抛光轮

保养套件 抛光轮工作电极 6.1257.2XX 保养工具的备用抛光轮订货信息：货号描述6.2802.210Abrasive paper disc for 628022006.2802.200Abrasive set compl. for 612572XX6.1612.003Absorber Tube Complete6.1612.013Absorber Tube, Lower Part6.1612.020Absorber Tube, Top Part

保养套件 6.2802.200 的抛光轮 订货号: 6.2802.210工作电极 6.1257.2XX 保养工具的备用抛光轮。

保养套件 6.2802.200 的抛光轮Polishing disks for 6.2802.200 maintenance set订货号： 6.2802.210工作电极 6.1257.2XX 保养工具的备用抛光轮

工作电极 6.1257.2XX 的保养套件订货号: 6.2802.200用来清除多余 PEEK（聚醚醚酮）材料的工具，并之后用来抛光工作电极包括抛光轮。

工作电极 6.1257.2XX 的保养套件Maintenance set for 6.1257.2XX working electrodes订货号： 6.2802.200用来清除多余 PEEK（聚醚醚酮）材料的工具，并之后用来抛光工作电极包括抛光轮。

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

手动笼式滤光轮1）与笼式系统和转接管系统相兼容2）可装配25mm滤光片3）6个分散的滤光片安装位置TECHSPEC® 手动笼式滤光轮可实现最多六个25mm直径的滤光片之间无缝过渡，滤光轮与TECHSPEC® 笼式系统和TECHSPEC® 转接管系统相兼容，功能多样。TECHSPEC® 手动笼式滤光轮可装配厚度高达5mm的光学元件。这款手动滤光轮非常适用于显微镜，实验室或成像应用。注意：TECHSPEC® OD 4硬镀膜滤光片适合与25mm手动滤光轮搭配使用。技术数据兼容光学直径 (mm)兼容光学厚度 (mm)产品号255#34-545订购信息：Manual Cage Filter Wheel库存 #34-545兼容光学直径（mm）：25.0基座宽度（mm）：52.0透孔CA（mm）：23.4高度（mm）：96.0安装螺纹：M6过滤器数量：6外径（mm）：86.0厚度（mm）：26.0兼容光学厚度（mm）：5RoHS：符合标准

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

抛光布可与金刚石复合抛光液，金刚石喷雾，氧化铝悬浮液配合使用硬抛光织物：弹性小，用于粗糙的半成品的抛光。软抛光织物：弹性好，低绒，用于样品的最终抛光。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称，是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

金相抛光布是金相制抛光工序最重要的一步，其金相组织呈现的清晰度与抛光息息相关，抛光质量的好坏与抛光布也有紧密的关系。金相抛光布规格有φ200mm；φ220mm；φ230mm；φ250mm及其它定制规格；带背胶或不带背胶。金相抛光布规格有：帆布、平绒、丝绒、真丝、丝绸、呢绒、法兰绒、精抛绒等。

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

磨光用抛光布：与金刚石悬浮液配合使用、材料去除率高、边缘保护好。抛光用抛光布：与氧化物悬浮液配合使用，无材料去除、表面应力划痕去除。

专用于岩石薄片抛光时使用、其配合抛光料一齐应用效果更佳，抛光布质地结实、外表美观大方，结实耐用，适用于各种岩石薄片制备时使用，一包10张，各种尺寸抛光布：分常规性、粘贴性、磁吸性。直径有Q200、Q250、Q300

M5-2100抛光机，用于手动样品制备，单盘无级调速式研磨、抛光多用机。调速范围为25-500转/分钟。可实现试样从粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的整个制样过程。台式结构，可放于工作台上。外形小巧，采用不锈钢外壳。磨盘直径：Φ203mm 尺寸：宽381 x深660 x高229 mm 重量：65 kg

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态！窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。简单的抛光既有效又经济。包括完整说明和所有易损件的更换。订购信息04000：窗片抛光工具套件窗片抛光工具包括下面列出的项目（每个项目可单独订购）04030：光学平台(玻璃平板)04070：玻璃抛光圈抛光绒布04010：抛光绒布（5片）04020：平滑圈研磨纸04090：备用研磨纸（平滑圈用）04040：聚乙烯瓶（2支）04050：清洁海绵04060：红铁粉（75g）04080：非粘性绒布平条（2片）04095：毛刷（2把）

名称型号规格价格（元） 电极抛光材料（美国进口） 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉（4.5g）1000.3微米抛光粉（4.5g）1000.05微米抛光粉（17g）150抛光绒布（张）40尼龙抛光布（张）40金相砂纸（张）15

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。请点击此处，登录耗材商城查看抛光布的详细型号和应用。

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。