电镀膜厚仪

深圳电镀膜厚测试镀层厚度检测镀层分析安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

上海镀层厚度检测丨电镀膜厚测试丨镀层分析行业安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更全面、更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

XTD-200是一款专用于检测各种异形件，特别适用于五金类模具、卫浴产品、线路板以及高精密电子元器件表面处理的成分和厚度分析。该系列仪器不但可以应对平面、微小样品的检测，在面对凹槽曲面深度0-90mm以内的异形件具备巨大的优势；搭载全自动可编程移动平台，无人值守，便可实现多样品的自动检测。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。产品优势：先进的EFP算法：多层多元素、各种元素及有机物，甚至有同种元素在不同层也可准确测量上照式设计：实现可对大型工件进行快、准、稳高效率测量自动对焦：高低大小样品可快速清晰对焦变焦装置算法：可对0-90mm深度的凹槽高低落差件直接检测小面积测量：测量面积小至0.002mm2可编程自动位移：选配自动平台，X210*Y230*Z145mm行程内无人值守自动测量● 自动、智能、在线检测自动：可编程自动位移平台，无人值守、自动检测样品；一次编程便可实现成百上千个样品点的高效检测智能：实现自动AI影像智能寻点，编程档案自动匹配测试位置，在面对大批同类型样品检测时，具备明显的优势在线：根据客户要求可个性化定制产线在线式检测，为工业4.0提供在线检测整体解决方案，提高检测效率，实现全自动智能化工厂1.元素分析范围：氯（Cl）- 铀（U）2.涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）3.厚度检出限：0.005μm4.成分检出限：1ppm5. 测量直径小至0.05mm（最小测量面积0.002mm2）6.对焦距离：0-90mm7.样品腔尺寸：530mm*570mm*150mm8.仪器尺寸：760mm*550mm*635mm9.仪器重量：120KG广泛应用于半导体行业、新能源行业、5G通讯、五金建材、航空航天、环保行业、汽车行业、卫浴装饰、精密电子、电镀行业等多种领域。选择一六仪器的四大理由：1.一机多用，无损检测2.测量面积小至0.002mm23.可检测凹槽0-90mm的异形件4.轻元素，重复镀层，同种元素不同层亦可检测

真空镀膜厚度仪金属镀层测厚仪是一种用于精确测量金属镀层厚度的仪器，它对于镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料的质量控制具有重要意义。该仪器采用电阻法作为检测原理，通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。 金属镀层测厚仪主要由测量探头、测量电路和数据处理系统三部分组成。测量探头通过与被测样品表面接触来获取电阻值，其内部结构通常包括一对电极和测量线路，用于测量样品的电阻值。测量电路则将探头测得的电阻值转化为可读的数据，并将其传输到数据处理系统进行处理。 在测量镀铝膜、真空镀膜和镀铝纸等材料时，金属镀层测厚仪能够对其表面和底层的电阻值进行精确测量。由于不同金属材料的电阻率不同，因此可以通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。具体来说，金属镀层测厚仪会根据样品的电阻值变化来计算出金属镀层的厚度，并将结果以数字或图表的形式显示出来。 金属镀层测厚仪具有高精度、高分辨率和高灵敏度的优点，能够准确地测量出金属镀层的厚度，从而为生产厂家提供可靠的质量保证。同时，该仪器还具有操作简单、使用方便的特点，能够满足工业生产中对快速、简便测量的需求。 金属镀层测厚仪的优点还包括其非破坏性测量方式，即不会对被测样品造成损害。这使得生产厂家可以在生产过程中进行在线测量，及时发现并解决问题，大大提高了生产效率和产品质量。此外，金属镀层测厚仪还可以通过计算机接口实现数据共享和远程控制，提高了测量的自动化程度和便捷性。 金属镀层测厚仪是一种高精度、高分辨率、高灵敏度的仪器，采用电阻法检测原理，能够准确地测量出镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料金属镀层的厚度。它具有操作简单、使用方便和非破坏性测量等优点，适用于工业生产中的在线测量，能够提高生产效率和产品质量。 技术参数 厚度测量范围 厚度50-570&angst 方块电阻测量范围 0.5-5Ω 方块电阻测量误差 ±1% 样品尺寸 100×100mm 夹样精度 ±0.1mm 测温范围 0～50℃，精度±1℃ 外形尺寸 370mm×330mm×450mm （长宽高） 重 量 19kg 工作温度 23℃±2℃ 相对湿度 80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 真空镀膜厚度仪此为广告

国产膜厚仪 电镀测厚仪 1.微小样品检测：小测量面积0.03mm² （加长测量时间可小至0.01mm² ）2.变焦装置算法：可改变测量距离测量凹凸异形样品，变焦距离可达0-30mm3.EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂镀层，多层多元 素，甚至有同种元素在不同层也可准测量。 4.先进的解谱技术：减少能量相近元素的干扰，降低检出限。 5.高性能探测器【详细说明】国产膜厚仪 电镀测厚仪 性能优势：1.微小样品检测：小测量面积0.03mm2（加长测量时间可小至0.01mm2）2.变焦装置算法：可改变测量距离测量凹凸异形样品，变焦距离可达0-30mm3.先进的EFP算法：Li(3)-U(92)元素的涂镀层，多层多元 素，甚至有同种元素在不同层也可准测量。 4.先进的解谱技术：减少能量相近元素的干扰，降低检出限。 5.高性能探测器：SDD硅漂移窗口面积25mm2探测器。 6.X射线装置：微焦加强型射线管搭配聚焦装置。 一六仪器研制的测厚仪独特的光路交换装置，让X射线和可见光摄像同一垂直线，达到视觉与测试定位一体，且X光扩散度小；与EFP软件配合达到对焦、变焦双焦功能，实现高低、凹凸不平各种形状样品的测试；高集成的光路交换装置与接收器的角度可缩小一倍，可以减少弧度倾斜放样带来的误差，同时特征X射线可以穿透测试更厚的表层。 国产膜厚仪 电镀测厚仪 先进的EFP算法专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上，计算样品中每个元素的一次荧光、二次荧光、靶材荧光、吸收增强效应、散射背景等多元优化迭发出EFP核心算法，结合先进的光路转换技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统，只需要少量的标样来校正仪器因子，可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。RoHS检测及标定

PCB板材膜厚仪电镀层测厚仪XTU 系列测厚仪虽然结构紧凑，但是都有大容量的开槽设计样品腔，即使超过样品腔尺寸的工件也可以测试。搭配微聚焦射线管和先进的光路设计，及变焦算法装置，可测试极微小和异形样品。检测78种元素镀层· 0.005um检出限· 小测量面积0.002mm2· 深凹槽可达90mm。外置的高精密微型滑轨，可以快速控制样品移动，移动精度0.005mm，速度10-30mm（X-Y）/圈，PCB板材膜厚仪电镀层测厚仪应用领域 线路板、引线框架及电子元器件接插件检测 镀纯金、K金、铂、银等各种饰品的膜层成分和厚度分析 手表、精密仪表制造行业 钕铁硼磁铁上的Ni/Cu/Ni/FeNdB 汽车、五金、电子产品等紧固件的表面处理检测 卫浴产品、装饰把手上的Cr/Ni/Cu/CuZn(ABS) 电镀液的金属阳离子检测 项 目参 数测量元素范围Cl（17）-U（92）涂镀层分析范围各种元素及有机物分析软件EFP，可同时分析23层镀层，24种元素，不同层有相同元素也可分析软件操作人性化封闭软件，自动提示校正和步骤，避免操作错误X射线装置W靶微聚焦加强型射线管准直器? 0.05 mm 0.1 mm 0.2 mm 0.5 mm；准直器任意选择一种近测距光斑扩散度10%测量距离具有距离补偿功能，可改变测量距离，能测量凹凸异型样品，变焦距离0-30mm(特殊要求可以升级到90mm)样品观察1/2.5彩色CCD，变焦功能对焦方式高敏感镜头，手动对焦放大倍数光学38-46X，数字放大40-200倍样品台尺寸500mm*360mm移动方式高精密XY手动滑轨可移动范围50mm*50mm随机标准片十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um其它附件联想电脑一套、喷墨打印机、附件箱 无损天瑞X荧光光谱镀层膜厚检测仪，天瑞镀层测厚仪

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电池等产品的滚动涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于电池等产品也有较好的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性。

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医疗器械等产品的立式固定涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于磁性材料、电路板等产品也有较理想的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性

膜厚仪EDX-8000T 型XRF镀层测厚仪/电镀液分析仪Simply The Best垂直光路设计，专为镀层厚度分析而设计高分辨率硅针检测器 (Si-pin) ，适合于多元素镀层的高灵敏度分析，比起传统的封气正比计数器，Si-pin探测器具有更佳分辨率、更低的背景噪声（最高 S/N 比）长期稳定性以及更长的使用寿命工业级高清样品观测系统，精确的点位测量功能有助于提高测量精度易于使用，新型用户界面专为非XRF专家用户设计。直观而整洁，只需点击鼠标即可进行正确的分析背景介绍人们在同腐蚀作斗争中，采取了许多行之有效的措施，电镀就是其中的重要手段之一，电镀能提高金属零件在使用环境中的抗蚀性能；装饰零件的外表，使其光亮美观；提高零件的工作性能，如硬度，耐磨，导电性，电磁性、耐热性，钎焊性及其他特殊性能。英飞思开发的EDX8000T 镀层测厚仪是专门针对于镀层材料成分分析和镀层厚度测定。其主要优点是测试速度快：检测时间快，数秒内可完成检测，可在短时间内进行大量样品测试测试再现性佳：不会因不同人员测试同一样品产生手法差异分析结果异同，相较湿式化学分析较受前处理因素同时分析多元素：一次检测电镀液内的所有金属成分，无元素检测限制。非破坏性检测：样品内若有贵重成分，检测完成后均可回收无复杂样品前处理：不需专业实验室与操作人员及复杂的前处理检测浓度弹性：标准液可根据被测溶液浓度灵活调整，无固定浓度要求膜厚仪EDX8000T 应用场景测量的对象包括镀层、敷层、贴层、涂层、化学生成膜等可测量离子镀、电镀、蒸镀、等各种金属镀层的厚度镀铬，例如带有装饰性镀铬饰面的塑料制品钢上锌等防腐涂层贵金属成分分析，贵金属镀层，如金基上的铑材料分析分析硬质材料涂层，例如 CrN、TiN 或 TiCN可拓展增加RoHS有害元素分析功能，电镀液离子浓度分析膜厚仪EDX8000T产品特点超大样品腔一键测试，一键打印报告与其他软件的无缝集成使其能够轻松导出数据，兼容LIMS数据库经久耐用，在充满考验的生产或实验室环境中使用寿命长膜厚仪EDX8000T 可分析的常见镀层材料可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。单涂镀层应用：如可检测铁镀镍、铜镀镍、铁镀铬、铜镀锡、铜镀金、铜镀银等单镀层的厚度和元素成分多涂镀层应用：如Ni/Cu/Fe铁镀铜镀镍，Au/Ni/Cu铜镀镍镀金，Sn/Ni/Cu铜镀镍镀锡等合金镀层应用：如ZnNi/Fe铁镀镍锌合金, ZnAl/Ni/Cu铜镀镍镀铝锌合金等技术参数仪器外观尺寸:400mm*500mm*350mm仪器重量: 34KG镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）成分分析范围：硫S（16）- 铀U（92）可分析含量范围：1ppm- 99.99%涂镀层最低检出限：0.005μm，可同时分析5层以上镀层成分分析含量范围：5ppm-99.99%探测器：高分辨率铍窗电制冷Si-Pin Detector 多道分析器:4096道DPP analyzerX光管：50W高功率光管准直器：标配Φ0.5mm，选配Φ0.2mm滤光片：3种可切换可选配纯元素标样，镀层校准片电压：220ACV 50/60HZ环境温度：-10°C到35°C

Q150V Plus系列镀膜仪适用于高真空应用中的超精细导电镀膜 Q150V Plus针对高真空应用进行了进一步优化，最终真空度优于1×10-6mbar，同时配置全量程规，能够溅射具有晶粒尺寸更细的金属膜，适用于超高分辨率成像。得益于更低的背景真空，能够有效的从腔室中去除氧气、氮气和水蒸气避免了溅射过程中的化学反应，有效的消除镀层中的杂质或缺陷。能够实现制备低散射高纯度金属膜以及高密度的非晶碳膜等。Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有功能，同时具有更精细的晶粒尺寸和更薄的镀层，适用于超高分辨率成像应用。

XTD-200是一款专用于检测各种异形件，特别适用于五金类模具、卫浴产品、线路板以及高精密电子元器件表面处理的成分和厚度分析。该系列仪器不但可以应对平面、微小样品的检测，在面对凹槽曲面深度0-90mm以内的异形件具备巨大的优势；搭载全自动可编程移动平台，无人值守，便可实现多样品的自动检测。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。产品优势：先进的EFP算法：多层多元素、各种元素及有机物，甚至有同种元素在不同层也可准确测量上照式设计：实现可对大型工件进行快、准、稳高效率测量自动对焦：高低大小样品可快速清晰对焦变焦装置算法：可对0-90mm深度的凹槽高低落差件直接检测小面积测量：测量面积小至0.002mm2可编程自动位移：选配自动平台，X210*Y230*Z145mm行程内无人值守自动测量● 自动、智能、在线检测自动：可编程自动位移平台，无人值守、自动检测样品；一次编程便可实现成百上千个样品点的高效检测智能：实现自动AI影像智能寻点，编程档案自动匹配测试位置，在面对大批同类型样品检测时，具备明显的优势在线：根据客户要求可个性化定制产线在线式检测，为工业4.0提供在线检测整体解决方案，提高检测效率，实现全自动智能化工厂1.元素分析范围：氯（Cl）- 铀（U）2.涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）3.厚度检出限：0.005μm4.成分检出限：1ppm5. 测量直径小至0.05mm（最小测量面积0.002mm2）6.对焦距离：0-90mm7.样品腔尺寸：530mm*570mm*150mm8.仪器尺寸：760mm*550mm*635mm9.仪器重量：120KG广泛应用于半导体行业、新能源行业、5G通讯、五金建材、航空航天、环保行业、汽车行业、卫浴装饰、精密电子、电镀行业等多种领域。选择一六仪器的四大理由：1.一机多用，无损检测2.测量面积小至0.002mm23.可检测凹槽0-90mm的异形件4.轻元素，重复镀层，同种元素不同层亦可检测

iEDX-150T采用宽大样品腔，专业用于金属电镀镀层厚度分析，可同时分析镀层中的合金成分比例。还可以选择电镀液的成分分析功能模块（取代了原子吸收对电镀液的分析，更方便更快捷）、RoHS分析功能模块（可分析铅、镉、汞、铬及卤素）等仪器采用了业界基本参数法（FP）RoHS/WEEE/ELV无损检测Cr、Pb、Hg、Cd、Br定量分析，共存元素的定量分析：可同时分析报告20种元素。减法运算和配给。智能背景滤波器。有多种分析计算数学模型，方便对不同材料，不同样品的分析测量。可制作多条工作曲线，图谱生成。测试条件独立，方便快捷。应用领域：金属电镀镀层分析领域（非金属基材及金属基材的多电镀层分析）图谱界面：1、软件支持无标样分析；2、大分析平台和样品腔；3、集成了镀层界面和合金成分分析界面；4、采用多种光谱拟合分析处理技术；5、分析精度可达到0.001um；6、镍、钯、金电镀镀层专业分析；技术指标：1、多镀层，1-6层；2、高测试精度；3、元素分析范围从铝（Al）到铀（U）；4、测量时间：10-60秒；5、SDD探测器，能量分辨率为125电子伏特；6、微焦X射线管50KV/1mA；7、焦斑尺寸75um；8、7个准直器及6个滤光片自动切换；9、XYZ三维移动平台，MAX荷载为20KG；10、高清CCD摄像头，准确监控位置；11、多变量非线性去卷积曲线拟合；12、高性能FP/MLSQ分析；13、平台移动范围：100（X）×150（Y）×90（Z）mm；14、仪器尺寸：526×637×484mm；分析报告结果：1、直接打印分析报告；2、报告可转换为PDF、EXCEL和HTML格式更多详细技术资料请联系索取！

德国EPK铁上电镀镍测厚仪NIFE50是一款机械型涂层测厚仪，用来测量铁上电镀镍层厚度。测量快速、精确、无损，三十多年来 已成为被广泛应用的自动测定涂镀层厚度的专用仪器。德国的“诀窍”说明它在工艺技术及精度方面，具有磁性覆层测厚仪的较高水准。德国EPK铁上电镀镍测厚仪NIFE50是麦考特涂镀层测厚仪MikroTest系列之一，其他型号测厚仪具有以下功能：精确无误地测量钢铁上的涂层镀层厚度：如，电镀层，电镀镍层，磷化膜油漆，粉末涂层塑料，橡胶测量非磁性非磁性金属基体上电镀镍层（如铜，铝等基体上电镀镍）。德国EPK铁上电镀镍测厚仪NIFE50测量快速、精确、无损，三十多年来MICROTEST 已成为被广泛应用的自动测定涂镀层厚度的专用仪器。德国的“诀窍”说明它在工艺技术及精度方面，具有磁性覆层测厚仪的较高水准。麦考特涂镀层测厚仪MikroTest系列所有仪器均符合DIN、ISO及ASTM标准。完全自动操作。在使用时具有无可比拟的如下特性：1.自动测量不会发生误操作2.易于掌握并具有极高精度3.不用校准、设定、检测简便4.不需要电池或其他电源5.自动报出厚度读值6.用无损测头，一点测定7.金属铠装适于室外频繁操作使用8.抗机械冲击、耐酸及溶剂腐蚀9.平衡装置消除地心引力影响，可在任意方向和管内准确测量。型 号测量范围精度测量区直径下限不能小于测量半径凸 凹mm mm基体厚度下线mm适合用于MikroTest G 60－100μm1μm或5％读值20mm5 250.5钢、铁上电镀层、漆、搪瓷、塑料、橡胶层MikroTest F 60－1000μm5μm或5％读值30mm 8 250.5MikroTest S30.2－3mm5％读值30mm15 251.0MikroTest S50.5－5mm5％读值50mm15 251.0MikroTest S102.5－10mm5％读值50mm15 252.0MikroTest S207.5－20mm5％读值100mm100 1507.0MikroTest NIFE500－50μm2μm + 8％读值20mm10 250.5铁上电镀镍MikroTest NI500-50um1μm或5％读值15mm5 25-非铁磁金属基体上电镀镍MikroTest NI1000-100um1μm或5％读值15mm5 25-麦考特涂镀层测厚仪MikroTest表盘示意图：麦考特涂镀层测厚仪MikroTest校准板：。

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

真空镀膜降温制冷设备 真空镀膜降温制冷设备适用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。详细介绍真空镀膜降温制冷设备简单介绍：从事制冷行业及塑机自动化多年，主要研发制造，水冷式水循环工业制冷机系列、冷风机系列、空调系列、冷油机系列、恒温恒湿机等温（湿）度控制设备系列解决方案。水冷式水循环工业制冷机是现代工业先进的制冷设备，是现代工业发展的一款重要的辅助制冷设备，是一门科学的物理设备。是宝驰源公司根据各厂家的需要诚意推出的一系列崭新设计的产品其规格有几十种，制冷范围从1315大卡到1892000大卡，冷冻出水温度范围3℃—30℃。配置说明：主机采用欧美日进口品牌压缩机，运行可靠，效率高，噪音低。意大利进口水泵，压力大，稳定性高，恒久耐用；台湾邦普电脑板控制器，精度高，使用范围广；完善的电气保护系统，具有缺相、相序保护、电流过载保护、高低压保护等，确保机组的正常运行。产品出厂时已调试好，用户只需按使用说明书进行电气线路和冷却水冷冻水管路连接，即可投入使用。运用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。 1，UV固化机：　 特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；CJW水冷系列 适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德 2、超声波清洗机：　 经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几十度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。　 水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低，空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。　　综合经上因素，宝驰源牌工业制冷机降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发 3，塑胶业注塑、 挤塑、 吹瓶、 压塑、 吹膜压延膜 ，标准型工业均能适用于上述行业。A，注塑 模具冷却　 塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。冻水温度要求：6～18℃冻水温差要求：±2K 或 ±0.5K机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称“安士”）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。注塑机通常以锁模力标称，这就需要将吨数转换成安士，但吨数与安士并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。 ４．激光 制冷系统元件均采用国际品牌元件,无盘管纯不锈钢材料水箱,具有持久稳定的制冷效果,温度控制精度为±1℃ 带超高、低温度显示及信号输出保护,配置常开和常闭输出以供选择 冷冻水循环系统采用不锈钢多级泵及不锈钢泵,PVC材料连接,无锈蚀之忧,可直接使用纯净水或去离子水 在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。对冻水温度要求通常在15… 22℃之间，对冻水精度要求通常为±1K 或 ±2K。部分设备可能要求±0.5K，另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。因此对水质要求非常高，管材采用不锈钢或PVC管。对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业以满足不同的要求，激光冷冻机主要应用于激光打标机，激光雕刻机，激光焊接机，激光喷码机，激光切割机等等激光加工设备，它能精确控制激光设备所要求的温度，从而保证了激光设备的正常工作。产品特点:采用进口品牌日本松下压缩机，内置安全保护，噪音低，省电耐用，以增加设备的使用寿命。采用高效翅片式冷凝器，具有换热效率高, 外加高效外转子风机，无需接驳冷却塔系统等优点。采用工业纯钛和敞开式不锈钢水箱蒸发器，内置水位保护等装置，以方便客户加水和清洗维护。采用不锈钢多级泵和水路管道，能防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。采用液晶显示微电脑控制器，能精确控制水温，中文界面，操作简单方便, 控制功能齐全。采用德国施耐德电气产品，具有完善的电气保护系统。采有静电喷涂外壳，美观大方，外表板采用快速安装形式，方便使用和维修保养。５．电镀工业-氧化工业 电镀工业产品特点：宝驰源公司生产工业，为满足电镀,氧化,电泳行业对腐蚀的要求，特别设计采用钛材料做的热交换器，可安全有效的在生产中提供高效的辅助！在电镀业氧化、电泳行业，有助把金属与非金属离子稳定下来，使金属离子迅速附上电镀件，氧化件,电泳件,不但增加密度及平滑，并可减少电镀次数，提高生产率。 ６．反应釜工业 反应釜专用工业产品特点：采用欧洲原装进口中低温压缩机，全自动电脑控制器，高效能换热器，还采用国际知名品牌附件，温度控制范围为-40℃～－80℃，广泛应用于精细化工、食品添加剂、玉米深加工(淀粉)、 制药、医药储存等。 ７．水冷螺杆式工业 水冷螺杆式产品特点： （1），高效的半封闭式压缩机，机组的心脏—进口优质螺杆压缩机，其5 :6超高效螺旋转子压缩机，比一般压缩机能效高20-30%.运行可靠效率高、维护容易、精确的容量控制、应用范围广。 非对称转子齿形. 四段或无段式容量控制系统. 内建压差式供油润滑系统. 低振动、低噪音. （2），微机准确控制温度，机组微电脑控制器采用超大萤幕点阵液晶显示，具有良好的全中文人机对话介面实现全功能自动化控制.液晶显示幕即时显示机器工作状况，精确监控组运行在更佳状态，其轻触面板密封好，防水，防尘，抗腐蚀，按键寿命长。分级与无极能量控制，用于一般的空调系统，装备有百分%、75%、50%、25%分级能量控制系统.此确保机组在部分负荷时发挥节能效果.但如需精确控制水温，可按用户要求，所有机型均可装配无级能量控制. （3）运行效率高，换热器采用了高效波纹管，外加高效的螺杆式压缩机，保证了机组的高效率运行.可靠的保护和辅助部件. （4）组具有下列部件以防止任何运转故障：压缩机保护设计时器、过电流继电器、压缩机电机温感器、防冻结温控器、视液镜、油加热器、压缩机逆相保护继电器，高、低压保护，排气高温保护，安全阀，易溶塞. ８，镀膜机专用工业中频真空镀膜机一般要配一台作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 ９．低温型工业（零下5- 零下40度）制冷量大，采用世界品牌进口压缩机，低温性能卓越，可靠耐用，产品根据工业应用特点设计，内置低温循环水泵及不锈钢冷冻水箱，使用极为方便，所有与水接触的材料均采用防腐蚀材料，有效防止生锈，腐蚀；微电脑LED数显控制器，具备温度显示，设定温度，自动调节冻水温度及压缩机延时保护功能，选用品牌接触器，继电器等电器元件，配备完善的指示灯，开关，操作一目了然，内置电子水位指示及报警，操作人员通过控制面板就能掌握冻水箱的水位情况，及时补水，独有的模块式设计，每台压缩机的系统安全独位，既使一个系统出现问题，亦不会影响其它系统的正常工作。应用范围广，具体咨询我司销售人员{维护与保养} 1、清洗水塔 使用水冷式必需注重冷却水源的清洁，当冷却水很脏或杂物太多，冷却水流经冷凝器时杂质会附着在铜管内壁，时间一长，铜管内壁会产生很多水垢，这样冷却水与制冷剂之间的热交换明显下降，冷却水从制冷剂带走的热量减少，这就造成散热不良，影响制冷效果。 因此，必须定期清洗冷却水塔，一般至少1周清洗1次冷却水塔（具体情况视环境而定），当出现清洗冷却水塔还会出现高压故障时,那就要考虑清洗冷凝器，才能保证制冷效果。 2、压缩机压缩机运转累计1000小时以后，要对其检查：压缩机冷冻油是否正常压缩机运转时电流是否正常压缩机运转时是否有异常声音 3、其它机器使用一定时间后，由于各方面因素，有必要进行如下事项：对压力开关进行性测试，是否可高低压力报警。对电控箱，要定期把里面灰尘吹干净，同时查看螺丝是否松动，避免机器损坏，以防事故发生。以上如有异常，请尽快通知公司派维修人员处理。售后服务承诺1，本公司维修服务提供全天候服务，即本公司所出售之设备质保期内如出现故障，我公司在接到用户通知后，派出技术及维修人员到场予以处理，保证用户正常工作，至设备故障完全排除为止。2，全天24小时服务咨询

货期&价格请与咨询客服为准！谢谢！ 1. Ux-720新一代国产专业镀层厚度检测仪，采用高分辨率的Si-PIN（或者SDD硅漂移探测器），测量精度和测量结果业界。 2. 采用了FlexFP-Multi技术，无论是生产过程中的质量控制，还是来料检验和材料性能检验中的随机抽检和全检，我们都会提供友好的体验和满足检测的需求。 3. Ux-720微移动平台和高清CCD搭配，旋钮调节设计在壳体外部，观察移动位置简单方便。 4. X射线荧光技术测试镀层厚度的应用，提高了大批量生产电镀产品的检验条件，无损、快速和更准确的特点，对在电子和半导体工业中品质的提升有了检验的保障。 5. Ux-720镀层测厚仪采用了华唯最新专利技术FlexFp -Multi，不在受标准样品的限制，在无镀层标样的情况下直接可以测试样品的镀层厚度，测试结果经得起科学验证。 6. 样品移动设计为样品腔外部调节，多点测试时移动样品方便快捷，有助于提升效率。设计更科学，软硬件配合，机电联动，辐射安全高于国标GBZ115-2002要求。 7. 软件操作具有操作人员分级管理权限，一般操作员、主管使用不同的用户名和密码登陆，测试的记录报告同时自动添加测试人的登录名称。 测厚技术：X射线荧光测厚技术测试样品种类：金属镀层，合金镀层测量下限：0.003um测量上限：30-50um（以材料元素判定）测量层数：10层测量用时：30-120秒探测器类型：Si-PIN电制冷 探测器分辨率：145eV高压范围：0-50Kv，50WX光管参数：0-50Kv，50W，侧窗类；光管靶材：Mo靶；滤光片：专用3种自动切换；CCD观察：260万像素微移动范围：XY15mm输入电压：AC220V，50/60Hz测试环境：非真空条件数据通讯：USB2.0模式准直器：Ø 1mm，Ø 2mm，Ø 4mm软件方法：FlexFP-Mult工作区：开放工作区 自定义标准配件：样品固定支架1支窗口支撑薄膜：100张保险管：3支计算机主机：品牌+双核显示屏：19寸液晶打印机：喷墨打印机 可选配件：可升级为SDD探测器 可以实现全自动一键操作功能，准直器自动切换，滤光片自动切换，开盖随意自动停，样品测试照片自动拍照、自动保存，测试报告自动弹出，供应商信息自动筛选和保存。

德国EPK有色金属上电镀镍测厚仪MikroTest NI100是专门为有色金属基体上电镀镍测厚设计， 测量快速、精确、无损，三十多年来已成为被广泛应用的自动测定涂镀层厚度的专用仪器。德国的“诀窍”说明它在工艺技术及精度方面，具有磁性覆层测厚仪的较高水准麦考特涂镀层测厚仪系列MikroTest精确无误地测量钢铁上的涂层镀层厚度：如，电镀层，电镀镍层，磷化膜油漆，粉末涂层塑料，橡胶测量非磁性非磁性金属基体上电镀镍层（如铜，铝等基体上电镀镍）。德国EPK有色金属上电镀镍测厚仪MikroTest NI100测量快速、精确、无损，三十多年来MICROTEST 已成为被广泛应用的自动测定涂镀层厚度的专用仪器。德国的“诀窍”说明它在工艺技术及精度方面，具有磁性覆层测厚仪的较高水准。德国EPK有色金属上电镀镍测厚仪MikroTest NI100符合DIN、ISO及ASTM标准。完全自动操作。在使用时具有无可比拟的如下特性：1.自动测量不会发生误操作2.易于掌握并具有极高精度3.不用校准、设定、检测简便4.不需要电池或其他电源5.自动报出厚度读值6.用无损测头，一点测定7.金属铠装适于室外频繁操作使用8.抗机械冲击、耐酸及溶剂腐蚀9.平衡装置消除地心引力影响，可在任意方向和管内准确测量。型 号测量范围精度zui小测量区直径zui小半径凸 凹mm mm基体zui小厚度mm适合用于MikroTest G 60－100μm1μm或5％读值20mm5 250.5钢、铁上电镀层、漆、搪瓷、塑料、橡胶层MikroTest F 60－1000μm5μm或5％读值30mm 8 250.5MikroTest S30.2－3mm5％读值30mm15 251.0MikroTest S50.5－5mm5％读值50mm15 251.0MikroTest S102.5－10mm5％读值50mm15 252.0MikroTest S207.5－20mm5％读值100mm100 1507.0MikroTest NIFE500－50μm2μm + 8％读值20mm10 250.5铁上电镀镍MikroTest NI500-50um1μm或5％读值15mm5 25-非铁磁金属基体上电镀镍MikroTest NI1000-100um1μm或5％读值15mm5 25-麦考特涂镀层测厚仪MikroTest表盘示意图：麦考特涂镀层测厚仪MikroTest校准板：。

双靶磁控溅射镀膜仪双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。与同类设备相比，这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，且体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。技术参数：项目明细供电电压AC220V，50Hz整机功率3KW极限真空度10-6torr载样台参数尺寸φ140mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速技术参数： 1-20rpm可调磁控溅射头参数数量2个2”磁控溅射头冷却方式水冷，所需流速10L/min水冷机规格16L/min流速的循环水冷机真空腔体腔体尺寸φ300mm X 300mm H腔体材料不锈钢观察窗口φ100mm开启方式上顶开式，便于更换靶材气体流量控制器4路分别通N2，Ar，O2，空气； 量程均为0-500sccm真空泵配有一套分子泵系统，抽速600L/S膜厚仪石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 ?溅射电源直流电源一台，500W，适用于制备金属膜射频电源一台，300W，适用于非金属镀膜操作方式面板按钮操作整机尺寸1400mm X 750mm X 1300mm整机重量300kg

广州竞赢离子溅射仪全国诚招代理广州竞赢成立于2007一直以来专业从事代理和销售国内外品牌的各类电镜耗材及电镜附属设备，客户涉及高校、科研院所、企业、政府部门等多个领域。凭借着优异的产品和服务为广州市公安局、广东医附院、复旦大学、华南理工大学、中山大学、电子五所、哈尔滨工业大学、贵州大学等等国内各地域客户建立起良好的供销关系。JY-S100磁控离子溅射仪是一款结构紧凑的桌面小型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。在扫描电子显微镜（SEM）样品制备中，JY-S100磁控离子溅射仪在不同类型的样品，如生物标本和材料样品制备中发挥着至关重要的作用。对于生物标本，JY-S100磁控离子溅射仪有助于在样品表面形成一层导电层，防止荷电效应并减少电子束对样品表面的损伤。这种导电层使得在不影响其完整性的情况下更好地成像细胞、组织和纤维等微妙的生物结构。高质量的镀膜还能增强二次电子信号，从而提高图像分辨率和对比度。对于材料样品，JY-S100磁控离子溅射仪在给样品镀上均匀且薄的导电层方面至关重要，使得样品的表面形貌和成分能够进行高分辨率成像。这对于非导电材料（如陶瓷、聚合物和复合材料）尤为重要，因为荷电效应可能导致成像伪像和失真。JY-S100提供的精确且一致的镀膜确保了SEM图像准确地反映了样品的表面特征，使研究人员能够深入了解材料的性能和性能。主要特性通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，控制的参数包括放气以及氩气换气控制。数字化的喷镀电流控制不受样品室内气压影响，可得到一致的镀膜速率和高质量的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。技术参数溅射系统靶材Au 靶为标配，可选 Pt，直径 57mm x 0.1mm 厚标准样品台可以装载 12 个 SEM 样品座，高度可调范围为 60mm※旋转倾斜样品台（选配）旋转速度：0~60rpm 连续可调，倾斜角度：-90°~ 90°连续可调；不锈钢腔体：直径 120mm X 高 75mm；观察窗：直径 120mm X 高 45mm；标配旋转台直径 40mm，可放 4 个标准样品台，其它规格可订做；具有双重锁紧装置，可确保样品在旋转倾斜时不会松动脱落。溅射电流微处理器控制，安全互锁，可调，电流 5~30mA，程序化数字控制计量表真空： Atm - 1*10-3mbar，电流：0~99mA控制方法带有“开始”“暂停”按钮的微处理控制器（1－999s），自动抽气、溅射、关机后自动放气。真空系统抽气速率133L/MIN极限真空10-4 mbar 级噪音56dB

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

3V仪器电镀层测厚仪0-50us金属镀层厚度分析EDX6600能量色散X荧光光谱仪EDX66600镀层测厚仪目录1.产品名称及特点:2.仪器硬件主要配置2.1 Si-pin电制冷半导体探测器2.2 X光管（专用小焦点X光管）:2.3 高低压电源:2.4 多道分析器:2.5光路过滤模块2.6 准直器自动切换模块2.7滤光片自动切换模块2.8准直器和滤光片自由组合模块3.金属镀层专用分析软件4.附件5.产品保修及售后服务产品资料1.产品名称及特点: 1.1. 产品名称及型号：（3V x-ray）能量色散X射线荧光光谱仪-------EDX66001.2. 制造商：苏州三值精密仪器有限公司1.3 仪器总价值： 数量 单位 金额（人民币） 1 套 RMB(含税)1.4 产品图片 EDX6000E型1.5. 工作条件：● 工作温度：15～30℃● 相对湿度：40%～80%● 电 源：AC220V±5V1.6.产品特点 1.6.1 EDX6600可专门针对金属镀层厚度及成分含量进行分析。 1.6.2打破传统仪器直线的设计，采用流线体的整体化设计，仪器简洁大方。 1.6.3采用美国新型的Si-pin探测器，电致冷而非液氮制冷，体积小、数据分析准确且维护成本低。 1.6.4采用自主研发的SES信号处理系统，有效提高测量的灵敏度，测量更准确。 1.6.5七种光路校正准直系统，根据不同样品自动切换。 1.6.6多重防辐射泄露设计，辐射防护级别属于同类产品高级。 1.6.7一体化散热设计，使整机散热性能得到极大提高，保证了核心部件的运行安全。 1.6.8机芯温控技术，保证X射线源的安全可靠运行，有效延长其使用寿命，降低使用成本。 1.6.9多重仪器部件保护系统，并可通过软件进行全程监控，仪器工作更稳定安全。 1.6.10专用测试软件，标准视窗设计，界面友好，操作方便。 1.6.11采用USB2.0接口，有效保证数据准确、高速的传输。2.仪器硬件主要配置2.1 Si-pin电制冷半导体探测器 2.1.1. Si-pin电制冷半导体探测器；分辨率:149±5eV。 2.1.2. 放大电路模块：对样品特征X射线进行探测，将探测采集的信号进一步放大。2.2 X光管（专用小焦点X光管）: 2.2.1 灯丝电流：1mA。 2.2.2 属于半损耗型部件，设计使用寿命大于10000小时。2.3 高低压电源: 2.3.1.电压输出：≤50kV。 2.3.2.5kv可控调节。 2.3.3.自带电压过载保护。2.4 多道分析器: 2.4.1. 将采集的模拟信号转换成数字信号,并将处理结果提供给上位机软件。 2.4.2 通道数：4096。 2.4.3 包含信号增强处理。2.5光路过滤模块 2.5.1 降低X射线光路发送过程中的干扰，保证探测器接收信号准确。 2.5.2 将准直器与滤光处组合；2.6 准直器自动切换模块 2.6.1 多种选择，口径分别为8、4、2、1、0.5mm。2.7滤光片自动切换模块 2.7.1五种滤光片的自由选择和切换。2.8准直器和滤光片自由组合模块 2.8.1多达几十种的准直器和滤光片的自由组合。3.金属镀层专用分析软件 3.1 元素分析范围：从硫（S）到铀（U）。 3.2 分析检出限可达0.1-99.99% 3.3 分析厚度一般为0.1μm至30μm之间。 3.4 多次测量重复性可达0.1μm（对于小于1μm的最外层镀层）。 3.5 长期工作稳定性为0.1μm（对于小于1μm的最外层镀层）。4.附件 4.1 样品腔：开放式大样品腔。 4.2 标准样品：镀层标样。5.产品保修及售后服务 5.1 免费对客户方操作人员进行培训。 5.2 安装、调试、验收、培训及售后服务均为免费在用户方现场进行。 5.3正常使用，经本公司确认属工艺或材质缺陷引起的故障，且未经拆修，仪器自验收合格之日起保修壹年。 5.4 产品终身维修（客户必须有填写详细、真实的有效购买凭证和保修卡等）。 5.5 免费提供软件升级。 5.6 提供最有效的技术服务，在接到用户故障信息后，2小时内响应，如有需要，24小时内派人上门维修和排除故障。3V仪器电镀层测厚仪0-50us金属镀层厚度分析EDX6600苏州三值X射线荧光光谱仪厂家

XTU-4C是一款设计结构紧凑，模块精密化程度高的镀层测厚仪，采用了下照式C型腔体设计，不但可以测量各种微小样品，即使大型超出样品腔尺寸的工件也可测量，是一款测量涂镀层成分及厚度性价比高、适用性强的机型。该系列仪器使用于平面、微小样品或者微凹槽曲面深度30mm以内的样品涂镀层检测。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。快速准确移动定位：高精密微型移动滑轨，10-30mm（X-Y）/圈，精度0.005mm微焦X射线装置：检测面积可小于0.002mm2的样品，可测试各微小的部件高效率正比接收器：即使测试0.01mm2以下的样品，几秒钟也能达到稳定性变焦装置及算法：可对各种异形凹槽进行检测，凹槽深度测量范围可达0-30mm对焦方便：下照式设计可以快速定位对焦样品1.元素分析范围：氯（Cl）- 铀（U）2.涂镀层分析范围：氯（Cl）/锂（Li）- 铀（U）3.厚度检出限：0.005μm4.成分检出限：1ppm5. 测量直径小至0.2mm（测量面积小至0.03mm2）6.对焦距离：0-30mm7.样品腔尺寸：500mm*360mm*215mm8.仪器尺寸：550mm*480mm*470mm9.仪器重量：45KG10.XY轴工作台移动范围：50mm*50mm11.XY轴工作台承重：5KG广泛应用于电镀行业、通讯行业、汽车行业、五金建材、航空航天、水暖卫浴、精密电子、珠宝首饰和古董等多种领域。选择一六仪器的四大理由：1.一机多用，无损检测2.测量面积小至0.002mm23.可检测凹槽0-30mm的异形件4.轻元素，重复镀层，同种元素不同层亦可检测

GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)-配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。2、防污染挡板设计全自动防污染挡板，在磁控溅射模块工作时自动切换到镀碳组件，防止蒸发源收到污染，反之亦然。3、一键切换两种工作模式一键切换，每次开机自动进入上次关机的工作模式。4、全自动操作

溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD 系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。产品特性 / Product characteristics&bull 仅基板搬送和侧面镀膜的方式，低particle&bull 节约空间的设计&bull 可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件&bull 根据镀膜物不同选择不同的阴排列&bull 丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应产品应用 / Product application&bull Display（TFT、智能手机、平板电视（2K、4K）、OLED）产品参数 / Product parameters1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪，真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵，无油真空系统，真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下最流行的触摸屏控制，简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜，满足高分辨场发射扫描电镜（FESEM）需求。可选碳丝蒸发镀碳膜，用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜，获得极其细腻的金属膜与碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。主要技术参数： 可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度 2×10-6mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：200mm（宽）×150mm（深）×195mm（高） 样品台内置旋转，工作距离调节范围：30mm-100mm

SD-650MHG是一款高真空磁控溅射镀膜仪，是我们公司一款定制化的产品。首位用户为美国某位大学一位老师提出来的需求。老师的需求为：因为手套箱里要放很多东西，实在没有多余的空间放置镀膜仪，但传统的镀膜仪多多少少都会占用手套箱内的面积。经过工程师认真思考，研制了首款镀膜仪。该镀膜仪前面的观察窗口几乎和手套箱外壁在同一个平面内，而且还保证了密封问题，。该镀膜仪问世后，深受老师们的喜爱，先后为很多科研机构所选择。

Q150GB是Q150T ES台式涡轮分子泵镀膜系统的模块化手套箱版本，适用于SEM、TEM和许多薄膜应用。Q150 GB标准配备了溅射和碳棒蒸发插件以及旋转样品台，包括金属蒸发、辉光放电、薄膜厚度测量和适合各种样品类型的特殊样品台。

三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制，简单直观易于上手，能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作，十分适合实验室选购。本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。三靶等离子溅射镀膜仪适用范围： 可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。三靶等离子溅射镀膜仪技术参数：三靶等离子溅射镀膜仪样品台尺寸φ138mm控温精度±1℃加热温度*高500℃转速1-20rpm可调直流溅射头数量2"×1 （1~3个靶可选）真空腔体腔体尺寸φ180mm × 150mm观察窗口全向透明腔体材料高纯石英开启方式顶盖上翻式真空系统机械泵旋片泵抽气接口KF16真空测量电阻规排气接口KF16极限真空1.0E-1Pa供电电源AC 220V 50/60Hz抽气速率旋片泵：1.1L/S电源配置数量直流电源 x1*大输出功率150W其他供电电压AC220V,50Hz整机尺寸360mm × 300mm × 470mm整机功率800W整机重量40kg

PICOSUN原子层沉积系统ALD PICOSUNR-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUNALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括zui大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球领先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN研发工具具有du特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引领行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。Picosundu特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法，并在工业上获得了专利。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验，并且为ALD的许多专利做出了贡献。 ALD主要应用：1.在集成电路上的应用：Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底上长高K绝缘层HfO2，La2O3，Ta2O5，Al2O3等；电容器金属电ji；晶体管栅电ji；TSV电镀铜前长阻挡层和种子层；2.在显示中的应用：在Micro-LED中通过在沟槽中长钝化层来改善光散射性能；在OLED中低温长防水层。3.在激光器和功率器件的应用：VCSEL侧面长AlN、Al2O3保护层；GaN高频器件T Gate刻蚀后去氧化层并镀上保护层。4.验证光刻胶性能：第三方实验室或者工厂FA部门，涂胶后通过低温ALD镀yi层很薄的膜来保持住光刻胶的整体形貌，然后通过FIB+TEM等方法来验证光刻胶性能，如果不镀膜直接上FIB或TEM会破坏光刻胶原有的形貌，无法获得准确的结果。5.其他应用：MEMS/SAW等做高均匀性镀膜，锂电池、医疗等行业等粉末镀膜。PICOSUNR-200标准PICOSUNR-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及系统的zui终灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全du立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学物质前体源。与手套箱，粉末室和各种原位分析系统集成，无论您现在的研究领域是什么，或以后可能成为什么样的研究领域，都可以进行高效，灵活的研究，并获得良好的结果。 PICOSUNR-200高级PICOSUNR-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。群集工具，Picoflow™ 扩散增强剂，卷对卷室，RGA，UHV兼容性，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，用于惰性装载的手套箱集成PICOSUNR-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场领导者，已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及zui终的系统灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全du立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学品前体源。高效且获得专利的远程等离子选件可实现金属沉积，而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱，UHV系统，手动和自动装载机，集群工具，粉末仓，卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在yi起，无论您现在或将来的研究领域如何，都可以高效，灵活地进行研究，并获得良好的结果稍后。