精密研磨仪

产品型号：Unipol-1502产品简介：Unipol-1502型精密研磨抛光机可用于加工制备各种晶体材料、陶瓷材料及金属材料而设计的新一代产品。该机配有直径381毫米的研磨抛光盘和三个加工工位。可研磨抛光直径&ge 100毫米或矩形的平面。采用UNIPOL1502型精密研磨抛光机及选购的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。主要特点：1、超平抛光盘（平面度为每25毫米× 25毫米小于0.3微米） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于8微米） 3、三个加工工件 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵技术参数：电源：交流110V或220V 速度：无级调速 定时器：定时范围为1分钟～99.99小时 外形尺寸：650mm× 510mm× 300mm（长× 宽× 高） 重量：95千克尺寸：810mm x 800mm x800mm 200kgs产品附件：150× 200&ldquo 00&rdquo 级精密花岗岩测厚仪； 自动混料及送液的滴料器； 搅拌循环泵； 各种配重块，以调整抛光和研磨的压力（100克-2000克）； 用于精细研磨抛光的铜及锡合金抛光盘； 易粘贴的抛光垫； 可根据客户要求设计载料块的大小。可选配件：二个直径381毫米的研磨抛光盘（铸铁盘和铸铝盘各一个） 三个修整环 三个载料块 三个支持修整环的支架 一本操作规程手册具体信息请点击查看：

手动精密研磨器 MDG1在TEM透射样品进入离子减薄处理之前，需要将样品处理成平整、均匀和较薄的样品，称之为预减薄。预减薄或抛光工序有助于提高后续离子减薄的效率和质量。 手动精密研磨器MDG1可以快速进行平面研磨，精准控制样品厚度。产品特点1. 可获得大直径、均匀、平行的抛光面，方便后续工序获得大面积纳米级薄区。2. 通过千分尺精密控制样品最终厚度，并在刻度盘上显示，精度为10um。3. 研磨器自身重量作为研磨时需要的压力， 操作员只需轻松扶持研磨器，样品研磨过程中受力均匀柔和，避免样品机械损伤。4. 可快速重高复性地获得大于10um厚度（实际极限厚度取决于材料和磨样水平），直径?18mm的平面样品。5. 广泛用于材料科学， 电子产品等样品处理 产品规格研磨器外形尺寸?75 x 45H样品柱4X?18mm样品最大直径≤15mm重量1.5kg质保1年使用方法零位校准1. 取出样品柱（此时未放置样品），放入基座内。2. 旋转手柄，让样品柱回缩，直到样品柱全部回退入孔内，端面略低于研磨盘表面即可。3. 在样品柱周围的研磨盘表面上滴些水滴（3-4滴即可），并用平整的玻璃片盖上，水滴被均匀压在玻璃与研磨盘中间。4. 缓慢旋转手柄旋出样品柱，当观察到玻璃底下的水开始运动，立即停止。此时样品柱顶端触碰到玻璃，即此时样品柱顶端与研磨盘表面处于同一平面。5. 旋转刻度盘零位到手柄指针位，至此零位设置完毕。锁紧刻度盘上的螺丝。安装样品1. 取出样品柱， 清洗干净，并放置在加热台上并加热到130oC（温度禁止超过200oC）2. 取少量石蜡，放置在样品柱顶端，熔化待用。3. 将样品放置在样品柱上，轻按排除气泡，使样品与样品柱紧密结合。4. 移除样品柱到常温环境，待石蜡冷却。样品可靠地粘结在样品柱上，完成样品安装。研磨样品1. 装载样品柱（端部携带样品）到基座内，旋转手柄使样品稍微露出。2. 研磨样品，建议使用8字型运动线路使磨样更均匀。3. 加热移除样品，翻转重新装样在样品柱上。装样方法同上。4. 重新装载样品在基座内，调整手柄控制每次进给的研磨量，直到得到最终需要的厚度（通常为50um，具体取决于样品材料本身和磨样工艺）。取出样品使用推杆，将样品柱推出。加热样品柱，使用镊子取出样品。如果样品异常脆弱， 可将样品柱及样品放入丙酮中半小时进行溶解后取出。 将样品放入氯仿或丙酮中充分溶解石蜡，获得干净的样品。警告： 样品柱与基座孔配合间隙非常小，请保持样品柱表面干净

GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括：硅，砷化镓，铌酸锂，光纤，碳化硅，蓝宝石，碲锌镉等多种材料。设备结构及功能GNAD系列精密研磨抛光机包括主机，远程操控系统，夹具，真空系统，填料系统，研磨抛光盘等。主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备的功能参数，可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。夹具配备晶片研磨厚度在线监测装置，数字显示，监测精度1um，夹具自身对晶片的压力连续可调。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求，真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。自动填料系统可根据不同的工艺要求，调整滴料速度，并在研磨料用完同时自动停机，以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。设备可支持双多通道进料系统同时工作，实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统，大大提升了磨抛效率的同时，也更好的控制样品平整度。GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却选配功能。盘温接近预设温度警戒值，设备会自动启动冷却功能，保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。设备参数 电源: 240V、10A / 110V、10A 晶圆尺寸: GNAD4 4”x 1/2/3 GNAD6 6”x 1/2 工作盘直径: 300mm-420mm 盘转速: 0-120rpm 摆臂摆动频率: 0-30spm 工作时间: 0-10小时 MCF公司可根据用户需求，提供完整的工艺方案，同时定制匹配方案的设备机型。具体设备详情请咨询MCF中国！

岩相精密切割&研磨一体机METCUT-10GEO性能：◆ METCUT-10GEO是一款先进的台式岩相薄片切割/磨削系统，一机两功能◆ 切割室和研磨室分列两侧，防护罩上翻盖，各种操作动作所需的空间极限设计，便利性和安全性高◆ 金刚石切割片和金刚石杯形砂轮同轴，提高了样品切割、研磨的准确度和平行性◆ 独立真空系统，分别接入切割室和研磨室的真空卡盘，由其安全地控制着载玻片样品的切割和研磨 ◆ 大、小真空卡盘各一对，兼容所有标准载玻片尺寸◆ 切割的厚度定位和研磨的减薄均由测微计控制◆ Y轴纵向切割，手轮进给操作；Y轴纵向研磨，手柄前后移动，使用者制备样品的自由度大◆ 触摸屏控制水、气和电机，操作简单而安全◆ 透明防护罩+LED照明，使操作过程清晰可视◆ 外置清洗水管，便于清洁维护◆ 防护罩联锁装置、急停开关等，充分保证安全◆ 适用于各种样品的重新切片和减薄，如，岩石和矿物、混凝土、水泥、陶瓷、骨骼和牙齿等岩相精密切割&研磨一体机METCUT-10GEO技术参数： 电源 220V，单相，50Hz 电机功率 1Hp(750W) 控制 触摸屏控制 切割能力 60mm 减薄能力 70μm，30µ m 金刚石切割片直径 10in(254mm) 金刚石杯形砂轮直径 10in(250mm) 轴心孔径 1.25in(31.75mm) 切割片/砂轮转速 100-3000rpm/min，增量1rpm/min 切割平台（W×D） 150×170mm T型槽 8mm 真空卡盘兼容载玻片 27×46mm，2×3in 操作方式 切割：X轴（横向）测微计旋钮定位，行程20mm，进给精度0.005mm 切割：Y轴（纵向）手动切割，行程224mm 研磨：Y轴（纵向）手动研磨，数字测微计控制，进给精度0.001m 真空系统 独立真空系统，0.75Hp(550W)，8.5CFM，15Micron 进水、出水、气路 进水管（OD.）8mm；出水管（ID.）32mm；气路管（OD.）12mm 薄片粘结台 8个压簧，带加热台，温度0-300℃，温控数显，（选配） 安全系统 仓门安全联锁；除非作业停止，否则无法打开仓门；醒目的急停开关 尺寸（W×D×H） 主机1100×680×450mm，真空泵400×400×460mm 重量 主机130kg，真空泵28.5kg订货信息：产品编号 产品描述 50 07 岩相精密切割&研磨一体机 METCUT-10GEO 50 07-MB 薄片粘结台 METBOND GEO CD-10-03 金刚石切割片，10in（254mm），厚度1.1mm CD-10-70CW 金刚石杯形砂轮，10in（250mm），70µ m，金属粘结 CD-10-30CW 金刚石杯形砂轮，10in（250mm），30µ m，树脂粘结 MGS-144 载玻片，27×46mm，144片/盒 MMA-1 热熔胶，22×178mm，1根/盒 CS-01 磨石，100×12.5×12.5mm，1块/盒

UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：Ø 381mm8、载物盘：Ø 110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了?381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤?110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：起动转速范围10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：?381mm8、载物盘：?110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-802自动精密研磨抛光机适用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 203mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 80mm的平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-802自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-50A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。GPC-50A精密研磨抛光仪能严密控制被研磨样品的平面度和平行度。UNIPOL-802精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷。产品名称 UNIPOL-802自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-802安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110/220V2、功率：275W 3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~250rpm4、工位：2个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.008/180mm7、磨抛盘：Ø 203mm8、载物盘：Ø 80mm产品规格 尺寸：580mm×420mm×350mm；重量：68kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘2个4修盘环2个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-2001型精密研磨抛光机设有三个加工工位，是可进行大尺寸样品磨抛的落地式磨抛机，用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 508mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 160mm的圆片或对角线长≤160mm的矩形平面。在研磨过程中三个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。若配置适当的附件（GPC系列精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品，例如直径≤Ø 160mm晶圆样品的研磨与抛光。采用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。产品名称 UNIPOL-2001型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-2001主要参数 1.研磨盘：直径φ508mm（20英寸） 2.载样盘：直径φ160mm（6英寸），厚度35mm3.修盘环：外径φ196mm，内径φ160.5mm，厚度35mm4.摆臂支架：每120°设置1个，共3个5.工位数量：3个6.研磨盘转速：转数：20-120转/分钟7.支架摆动速度档位：10-30档 （参考速度：5.5-13.5次/分钟）8.传动机构电机：变频电机：1.5kW， 220V 9.总功率：1.7kW 220V产品规格 外形尺寸：尺寸：落地式，820*1180*945mm重量：450kg

UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 300mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 105mm的圆片或对角线长≤105mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-80A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-80A使用尤其适用于地质薄片样品的研磨与抛光。UNIPOL-1202精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷。产品名称 UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1202安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：275W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：2个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.008mm/250mm7、磨抛盘：Ø 300mm8、载物盘：Ø 105mm产品规格 尺寸：长550mm×宽700mm×高400mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘2个4修盘环2个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-300小型精密研磨抛光机是我公司专为各大实验室研究人员而设计的一款小型自动金相研磨抛光机，主要用来研磨小型金相试样，尤其适合透射电镜样品的磨抛，最薄可以将样品研磨至50μm。UNIPOL-300小型精密研磨抛光机通过弹簧对被研磨样品施加压力，可以在一定范围内调节压力的大小，不会因磨抛压力过大而损坏样品。研磨速度可以在一定范围内进行调整，可根据不同样品种类使用不同的研磨速度。研磨过程中可以对研磨时间进行设定，达到研磨时间机器自动停止，可以实现无人看守。UNIPOL-300小型精密研磨抛光机可以研磨的材料范围广，可用于晶体、陶瓷、玻璃、金属、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料、高分子材料等的研磨抛光，不仅能够进行自动磨抛，而且精度高、速度快，是国内外金相实验室、电镜实验室的通用设备。本机动作模仿人手操作，下盘不动，由上压杆带动试样做“8”字形往复运动。研磨压力、速度均可调整，操作方便简单，可实现无人看守。产品名称 UNIPOL-300小型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-300安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：单相：AC100-240V 50/60Hz 国标二极插座 10A （供电源电压需求是根据使用“电源适配器”输入决定）4、冷却水：标配设备无需求5、气源：标配设备无需求6、辅助设备（另行购买）：推荐：HEATER-3040或250加热平台、SKCH-1精密测厚仪7、工作台：建议在承重 50kg 以上操作台或桌面使用8、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求主要参数 1、设备供电端口：DC24V 2.5A (标配“电源适配器”）2、总功率：25W 3、研抛盘直径：Φ70 mm4、载样盘直径：Φ30 mm5、工位数量：16、主轴驱动电机：DC24V 0.8A 10W 3000/60K=50rpm7、载样盘摆动速度：0-160 次/分（无级调速）8、试样最大直径：Φ50mm9、试样最大厚度≤2mm10、控制方式：定时运行（倒计时）产品规格 尺寸：400mm×200mm×230mm；重量：11kg

UNIPOL-810精密研磨抛光机用于磨抛晶体、金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及密封件等，如光学元件、化合物半导体基片、陶瓷基片、蓝宝石、钒酸钇、铌酸锂、砷化镓。本机配有桃形孔载物盘，更加方便了对镶嵌的或圆形的金相试样的磨抛。UNIPOL-810精密研磨抛光机可以进行手动磨抛也可以用机械臂控制载样块进行自动磨抛，研磨抛光样品的方向不改变，是一款可以多用的研磨抛光设备。UNIPOL-810精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、配有滴料装置，可实现自动滴加研磨液。2、无级调速，数字显示。3、操作简单快捷。4、配有一个摆臂，可不用手动磨抛。产品名称 UNIPOL-810精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-810安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/240V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A（插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、HEATER-3040 或 250 加热平台、 2、SKCH-1 型精密测厚仪 3、GPC-系列精确磨抛控制仪（机械手） 4、SZKD-系列滴料器 5、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：175W3、磨抛盘直径：Φ203 mm4、平板载样盘直径：Φ80 mm5、桃型孔载样盘直径：Φ80 mm，桃型内孔 3xΦ26 mm6、工位数量 （定位机械臂）：1 工位7、滴料桶容积：1L8、主轴驱动电机：DC110V 165W9、研抛盘转速：20-600rpm（无级调速）10、控制方式：定时运行（倒计时）备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 11、产品规格：尺寸：L450×W500×H600mm净重：≈35Kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铝合金磁力盘1个3载物盘1个4修盘环1个5桃型孔载物盘1套6磁力片2片7研抛底片5片8砂纸8片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏1支11刚玉研磨微粉0.5kg12石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

PELCO精密研磨装置适合在金相试样、单晶片、电子材料、玻璃、岩石或其他材料样品上制备平面、平行面等高度抛光的表面。研磨硬质材料时，先用环氧树脂等包埋样品，可以避免圆角或过度抛光，特别适用于手工磨抛半导体、光学元件，以及凹坑前TEM样品的减薄。PELCO研磨装置可用于研磨直径3mm至25mm、厚度不超过13mm的样品。PELCO 14100型 研磨装置PELCO 14100研磨装置具有磁性样品台，使用垫片来设置样品厚度。它可以容纳直径为13mm的样品，配有厚度为0.025至0.508mm的垫片。样品台通过磁性固定在装置上，便于检查和移除样品，装置底座的直径为48mm。这种装置非常适合在对TEM样品进行压痕之前进行常规研磨。PELCO 14500型 研磨装置PELCO 14500研磨装置由千分尺控制，步进刻度为25um，可以容纳最大直径13mm、高度13mm的样品。样品台带螺纹，易于拆卸，可用蜡或粘合剂安装样品。硬质合金底座可更换，装置底座的直径为38mm。PELCO 15000型 研磨装置PELCO 15000研磨装置由千分尺控制，步进刻度为25um，可以容纳最大直径25mm、高度13mm的样品。样品台易于拆卸，可用蜡或粘合剂安装样品。可借助导向器进行定向抛光，硬质合金底座可更换，装置底座的直径为68.6mm。PELCO 77500型 研磨装置PELCO 77500研磨装置由高精度数显千分尺控制，步进刻度为25um，研磨精确度可控制在1um左右。样品可以用蜡粘结，或者通过真空附件施压安装。它可以容纳最大直径50mm、高度13mm的样品，样品台易于拆卸。碳化钨底座可更换，装置底座的直径为102mm。PELCO 研磨托盘PELCO研磨托盘适用于PELCO14100、14500、15000研磨装置和PELCO 590三脚抛光器的手动研磨和抛光。它具有光滑、平坦、稳定的抛光玻璃表面，收集盘用于收集研磨用过的研磨液，便于研磨完后的清理。研磨面尺寸为300 x 300mm。

UNIPOL-1202 自动精密研磨抛光机专门为加工制备晶体、陶瓷、玻璃、金属、岩样、矿样、耐火材料、PCB板、复合材料而设计的新一代产品。它配备了300mm直径的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光直径≤100mm或矩形的平面。采用本机并选择适当的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。无级调整摆动频率，实现平面磨抛更加平整。技术参数主要特点超平抛光盘（平面度为每25×25mm小于0.0025mm）超精旋转轴（托盘端跳小于0.010mm）两个加工工位带有数字式显示的无级调速可自动停止工作的定时器可配备自动送液的滴料器或循环泵参数研磨盘转速：0—125转/分工位：2个载料盘摆动次数：9次/分研磨盘直径：300mm载料盘直径：105mm交流电源：110/220伏主电机功率：245瓦产品规格体积：700 x475x300mm 重量67kg 可选配件 SKZD-2自动滴料器（点击图片查看详细资料）YJXZ-12搅拌循环泵GPC-50精确磨抛控制仪“00”级精密测厚仪 质保期一年质保期，终身维护质量认证 CE Certified操作视频与UNIPOL-802的操作视频相仿

安徽格楠智能科技有限公司深耕研磨机行业十多年，拥有多项研磨机专利，格楠牌研磨机在用户中有良好的口碑，研发有数控单双面研磨机，数显陶瓷平面研磨机等多种智能研磨机。　　安徽格楠智能科技有限公司是专业生产研磨机、单双面研磨机、数显精密双面研磨机、平面抛光机、金钢石平面磨床、超声波清洗机、内外圆倒角机、小内圆磨床等产品的企业。本公司引进最先进的生产设备和质量检测设备，从原材料的购入、生产、检测、销售全过程的管理均采用严格的质量标准。本公司从创建伊始即以稳定可靠的产品质量、高效科学的管理、诚信优质的服务深受业内关注，在业内拥有良好的口碑，被称为研磨专家。 　　格楠公司拥有先进的生产设备及专业技术工程人员。产品由设计、生产到交付使用，均有经验丰富的技术员直接参与，确保质量，务求精益求精。本公司在全国的销售网络不断拓展和延伸的同时，在同行业中较早采用区域特许经营的模式，本着“务实，诚信，创新，高效”的企业精神和“互利互惠，共同发展”的经营理念，开拓创新，精工细作，铸造高品质品牌研磨机械。我公司以品质为尊、不断拓展、出精品、创名牌，立足国内，走向世界，我们愿以更精湛的技术，更优良的质量，更先进的管理，更满意的服务与您精诚合作共创美好未来。　　格楠公司对外加工陶瓷磨片、瓷管外圆抛光、工程塑料、汽车油泵密封件等。

新升级的美国Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造 项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg) 产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

东京精密减薄研磨机PG3000RMX为将晶圆减薄到一定厚度,晶圆的图形面会贴上一层保护胶带,然后用磨轮和抛光材料对晶圆背面进行研磨.由于半导体材料用晶圆越来越薄,传统的研磨机已经不能满足使用要求.Accretech的PG系列可以抛光超薄晶圆,和RM系统的连接,可以在下料时给晶圆背面自动贴上切割胶带.实现15um厚度晶圆量产的高度集成化一体机PG3000RMX丰富的选配■NCIG非接触式在线测量和自动TTV控制现在的接触式测量系统可测量包含BG胶带的晶圆厚度.BG胶带的厚度偏差会影响到晶圆厚度的测量精度.比如,如果BG胶带的厚度公差是+/-5μm,如果晶圆的厚度是25um的话,结果会有20%左右的测量偏差.非接触式在线测量系统仅测量晶圆厚度,因此BG胶带的厚度公差可被过滤掉.自动TTV控制功能可以很好的补偿晶圆形状.■EGF(外部电荷聚集功能)当晶圆背面同时进行研磨和应力释放工艺时,被捕获层就被去除掉了.东京精密可用纹理工艺得到电荷聚集层.实现了电荷聚集功能,提高了超薄芯片的抗折强度.■WCS(晶圆清洗系统)东京精密为CMOS图像传感器,LCD驱动器和TSV等提供各种清洗系统.■和激光切割机的集成系统东京精密将激光切割机与研磨机集成为一体机,实现了25um厚度芯片的无损加工.

新升级的美国ALLIED MultiPrep高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg)产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

东京精密高刚性研磨机HRG3000RMX全自动高刚性三轴研磨机实现快速无损伤加工加工成本低加工精度高实现镜面加工可研磨材料硅可研磨尺寸尺寸：φ8toφ12英寸产量研磨后的损伤层

东京精密全自动高刚性双轴研磨机HRG200X全自动高刚性双轴研磨机加工时间短,无损伤加工低成本高精度实现镜面加工可研磨材料难加工材料,比如SIC,LT,LN可加工尺寸尺寸:直径3-8英寸应用实例

东京精密高刚性研磨机HRG300/HRG300A高刚性研磨快速无损加工加工成本低高精度多枚同时加工支持加工中修磨功能(选配)可研磨材料难加工的硬脆材料比如蓝宝石,碳化硅,氮化镓和氮化铝可加工尺寸尺寸:直径2-12英寸可加工最大厚度:20mm(包含基座)

用基座显微镜及三目摄像头观察磨削平面上的玻璃微管接触。此型号使用稳定输出的微型电机，这是为减少磨削平面不规则运动制作的。PG-22C标配总放大倍率50X和100X的显微镜观察系统，用于观察玻璃微管与磨针仪磨盘的接触情况，提高磨削的准确性。磨针仪PG-22C磨盘为金刚石研磨砂纸磨盘，可选多种颗粒度（1um，3um，5um等）的磨盘，标配1um颗粒粗糙度的磨盘。此型号提供稳定范围的转速-从低速度到更快的磨削转速性能。操作方便的微调轴移动机械手，可用于微管在Z轴方向对微电极等进行微调移动，研磨准确性好。量角器安装在微操作手基座上，便于设定所需的磨削角度，也可进行垂直磨削。玻璃毛细管磨针仪（Micropipette Grinder）：PG-22C磨针仪提供一个光学平面的磨盘，在显微镜下硼硅酸盐玻璃移液管（玻璃微电极、显微注射针、颗粒/细胞捕获针、显微切割针等）与磨盘接触，以一定的转速，将目标物制作成锋利的前端，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，减小微电极的电阻、注射针易于刺入细胞因而对细胞的破坏小、减少切面的毛刺等。MPI磨针仪的电动机减少了磨面上的不规则运动，通过显微操作手移动使玻璃微电极等和磨面之间的接触磨削准确稳定。可调的磨削转速，良好性能的运行电机，使得设备在低速或高速运行下都能提供稳定的设定转速，保持实验样品处理的均一性及可重复性。本系列磨针仪提供一个微操作器，可以在Z轴方向对微电极等进行粗调和微调移动。同时，微电极架上配有量角器，可以方便设置需要的研磨角度等数据。本系列设备配有LED灯光模块，可以依据针尖在显微镜观察系统中直接观察针尖与磨盘的接触情况，也可以通过三目摄像头与电脑连接后，通过摄像头软件实时观察研磨针尖过程。

纳米研磨乳化机主要针对纳米物料在工艺过程中产生的团聚颗粒的进行充分的粉碎研磨、分散乳化，以及细胞破碎、精细化工等细化要求较高的物料破碎研磨及分散乳化。其主要结构如下，富莱克纳米分散乳化机转定子是有几百至上万颗凹凸不平齿牙在工作腔内交错排列、精密配合而成，而且齿牙的剪切表面积比转定子的平面积大出2倍以上，物料经过这个犬牙交错、高低不平既精致又狭窄的通道时必须承受几千万次的强力剪切、高速相撞、粉碎研磨、高频振荡，所以这种转定子的齿牙三角形犬牙式设计是粉碎分散乳化设备中精度最高、制造最难、效果最好的设备之一，而且细度高、稳定性好，最小细化可达0.05μm.

UNIPOL-1204自动精密磨片机，适合医学硬组织切片的研磨，尤其适用于研磨带有嵌入物（金属、陶瓷、塑料、矿物质等）的医学组织切片研磨抛光。自动化磨片，且在磨片过程中对研磨厚度进行实时数字化监测；自动化磨片，且在磨片过程中对研磨厚度进行实时数字化监测；可以对包埋样本进行粘接面的研磨修饰，使其平整，为薄片切割做准备；可以对薄切片进行研磨抛光，达到染色和其它显微分析的要求；高的平整度和精度；压力可调节、厚度实时检测；安全稳定，无噪音，配件耗材更换方便；产品名称 UNIPOL-1204自动精密磨片机产品型号 UNIPOL-1204主要参数 1、电源：220V，500W（不含真空泵）2、磨片最小厚度：≤10μm3、磨片最大尺寸：100×50mm4、初始片厚度：≤1㎜5、数字显示精度：1μm6、进给方式：重力进给（进给量≤0.001mm）7、磨盘转速：10-200rpm8、样品台摆动档位：20档（20种摆动速度）9、磨盘直径：300mm (金刚石磨片或砂纸更换400#、600#、800#、1000#、1500#)10、配重：450g11、样品固定方式：载玻片真空吸附12、设备尺寸：652×700×640mm13、设备重量：70kg

锻磨针仪（Microforge-Grinding System）锻磨针仪作为玻璃微管再加工设备，具备对玻璃微管进行精细研磨和锻造抛光等功能，其特点为一个显微观察系统中，具有磨针模块和锻针模块。MPI微科精密锻磨针仪，既可以实现对玻璃微针精细研磨斜切口、平口等，也可以实现对玻璃针尖热断口、电极抛光、弯曲针尖、锐化拉尖、热封接等操作。锻磨针仪PGF-22C的磨针模块中提供一个光学平面的磨盘，在显微镜下硼硅酸盐玻璃移液管（玻璃微电极、显微注射针、颗粒/细胞捕获针、显微切割针等）与磨盘接触，以一定的转速，将目标物制作成锋利的前端，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，减小微电极的电阻、注射针易于刺入细胞因而对细胞的破坏小、减少切面的毛刺等。微科精密MPI供应的锻磨针仪PGF-22C的锻针模块中，加热丝和玻璃微针夹持杆均可以多角度调节和三维移动，加热量通过数显直观实时显示，更加精准。配备脚踏开关，方便操作。双LED照明光源，背景亮度和微针轮廓亮度独立可调，使得微针加工过程中在显微镜观察系统100倍以上的放大倍率下，依然可清晰操作。

ASAP-1选择性区域精密抛磨机每一个实验室都需要一个精确的，重复性好的开封 , 背面/正面研磨的机器。这对Flip-chip power chip,PQFP S-CSP, BGA, MCM packagestyles and most otherstyles 器件简便和准确的分析更为重要。产品特点:1.Z 方向精度可达 5 微米 (1 微米为可选件 )。2.适用于各种封装形式和 WAFER 水平,各种尺寸的 DIE。3.机械式开封 (on S-CSP, BGA, flip chip, power device, MCM package styles and most other styles)。4.精确的开封后,再精细研磨。5.简便的操作和使用。6.桌面放置，使用安静，方便。

仪器介绍臼式研磨仪主要应用在研磨 均质 粉碎，是实验室进行样品制备的主要设备。此系统适用于任何干燥样品的精密研磨，也适用于分析、质控和材料测试时，不同粘度的悬浮物质的研磨。它是极其适用于乳酪和糊状物的均质。 通常进料样品的大小尺寸为8-10mm..一批总量达到200ml. (样品量区取决于样品的特性)，可研磨到 0-20m 。可以应用在各种食品 土壤 动物食品 玉米 豆 奶油 乳胶 矿产品 玻璃 陶瓷 水泥熟料。技术参数最大进料尺寸:10mm终端细度:10µ m大约重量:34Kg容量:10 bis 200ml速度范围:可调的 50-130 rpm研磨时间调整:1-99 min / cont.臼杵压力设置:可调的功率:0,18KW产品特点5种不同的研磨介质可用-3种不同刮刀材质可用-快速和极其容易清洁-可变速度设置50-130 rpm-数字时间设置-数字速度设置-无需工具打开仪器-无需工具移走臼杵-无需工具移走臼-防尘研磨仓

ASAP-1选择性区域精密抛磨机每一个实验室都需要一个精确的，重复性好的开封 , 背面/正面研磨的机器。这对Flip-chip power chip,PQFP S-CSP, BGA, MCM packagestyles and most otherstyles 器件简便和准确的分析更为重要。产品特点: * Z 方向精度可达 5 微米 (1 微米为可选件 )。 * 适用于各种封装形式和 WAFER 水平,各种尺寸的 DIE。 * 机械式开封 (on S-CSP, BGA, flip chip, power device, MCM package styles and most other styles)。* 精确的开封后,再精细研磨。* 简便的操作和使用。* 桌面放置，使用安静，方便。

OMSX系列手动数显平移台产品说明：OMSX系列手动数显平移台是OMTOOLS红星杨科技多年积累经验研发生产的中等尺寸、中等行程的精密平移台， 主体材料采用经过特殊工艺制造的优质合金铝，并采用精密研磨丝杠，配合红星精密线性滑块导轨及高精度数显标尺、确保产品使用于复杂环境的应用领域。产品系列化程度高、通用性强、组合方便，适用于使用频率较低，中等行程的调整，且可随机读取行程变化量，是性价比超高的平移台产品。 产品特点：■U型铝合金底板精加工，表面阳极氧化处理，耐磨性好、外形美观■采用精密研磨丝杠，可实现较高的定位精度■采用精密线性滑块方导轨，配合我公司特有的精密磨削工艺，能有效保证平移台的直线度、平直度等指标■调整平台时使用带刻度旋转手轮，可实现精密微调■配置数显标尺，可随机读取行程变化量产品选型表： 型号OMSX50OMSX100OMSX200OMSX300机械规格台面尺寸(mm)120X120行程(mm)50100200300螺距(mm)3333导轨（导向机构）方形滑块导轨主体材料铝合金表面处理黑色阳极氧化处理自重（Kg）4.44.75.66.5移动精度直线度（um）30354045最大承载力矩俯仰（N.m）7.87.87.87.8转动（N.m）5.85.85.85.8扭矩刚度俯仰（‘’/N.cm）0.250.250.250.25转动（‘’/N.cm）0.50.50.50.5平行度（um）50556065负载承载能力（Kg）10101010

LB-TRY-100土壤样品研磨仪土壤样品研磨仪是混合、细磨、小样制备、纳米材料分散、新产品研制和小批量生产高新技术材料的必备装置。该产品体积小、功能全、效率高、噪声低。主要用于地质、土壤、环保、第三方检测等部门的土壤分析前处理研磨。工作原理：土壤样品研磨仪是混合、细磨、小样制备、纳米材料分散、新产品研制和小批量生产高新技术材料的必备装置。该产品体积小、功能全、效率高、噪声低。主要用于地质、土壤、环保、第三方检测等部门的土壤分析前处理研磨。土壤样品研磨仪是在同一转盘上装有四个研磨罐，当转盘转动时，研磨罐在绕转盘轴公转的同时又围绕自身轴心自转。罐中磨球在高速运动中相互碰撞，研磨和混合样品。该产品能用干、湿两种方法研磨和混合粒度不同、材料各异的产品，研磨产品zui小粒度可至0.1微米（即1.0×10mm-4）。1土壤样品研磨仪主机1台，研磨罐4只。2. 传动方式：采用zui先进的进口(瑞士)传动装置（噪音小），自动精密配合，无需手工调节；且使用寿命可长达10年（如出现传动装置问题，10年内免费更换），真正做到一劳永逸。该产品的核心部件是内嵌的4根圆柱形橡胶条，该橡胶条具有记忆功能，不易变形。臂和座之间zui大可以扳转+/-32度，当传动装置松动变长时，臂能自动回弹，使得传动装置始终处在精密配合状态。3．干磨或湿磨均可，一次可研磨两个样品或四个样品，装样量为：研磨罐容积的三分之二。4．提供10种以上不同材质的研磨套件(研磨罐与研磨球)。5．压力可以设置(通过旋钮)，数字式定时。6．转速：公 转： 50-400转/分钟 自 转： 100-800转/分钟7．研磨室设计密封防尘，带观察窗。8．zui大进料粒度：土壤料≤10mm。9．zui小出料粒度：zui小可达0.1um(即1.0×10mm-4)，粒度可以控制。10．研磨罐材质有：硬质钢、不锈钢、碳化钨、玛瑙、烧结刚玉、氧化锆、硬瓷、尼龙、聚氨酯、聚四氟乙烯、碳化硼研磨罐等，与介质接触的材质均不能给介质带来污染。11．zui大连续工作时间(满负荷)：90小时， 定时总时间为: 9999分钟，交替运行定时时间为：1-999分钟。12．控制方式：按键（LED显示）或触屏，变频无级调速、程控控制，手动、自动定时正反转，定时关机。13．土壤样品研磨仪电机转速：0-1400rpm、功率0.75kw、电压220V、50HZ。14．土壤样品研磨仪规格（每台的总容量）：0.2L、0.4L、0.6L、1L、2L、4L、等。青岛路博公司为您提供全面的技术支持和完善的售后服务。

主要用途：YP-2L 土壤研磨仪 主要应用于土壤、地质、环保、第三方检测、农牧业、农产品质量、资源与环境等，土壤制样、重金属分析。YP-2L 土壤研磨仪 是混合、细磨、小样制备、新产品研制和小批量生产高新技术材料的必备装置。该产品体积小、功能全、效率高、噪声低（每次实验可同时获得四个样品）。工作原理：YP-2L 土壤研磨仪 是在同一转盘上装有四个研磨罐，当转盘转动时，研磨罐在绕转盘轴公转的同时又围绕自身轴心自转。罐中磨球在高速运动中相互碰撞（具有撞击力、剪切力、摩擦力），研磨和混合样品，研磨出的样品最小粒度可至0.1微米（即1.0×10mm-4）。本设备能干、湿两用，研磨、混合粒度不同、材料各异的样品。技术参数设备厂家：山东优云谱光电科技有限公司产品名称、型号：土壤研磨仪 YP-2L应用领域：土壤、地质、环保、第三方检测、农牧业、农产品质量、资源与环境等，土壤制样、重金属分析。应用样品特征：脆性的，纤维性的，中低硬度的，干磨或湿磨。仪器机械处理原理：撞击力、剪切力、摩擦力。仪器机械处理类型：粉碎、研磨、混合、均一化。研磨室设计：密封防尘，带观察窗。同时处理样品种数：4种。研磨罐容积：500ml（4个研磨罐为一套）。最大进样尺寸：土壤12mm 其他3mm。研磨罐配球量：罐子容积的三分之一。最大装样量：研磨罐容积的三分之二。出样粒度：最小可达0.1um(即1.0×10mm-4)。研磨罐材质：玛瑙、陶瓷、聚四氟乙烯、氧化锆、聚氨酯、不锈钢、尼龙、碳化钨、硬质合金等可选（标配玛瑙研磨罐）。研磨球材质：玛瑙、氧化锆、不锈钢、陶瓷、硬质合金、碳化硅等。研磨球直径：3、5、10、15、20mm（标配两种、也可根据需要配置）。主盘转速：50-450min。研磨罐转速：100-900min。传动比（行星盘、研磨罐）：1：2。核心传动系统：标配（选用先进的进口(瑞士)传动装置（噪音小），自动精密配合，无需手工调节；且使用寿命可长达10年（如出现传动装置问题，10年内免费维修或更换），真正做到一劳永逸。该产品的核心部件是内嵌的4根圆柱形橡胶条，该橡胶条具有记忆功能，不易变形。臂和座之间最大可以扳转+/-32度，当传动装置松动变长时，臂能自动回弹，使得传动装置始终处在精密配合状态。）控制系统：变频按键、液晶触摸屏（选用远程控制，连接网络，用手机、电脑实时监控，随时可以操作仪器）。显示方式：显示频率、显示转速。运行模式：单向（正转）、交替（正反转）、定时停机。连续运行时间设定：1～9999分钟。交替、单向间隔暂停时间设定：1～9999分钟。可连续工作（满负荷）：90h。紧急停机：有。断电记忆功能：有。过载保护功能：有。电源端口：国标、欧标、美标、英标等。电机转速、功率、电压：1400rpm、0.75kw、220V±10%单相，50/60Hz。净重：80kg。尺寸（长宽高）：710*410*450mm。噪声描述：60dB。防护等级：IP60。标准配置：研磨仪主机：1台、玛瑙研磨罐：4个、研磨球：每个罐子配三分之一容量、压杆：1套4个、电源线：1根、说明书：1本、保修卡：1张、合格证：1张。

HQ-260为高精度精密设备，通过水平的三根辊筒的表面相互挤压及不同速度的摩擦而达到研磨效果。三辊研磨机是高粘度物料最有效的研磨、分散设备。加工产品细度＜10μm，可进行无极调速，连续设定运转速度。配置减速装置，增加了运转扭矩，更适合高粘度物料的研磨分散。● 高精度研磨（最小精度可达 5um 以下，视物料固有性质而定）● 精密打磨抛光易清洁滚筒● 手动调节间隙● 配备防尘罩，也可选配加料斗产品参数：处理量：0.01-8L/h设备功率：120W滚筒直径、长度：50mm、200mm滚筒转速比：1:2:4滚筒材质：ZrO₂