1.机械抛光是一种古老而又最具实用价值的抛光方法,可分为粗抛、中抛和精抛3类: 粗抛是用硬轮对制品表面进行磨削、磨光或研磨,因此粗抛也称为研磨或磨光。它主要用来除去零件表面的毛刺、划痕、锈痕、氧化皮、砂眼、气泡、焊瘤、焊渣和各种宏观的缺陷,以提高表面平整度和降低表面粗糙度。粗抛后的制品表面只能达到平整到平滑的程度,并不能得到光亮的表面,其表面粗糙度在数微米至数百微米之间。 中抛是用较硬的抛光轮对经过粗抛的表面进一步的加工,除去粗抛时留下的划痕,产生平滑至中等光亮的表面。其表面粗糙度在零点几微米到数微米之间。 精抛是抛光的最后一道工序,它是用涂有抛光膏的软轮对零件表面进行加工的方法。由于它是在已经比较平整的表面上进行的,它可以进一步降低表面粗糙度,已达到微观整平的目的,因而可以获得十分光亮的表面,而且抛光时对基材没有明显的磨耗,其表面粗糙度可达到0.01μm左右,可以真正达到镜面效果。2.机械抛光的机理: 机械抛光时,抛光机上的抛光轮在作高速旋转,操作者将被抛光的制件表面以适当压力按压在抛光轮上,这时因摩擦作用而产生高温,使被抛光表面容易发生变形而形成一层“加工变质层”。在旋转着的摩擦力的作用下,一方面表面的某些凸出部分被削去,同时金属制件表面也会产生塑性变形,凸起部分被压入,或移动一段距离后填入凹陷部位。这种削凸填凹的整平过程,以高速度大规模地反复进行,加上抛光膏地光亮化作用,结果就使原来较粗糙地制件表面,变得平滑而光亮。
稀土元素中的哪种或者哪几种元素+硫酸美+树脂发生化学反应,形成晶体且晶体的体积增大?主要是用于合成玻璃抛光轮。请问哪位大侠帮我找下上述的稀土元素。。谢谢
制作样品时,方法不同的影响?铝用砂纸砂轮或车床抛光面,效果一样吗!铁,铜呢?
抛光机是什么呢?其实我也不怎么懂的。抛光机是不是把地面抛的光光的机器啊。还是让我们就来读读这篇文章看看到低是怎么一回事吧。抛光机操作安全:一、使用高速抛光机前:应对环境做以下检查;操作者的手、脚要远离旋转的抛光头;操作者不得踩住电源线或将电源线缠入抛光头内;操作者必须安全着装;抛光区域不得超过电源线的长度;操作者不得擅自将操作手柄脱手,停机时必须在高速抛光机完全停止旋转后,方可松开手柄;不能使用粘有灰尘、污垢的抛光垫抛光;积垢太多的抛光垫无法清洗干净时,用及时更换;更换、安装抛光垫时,必须切断电源。 二、高速抛光机的存放:切断电源;向后倾斜,后轮着地存放;不得在室外存放,并应存放在干燥处。三、发现以下情况,不得使用高速抛光机操作者未受过专业培训,操作者未学习过“安全操作”,高速抛光机运转不正常
1 机械抛光 机械抛光是靠切削材料表面塑性变形去掉被抛光物质而得到平滑面的抛光方法,以手工操作为主,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。光学镜片模具常采用这种方法。2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中部分需要处理的表面溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点可以同时抛光很多工件,效率高。同时不需复杂设备,化学抛光的关键是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。3 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。电化学抛光过程分为两步:第一步是宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降, Ra > 1 μ m 。第二步是微光平整 阳极极化,表面光亮度提高, Ra < 1 μ m 。4 磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制,工作条件好。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到 Ra0.1 μ m 。5 流体抛光 流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。流体动力研磨是由液压驱动,使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。6 超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。在溶液腐蚀、电解的基础上,再施加超声波振动搅拌溶液,使工件表面溶解产物脱离,表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程,利于表面光亮化。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。
BS EN 792-8-2001 手持非电动工具.安全要求.砂轮机和抛光机
机械抛光的磨料通常为抛光粉和抛光膏、常用的施光粉为Al2O3、Cr2O3 ,它价格便宜,适用性强。 抛光膏一般是人造金刚石为好,抛光效果理想,但价格贵,不适合大专院校的学生实验用。笔者使用的是Al2O3抛 光粉,由于经验不足,制成悬浮液的稠稀适度和在抛光时倒入量掌握不好,加之悬浮液易使粒度不均,抛光效果也不理想,且浪费大。为了改变抛光粉的使用状况,笔者进行了一些探讨。金刚石抛光膏之所以抛光效果好,不仅是金刚石磨料硬度高,尖角锋利,还由于将粉制成膏剂后可以沾嵌在抛光织物上,有利试样的磨面接触磨料磨削,这样即可抛出理想的试样,浪费也少。根据抛光膏的原理,我们将Al2O3抛光粉配制成抛光膏。使用方法同研磨膏一样。使用效果良好。配制方法:将10ml甘油+6g 硬脂酸+60ml水混合加热完全乳化后,再加入100g Al2O3粉,不断搅拌直至冷到室温即可。还可加人少量油酸,以增加其润滑。
目的为去除金相磨面上因细磨而留下的磨痕,使之成为光滑、无痕的镜面。金相试样的抛光可分为机械抛光、电解抛光、化学抛光三类。机械抛光简便易行,应用较广。 (1)机械抛光 机械抛光是在专用的抛光机上进行的,抛光机主要是由电动机和抛光圆盘(Ф200~300mm)组成,抛光盘转速为200~600r/min以上。抛光盘上铺以细帆布、呢绒、丝绸等。抛光时在抛光盘上不断滴注抛光液。抛光液通常采用Al2O3、MgO或Cr2O3等细粉末(粒度约为0.3~1μm)在水中的悬浮液。机械抛光就是靠极细的抛光粉末与磨面间产生相对磨削和液压作用来消除磨痕的。 操作时将试样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上,并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动。抛光时间一般为3~5min。抛光后的试样,其磨面应光亮无痕,且石墨或夹杂物等不应抛掉或有曳尾现象。这时,试样先用清水冲诜 ,再用无水酒精清洗磨面,最后用吹风机吹干。 (2)电解抛光 电解抛光是利用阳极腐蚀法使试样表面变得平滑光高的一种方法。将试样浸入电解液中作阳极,用铝片或不锈钢片作阴极,使试样与阴极之间保持一定距离(20~30mm),接通直流电源。当电流密度足够时,试样磨面即由于电化学作用而发生选择性溶解,从而获得光滑平整的表面。这种方法的优点是速度快,只产生纯化学的溶解作用而无机械力的影响,因此,可避免在机械抛光时可能引起的表层金属的塑性变形,从而能更确切地显示真实的金相组织。但电解抛光操作时工艺规程不易控制。 (3)化学抛光 化学抛光的实质与电解抛光相类似,也是一个表层溶解过程。它是一种将化学试剂涂在试样表面上约几秒至几分钟,依靠化学腐蚀作用使表面发生选择性溶解,从而得到光滑平整的表面的方法。
1.氧化铝,是广泛应用的磨料,它有高的硬度,莫氏硬度达9,有低的化学反应能力,与被磨制的材料一般不起化学反应.它可制作砂轮、砂带、砂纸等用于磨光,制作散装的细粉或罐装研磨用于抛光,均有良好的效果。2.金刚石磨料具有极高的硬度,莫氏10,颗粒尖锐锋利,有良好的磨削作用,是很理想的抛光磨料。这种磨料有三个优点:1)磨料硬度极高而且极尖锐,无论对软的或硬的材料都具有良好的磨削作用。合金组织中如果有软硬相差悬殊的不同相,用金刚石粉抛光可以得到良好的结果。如铸铁中的石墨,钢中的夹杂物,钢表面的硬化层,镀锌钢板以及复合材料等,用金刚石粉抛光可以得到其他磨料所得不到的良好的结果,此外如硬质合金只有用金刚石粉才能有效的抛光。2)磨料基本上是纯粹的磨削作用,而无滚压作用,所以试样表层形变扰乱金属层基本不产生。3)磨粒的切削寿命很长,切削能力很高,所以磨料消耗极少,制备的样品又好。金刚石粉是天然金刚石的下脚料或人造金刚石制成的,粒度一般在45-0.25um之间,15um以下适用于金相抛光。使用较多的是10um,6um,3um和1um.目前,散装金刚石粉用作金相磨料者很少,多半制成研磨膏使用。金刚石研磨膏是硬脂酸、三乙醇胺、肥皂乳剂(润湿剂)和金刚石粉制成的。待续……
[color=#DC143C][size=4][font=黑体][center]手工抛光到自动抛光能否代替一个质的飞跃[/center][/font][/size][/color] [color=#DC143C][font=楷体_GB2312][center] Lylsg555[/center][/font][/color] 凡是做金相分析的朋友都知道,要想在显微镜下获得一个良好的,清晰的观察面,试件的抛光制备是最为重要的。试件的抛光是件不容易的事情,要考虑到多方面的因素,如抛光织物的选择,抛光磨料的选择,抛光的旋转速度及抛光手给予试件压力的大小。而且还包含了人的因素,个人技术,个人在抛光中的偏好等等。 手工抛光最主要的要求是试样面没有划痕,凹坑,光亮如镜,为此许多检验人员在抛光上下了很多功夫,技术达到了炉火纯青的地步。 现在随着科学进步和先进设备的快速发展,在金相领域的制样方面,现代化的自动抛光设备也孕育而生。有进口的,国产的。虽然我还没有接触过这样先进的设备,但从各方的介绍来看,基本上以都是电脑程序控制,自磨自抛,自动送磨料,自动定时等等,大大地提高了工作效率,解放了劳动力。 然而,这是否就意味着自动抛光将取代手工抛光呢?理论上,试件在抛光后期,对手持试件旋转的方向,手给予试件的压力大小都有严格的要求,如稍微操作不当,便可产生划痕,尤其是在分析金属夹杂物方面,会产生“曳尾”现象,给分析带来麻烦。因为自己没有操作过自动抛光机,带着这个疑问,查找了一些文献资料。从资料方面来看,进口产品似乎可以达到要求,国产的就存在出现划痕现象。且存在着抛光质量的问题。 手工抛光到自动抛光能否代替一个质的飞跃?我想每个人都有自己的答案,尤其是使用过自动抛光设备的朋友是最有发言权的。不是吗? 2008.6.17
我们实验室抛光剂就是氧化铝,抛光布一种红色的,一种黑色的,请问这有什么区别哦,问了只是说黑的适合磨铝合金,红的适合磨其他硬的金属,还有这个腐蚀剂应该怎么选,比如 NiV AlCu AlCr AlNd 这些合金应该用什么抛光布抛光剂,腐蚀剂,砂纸用是不是必须#01到#10,中间跳过几号会不会影响效果?
MultiPrep™ 配套研磨设备http://www.zxbairui.com/UploadFile/2007131172846698.jpgMultiPrep™ 系统适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,etc)样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光,精确角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性,可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品,保证只有样品面与研磨剂接触。 TechPrep™ 为MultiPrep™ 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep™所有功能。研磨盘转速范围(顺/逆时针)为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外,还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准;自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。特点:测微计控制样品的设置精确轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转。数字千分表显示样品行程,增量1微米。(实时)双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),10°幅度, 0.02° 增量。6倍速样品自动摆动。8倍速样品自动旋转。样品调整范围:0-600克(100克增量)数字记时器与转速计凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置工作夹具。
用金相抛光机进行抛光时,用什么样的抛光剂抛出来的样比较好
氩离子切割技术是一种利用宽离子束(〜1mm)来切割样品,以获得宽阔而精确的电子显微分析区域的样品表面制备技术。一个坚固的挡板遮挡住样品的非目标区域,有效的遮蔽了下半部分的离子束,创造出一个侧切割平面,去除样品表面的一层薄膜。氩离子抛光技术是对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在 SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。氩离子抛光技术是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域性创新发明。机械研磨抛光技术与氩离子束抛光技术的比较: 机械研磨抛光 vs 离子束抛光 ×有限的硬,固体样品 P适合各类样品 o硬度较大金属材料 o软硬金属材料皆可 o硅和玻璃 o同一样品含软硬不同材料 o半导体(铝/宽/高k电介质 o多孔材料 o矿物质(干) o湿或油性样品:油页岩 o有机物data:image/png;base64,iVBORw0KGgoAAAANSUhEUgAAAAEAAAABCAYAAAAfFcSJAAAAAXNSR0IArs4c6QAAAARnQU1BAACxjwv8YQUAAAAJcEhZcwAADsQAAA7EAZUrDhsAAAANSURBVBhXYzh8+PB/AAffA0nNPuCLAAAAAElFTkSuQmCChttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191701_669442_3156028_3.png氩离子抛光/切割的优点http://www.gmatg.com/vr/zbjy888/Resources/userfiles/images/20140215_220137.jpg机械抛光的缺点相比较下氩离子抛光的优点:(1)对由硬材料和软材料组成的复合材料样品, 能够很精细地制作软硬接合部的截面, 而使用传统方法制样是很困难的。(2)比FIB方法的抛光面积更大(~1mm以上)。氩离子切割抛光制样具体应用领域有: EBSD样品 光伏、半导体 金属(氧化物,合金) 陶瓷 地质样品、油页岩 高分子、聚合物 CLEBSD制样最有效的方法------氩离子截面抛光仪随着电子背散射技术(EBSD)的日益广泛应用,EBSD样品制备的新技术、新设备也相继出现。样品制备技术也由传统的机械-化学综合抛光,电解抛光丰富到FIB,以及目前广泛应用的氩离子截面抛光仪。传统的机械抛光不能有效去除样品表面的变形层,即使经过反复的研磨,也会出现再次变形的可能,即伴随着消除严重变形层又有形成新的变形层的可能,而且机械抛光的同时还会造成对样品的表面划痕与损伤,大大影响了EBSD试样的效果。电解抛光是靠电化学的作用使试样磨面平整、光洁,一般处理大批量的EBSD试样首选电解抛光。电解抛光可以非常有效的去除表面的氧化层和应力层。不同材质电解抛光工艺不同,需要摸索合适的抛光剂,原始的抛光剂可以在文献和一些工具书中找到,然后需要进行大量的试验,
请教各位大虾,熔片用的铂金坩埚怎样抛光?用什么抛光(抛光膏)?哪有卖的?大概价钱
最近在做金相检验抛光时碰到两个问题,1、做非金属夹杂抛光时,比较难抛到无杂质,有时区分不开是由于抛光问题 还是试样问题2、在做铸铁试样检查石墨形态时,一直有很多细小夹杂,多次冲洗、轻抛都不 理想。不知各位是否有什么小窍门,大家分享一下。
我新近购买了一台江南光友显微镜,却因为抛光方面的问题导致无法真正投入生产,请教有做铝合金金相的指教抛光方法。
抛光液化学组成为1%HN O3+1%B TA+0.2%H2O2较适宜.研究了腐蚀介质硝酸、成膜剂苯并三唑、H2O2、磨粒g-A12O3的浓度、抛光压力及抛光转速对铜化学-机械抛光速率的影响,解释了各种因素的影响机理. 配方0.1%甲胺溶液+0.5%K3Fe(CN)6+5%Al2O3可行.
我们想买自动抛光仪,手动抛样每天的工作效率提不上去,有用过自动抛光仪的没?抛样效果怎样?
我单位为理化检测中心,进口丹麦的全自动抛磨机,一般常用国产抛光布都不太好用,有较好抛光布卖家可联系。要求:φ250,带背胶李先生029-83202909liwanchun1999@126.com有意向电话、站内短信或E联系,E请附带具体型号、价格。
在进行样品抛光时,抛光机上所使用的材质有哪些?如我们采用的是粗、细呢子布进行抛光。
一、 用途该机是将试样预磨和抛光操作结合为一体的经济机型,转盘通过带轮的转速比获得不同的转速,从而实现磨抛功能,是中小企业试样制作的理想设备。二、结构特征概述 该机左盘为预磨盘,右盘为抛光盘。预磨时,通过回转水咀将冷却水不断注入旋转的磨盘中,砂纸在大气压的作用下可以紧贴在磨盘上,从而不须将砂纸粘结或夹紧。抛光时,可将抛光织物平铺在抛光盘上,然后用扣圈扣紧织物,再进行抛光,织物和抛光盘都可及时方便的更换。三、技术参数1、磨盘直径: 230mm;抛盘直径: 200mm 2、磨盘/抛盘转速:450r/min、600r/min3、电动机:550W 380V 50Hz4、外型尺寸:690×715×310mm5、净重:55Kg四、主要附件1、磨抛主机 1台2、排水管 1根,3、进水管 1根,4、抛光织物 1片5、金相砂纸 2张 P-2G型金相试样抛光机 在金相试样制备过程中,试样的抛光是一道主要工序,经过磨光的试样,在抛光机上抛光后,可获得光亮如镜的表面,P-2G型金相试样抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的,它具有传动平稳,噪音小,操作维修方便等优点,能适合更多种材料的抛光要求。该机适用于厂矿企业、大专院校、科研单位的金相试验室,是试样抛光的极佳设备。P-2G型金相试样抛光机主要技术指标1.抛盘直径:∮230mm2.转速:1400r/min,900r/min(订制)3.电源:380v、50Hz,220v、50Hz (订制)4.外形尺寸:810×470×980mm5.净重:74Kg 一、 产品介绍:QG-4A型多能切割机,主要是用来切割圆柱体和多角形及有凸凹等不规则型材的试样,该机是采用全封闭结构,可保证在绝对安全的状态下进行切取试样,为避免在切割中试样因过热而烧伤材料组织,该机除配有强冷却系统外,可避免试样在切落时表面的微烧伤,可增大切割截面,提高切割砂轮的利用率,具有操作使用维护保养方便等优点,是切割不规则型材的极佳设备。二、主要参数: 最大切割截面: Φ65mm 砂轮片规格: 250×2×32mm 转 速: 2800r/min 电 动 机: Y1.5kW-2, 380V,50Hz 外形尺寸: 680×650×540mm 净 重: 100Kg三、产品特点:1、全封闭双罩结构,并配有透明有机玻璃观察窗。保证操作者的安全。2、采用快速加紧装置。可以切割圆柱体、多角形及有凹凸等不规则型的金属试样。3、配有强冷却系统。4、柜式结构,省去用户自己准备工作台的麻烦。5、采用低噪音防水电机,人性化设计,外观美观,噪音低,操作方便。6、冷却液配件1、新型快速夹具。全自动金相镶嵌机ZXQ-2S一、用途 试样镶嵌机是为了使那些形状或尺寸不适合的试样通过镶嵌以便满足随后的制样步骤,获得要求的检测平面;或是为了保护边缘或预防制备过程造成的表面缺陷。在现代金相实验室中,广泛使用的半自动或自动研磨/抛光机对试样尺寸有规格要求,为了适应这种要求,必须对试样进行镶嵌,因此镶嵌机已成为金相实验室中必备的设备之一。 本机属于全自动金相试样镶嵌机,具有进出水冷却的功能,适用于所有材料(热固性和热塑性)的热镶嵌,设定好加热温度、保温时间、作用力等镶嵌参数后,放入试样和镶嵌料,盖上压盖,按下工作按钮,可自动完成镶嵌工作,无需操作人员在机器旁值守。可根据不同要求的试样任意选择置换4种规格的模具,亦可同时压制二个试样,制备能力翻了一番。二、主要技术指标1.模具规格:φ22mmφ30mmφ45mm2.电源:220V 50HZ3.最大耗电量:1800W4.系统压强设定范围:0~2MPa(相对应制样压强范围:0~72MPa)5.温度设定范围:0~300℃6.保温时间设定范围:0~99分99秒7.外形尺寸:400×380×450mm8.重量:100KG9.冷却方式:水冷
想问一下BZn15-20还有H70-1该用什么抛光液呢,因为这2种合金比较软,在机械抛光之后还有大量的划痕.自己用以前给QAl9-4的抛光液抛光的时候,瞬间就发生了严重的腐蚀.所以现在想请教一下针对这2种合金该用什么抛光液
铝合金硬度比较低,制样精抛时,常常很难得到满意的抛光效果。 但如果在抛光时,用肥皂水代替清水抛光,就很容易的抛出理想的平面,对于其它低硬度金属,也同样可以采用这一方法….. ,大家不妨试试
抛光机使用的抛光布,国产哪个厂家生产的抛光布好?
尼龙抛光问题
最近在做钛合金金相,但很难抛光。抛光布是丝绒,抛光剂是金刚石(2.5μm),很难去掉划痕,稍一用力,会使试样表面产生形变或新的划痕,有做这方面的吗?想到用电解抛光,但不知道相关参数。急啊,谢谢!
这里的抛光指的是什么?在测SEM时会看见有抛光和未抛光的选项,如何选择?谢谢!还有,智能谱峰又是什么意思?我是SEM的新手,还望各位大虾多多指教。
抛光时越硬的材料是不是需要越快的转速??粗抛和细抛哪个需要更快的转速?大家有没有不同材料抛光的经验?抛光时钢铁和铝合金哪个需要更快的转速?
做铝材抛光以往都是用三酸即硫酸`硝酸`和磷酸.按照一定的配比可以得到一定程度的光亮度.但是黄烟的危害逐渐的以电解抛光而代替.铝材的稀有金属含量包含着电解抛光液所含化学成分及浓度的不同.最佳的抛光效果即是镜面状态.~~.代序~