.5cm 外部尺寸（D×H） 41×18cm 41×18cm 48×15cm 功率（W） 1000 1000 1400 温控类型机械调温 机械调温 数控、LED显示温度范围（℃） 30-100 控温精度（℃） ±2 ±2 ±0.5 真空系统装置：-V可选可选 不可选带氮吹功能：-N可选可选 可选内安全式、清扫式浴锅：-Z可选可选 可选

产品简介：美国Organomation公司创办于1959年，是一家创新型技术公司，累积五十多年的样品前处理设备制造经验。Organomation公司生产出的实验室分析仪器以其创新的设计，优良的品质和实用的效果在全球享有很高的声誉。S-EVAP-RB系列平行蒸发/浓缩仪集中密闭蒸发/浓缩，快速有效的回收溶剂，降低了多个样品的总蒸发时间，增加了处理量，显著节省了操作时间和实验资源，并且安装简便、使用灵活，可满足各种要求溶剂蒸发/浓缩的实验室需求。由于处理条件高度一致，因此平行性也更好。旋转型的溶剂回收装置提高了蒸发仪的灵活性，使操作更为方便，减少了实验室的占用空间。整套装置由水浴加热系统、溶剂回收系统、真空系统(选配)组成。溶剂回收系统直立于底座之上，并可自由旋转，操作者可以方便的安装或者取下装置背面的样品。溶剂瓶置于水浴加热系统之中，可直接用于回收最高沸点为65℃的溶剂，配合专用真空系统后可用于回收沸点高达90℃的溶剂。圆形不锈钢水浴温度可调节并可控制，在30℃～100℃的温度范围内可准确保持恒定水温。装置带有水位控制器、高温限制开关和故障电路中断器，确保实验中的使用安全。可选用电子GFCI插头。该装置已通过了美国和加拿大最有权威的UL/CUL认证。应用领域：主要用于化工、医药、生物、环保、检测或其它行业中样品的蒸发浓缩。技术特点：1)三种型号可选：独立回收(5，8，10位) ；2)可同时处理最多10个样品，溶剂瓶250ml和500ml两种规格可选；3)平行性好：样品处理条件高度一致，平行性好；4)尺寸紧凑，节约您宝贵的实验台空间；5)适合用于各种溶剂蒸发的实验，尤其是浓酸、浓碱、油脂类样品等；6)真空浓缩：选配真空系统用以回收沸点高达90℃的溶剂，*97%的溶剂回收效率；7)无交叉污染：回收瓶中的溶剂可单独密闭处理，不被外界污染；8)旋转型的设计，方便样品的换取，底部装有环形弹簧支撑装置，可方便升降支架上下调节；9)真空蒸发/浓缩符合ISO14000的规定以及环保要求，对环境影响更小。技术规格：S-EVAP-KB中央回收系列Cat No858仪器尺寸(W×D×H)61×56×76cm61×56×76cm66×61×76cm玻璃器具套装*GS2162GS2163GS2162A：溶剂瓶平底圆形烧瓶250ml平底圆形烧瓶500ml平底圆形烧瓶250mlB：冷凝管Inverted Hopkins冷凝管260mmC：收集管平底圆形烧瓶250ml平底圆形烧瓶500ml平底圆形烧瓶250ml*玻璃器具套装包括A、B、C、D四种玻璃器具加热系统内部尺寸（直径×深度）30.5×11.5cm40.6×11.5cm外部尺寸（D×H）41×18cm48×15cm*功率（W）100010001400温控类型机械调温机械调温数控、LED显示温度范围30-100℃控温精度±2℃±0.5℃

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的卓越设备。1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用专用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：140-200mm11、冷却水需量：15L/min12、样品台加热温度：室温～500℃，可自动控温，测温产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的卓越设备。1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用专用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：140-200mm11、冷却水需量：15L/min12、样品台加热温度：室温～500℃，可自动控温，测温产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的首选设备。1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1&angst 。7、可使用循环水冷机。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：Ø 300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：Ø 100mm，采用专用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：140-200mm11、冷却水需量：15L/min12、样品台加热温度：室温～500℃，可自动控温，测温产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权，效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。适用于EDS样品制备；EBSD样品制备；MLA系统样品制备；其它需要制备碳膜的领域。全自主支持产权效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀应用领域：1、EDS样品制备2、EBSD样品制备3、MLA系统样品制备4、其它需要制备碳膜的领域技术参数：人机界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏蒸发源高纯碳纤维（选配碳棒）蒸发源数量1-4根（更多请咨询厂家）工作模式连续、脉冲操作方式全自动一键操作真空系统涡轮分子泵+旋片泵极限真空≤5E-3Pa工作真空＜0.1Pa抽气节拍＜3分钟真空室~φ170×130mm其它样品台旋转、样品温度检测、蒸发除气等

德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空 可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSphere加强型-近超高真空 我公司专业销售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品，并提供产品的售前售后服务，如您对高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品感兴趣，欢迎前来咨询！

仪器简介：此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝泵）。多种组合沉积模式，同一腔体实现多种功能沉积方式，沉积源模式有:磁控溅射源Sputter source电子束蒸发E-beam SourcesK-cell蒸发热蒸发Thermal sources氧化物源Oxide sources此系统高度灵活，软件操作方便，专业为研究机构沉积超纯度薄膜，真正的高真空沉积系统。The System is designed to be a highly flexible system for thin-film research in ultra pure conditions. The system can be configured to be true-UHV and allows for multiple deposition component options. 感谢中科院上海应用物理研究所上海光源同步实验部用此设备，为广大专业研究人员提供服务！！上海光源同步实验部配置的是磁控溅射（直流和射频均有）和电子束蒸发的组合功能，膜厚均匀性(镀膜500纳米左右厚度)均达到3%，这种组合系统极大地扩展了沉积功能，性能价格比超高，是研究人员的有力工具！！使用此系统的主要用户还有：中国计量院，吉林大学，中国科技大学，中北大学等技术参数：顶部法兰: 12”Radial ports：4 x NW100CF沉积接口: 5 x NW100CF, 4 x NW35CF分子泵: 300ls , 500 ls options样品操作: Quick-open top-lid.极限真空: 5x 10E-10 (24小时烘烤)机柜: Low footprint frame on transport casters样品台操控: Rotation, heating, bias样品操作: Load-Lock （可选）Sample size样品尺寸: 1”, 2”, 3”, 4” ，大到8”，12”等膜厚监控: QCM, Ellipsometry烘烤: Internal or jacket全自动软件操作，方便简单：Automation Touch screen pump down and process automation系统尺寸:Width: 1.5mHeight: 1.6mLength (standard): 1.3mLength: (with Loadlock): 2.0m主要特点：Top-loading chamber (500mm直径)超高真空匹配接口多种沉积源模式接口Analysis, load-lock and viewing ports多种样品夹具， 样品台可旋转，加热/冷却，DC/RF偏压 多种沉积源模式:包括 high-rate e-beam, low-rate (high accuracy) e-beam, DC and RF sputtering, thermal, K-cell,oxide sources.

仪器介绍平行真空浓缩蒸发仪是一台在真空条件下对大批量样品快速、平行浓缩、蒸发到特定体积的小型仪器。该产品应用于环境分析和农药残留分析等大批量样品的浓缩。如色谱蒸馏的蒸发，平行萃取液的蒸发，质量控制的重量分析，平行反应产物的蒸发。将推出平行合成反应系统。 主要特点1.操作方便，蒸发过程可视化。2.一次可以处理12个样品，效率高。3.每个样品都有独立的密封，不存在交叉污染。4.通过同时加热／摇动／抽真空，浓缩速度快。5.有梯度温度控制系统，无需操作人员看管。6.不需要用氮气，节省实验室空间。7.溶剂可以冷凝回收，回收率高，不会排放到室内或环境中造成污染。8.定量浓缩固定体积（0.5mL/1mL）后浓缩自动停止，无须人员在旁监测。 体积小巧，可置于通风橱中操作 梯度压力控制 安装效果对比图，使用平行浓缩蒸发仪节省大量实验室空间。技术参数转速 0-500r/min离心率 5mm温度范围 室温+5℃-100℃温控精度 ±0.5℃定量 0.5或1ml定量浓缩单次处理样品量 12个*120ml总功率 1500w重量 32kg外形尺寸 510*380*450mm配套装置指南标配：主机一台选配：冷却水循环泵、真空控制系统

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。