离子膜

日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。　　离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。　　与机械抛光不同，离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此，用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大，不仅包括扫描电子显微镜（SEM），还包括原子力显微镜（SPM / AFM）等。离子铣削系统应用范围广泛，日立高新收集了用户在各种领域提供的关键性建议和改进，并将它们纳入到最 新的设计平台。　　新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能，能够进行横截面研磨，是日立离子研磨系统的独 家标志。此功能使样品能够根据所需的目的和应用进行预处理。　　ArBlade 5000还具有PLUS II离子枪技术设计。这是一种新的氩离子枪，可以实现了1mm/hr以上的截面铣削速度（日立高新的IM4000Plus型号的两倍）。新系统使用户能够在比以前更短的时间内准备横截面，包括陶瓷和金属等硬质材料，这往往需要较长的加工时间。　　此外，日立高新开发了全新的宽区域横截面研磨，以实现横截面研磨，最 大研磨宽度为8mm，从而可以制备比以往更大的截面样品。通过与下一代氩离子枪的协同效应，新的ArBlade 5000可以与市场上可用的任何其他离子系统一起制备广域横截面样品。　　主要特点　　1.能够进行横截面和平面的混合研磨系统。　　2.通过PLUS II离子枪技术设计高速氩离子枪实现1mm/hr或更高的横截面研磨速度。　　3.通过使用广域横截面研磨，实现最 大宽度达8mm的广域加工。　　4.基于采用LCD触摸面板的全新控制系统，增强了可操作性。

日立离子研磨装置IM4000 II 具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率： 与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（参考加工速率：硅元素为300微米/小时 &mdash 加工时间减少了66%。日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。特点 混合模式：两种研磨配置断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性高效：提高加工效率与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(参考加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型 -- more detail--

Dionex AQUION（AQ）IC离子色谱系统赛默飞Aquion(AQ) 高性能离子色谱仪，系统设计精良，易于操作，启动快速，性能可靠稳定，适用于环境、食品安全及研究实验室等广泛领域。Aquion 配合在线电解淋洗液发生器（RFC-30）使用可具备梯度淋洗功能。兼容赛默飞谱睿系列前处理技术：利用阀切换和电解水原理，可以用于多种复杂基体样品的在线前处理。 赛默飞Aquion 带有内置精确控温柱温箱，使用赛默飞生产的全系列高容量高效离子色谱柱，可保证色谱分析的良好精密度和稳定性。使用自动电解连续再生微膜抑制器，无需浓硫酸等强酸再生液。采用变色龙软件控制，功能强大，操作方便。 特点具有检测到ppb 级别的阴离子和阳离子的能力zui新专利Dionex ERS 电解抑制器不需要再生液 — 避免硫酸残留污染，绿色安全无需额外蠕动泵 — 避免冗余维护活塞密封圈清洗 — 极大延长密封圈寿命可选脱气功能淋洗液截止阀在线样品制备技术 高性能泵双柱塞高压泵可提供高精度，低漂移和无脉冲的淋洗液流速确保基线稳定，获得极低检出限全PEEK 流路避免了金属污染耐高压、耐酸碱，兼容0-1oo% 有机溶剂高效淋洗液脱气装置可实现淋洗液在线脱气可按需要选择连续或自动间隔运转模式 内置精确控温柱温箱配合高容量高效阴阳离子色谱柱使用避免色谱柱压力和保留时间的偏移，确保检测结果准确性和重现性采用变色龙软件控制数字型控温电导池检测频率zui高可达100 Hz，分辨率可达0.00238 nS/cm，耐压能力可高达10 MPa死体积小、高效控温，具有温度补偿功能。保证高灵敏度和稳定性带有“自动范围设定”数字控制功能，提供动态检测范围，允许一次进样同时检测高含量和低含量组分离子色谱柱技术赛默飞使用自主研发和生产的高效高容量色谱柱，可满足各种分析条件下，相关组分分离要求。具有柱效高，柱容量大的特点。可改善弱保留组分分离，对于高基浓度的体样品中痕量组分分离优势突出。可1oo% 兼容反相有机溶剂，可适应pH 范围0-14。拓宽离子色谱应用范围。使用寿命是普通分析柱的2-4 倍。赛默飞开发的系列氢氧化物淋洗液分析柱，代表了离子色谱阴离子分析的zui新发展方向。具有背景低，噪音小，灵敏度高的特点，可用于梯度淋洗和二维离子色谱等。提供专用分析柱进行糖、氨基酸、抗生素、核酸及蛋白质、肽的分析。在线淋洗液发生技术相比传统方法，使用在线电解淋洗液发生器不再需要购买价格昂贵的梯度泵，也不需要手工配制浓淋洗液。免化学试剂（RFIC）系统基于等度泵条件，组成包括在线电解淋洗液发生器，电解连续再生捕获装置和自动电解连续再生微膜抑制器。实验中仅使用高纯水——而不需要人工配制任何化学试剂！ RFIC为赛默飞的专利技术，多次荣获国际大奖（2002年匹兹堡银奖、2003年匹兹堡金奖、2005年匹兹堡银奖）。

赛默飞全新Dionex Inuvion 离子色谱系统使离子分析比以往任何时候都更简单、更直观，能够满足繁忙分析测试实验室的需求--无论什么时间、哪个班次或者哪位操作人员，都能获得始终如一的出色结果。赛默飞全新Dionex Inuvion离子色谱仪系统使离子分析比以往任何时候都更简单、更直观。设计简洁，能方便地查看所有必要的组件、管路和耗材，以简化操作和日常维护。Dionex Inuvion离子色谱系统能够让您利用更多种类色谱柱和化学试剂来加快分析速度并提高结果质量，同时提供灵活、方便的电解抑制和自动电解淋洗液发生器。Dionex Inuvion离子色谱系统有三种配置：Dionex Inuvion Core离子色谱系统、Dionex Inuvion离子色谱系统和具有免试剂（RFIC）的Inuvion离子色谱系统。这一灵活、适应性强的平台旨在让您能够随时轻松地从Dionex Inuvion Core升级到Dionex Inuvion（带RFIC）。Dionex Inuvion离子色谱系统还具有多种用户可选配件，可通过添加这些配件以满足特定的应用需求。

Thermo Scientific LTQ XL质谱与Ultimate 3000高速液相色谱系统联用，是高通量分析的最佳工具。结合多种解离技术，包括脉冲碰撞解离(PQD）和电子转移解离(ETD），LTQ XL提供最丰富的结构信息。广泛应用于蛋白质组学、代谢物鉴定、药物研发定量分析、法医和临床分析等领域。LTQ XL功能简介：1.可升级的电子转移裂解（ETD)模块可以提供传统裂解方法无法得到的蛋白质翻译后修饰信息；2.脉冲碰撞能量诱导解离（PQD)功能可以提供低质量端碎片离子信息；3.高选择MS/MS分析给谱图在数据库和谱库检索更好的匹配，提高了结构确证的可靠性。另外快速极性切换，母离子相关MS3数据关联扫描，可以对翻译后修饰和代谢物组成的鉴定进行智能、快速分析，还可以和高端的回旋共振质谱组合成最先进的多级高分辨杂交质谱仪；4.自动数据依赖性多级质谱采集技术不仅为用户提供预测代谢物（母离子列表）结构信息，也能提供未预测到的代谢物结构信息。此外使用自动固定中性丢失数据依赖性(CNL)扫描触发三级质谱扫描能检测某一类的代谢物。使用MetworksTM 和Mass Frontier分析软件增强复杂基质中代谢物筛选和鉴别功能，使谱图解析更简便。离子化技术：* IonMax离子源：ESI(电喷雾电离），APCI(大气压化学电离）和APPI（大气压光电离）探头都是基于革新的Ion Max离子源而设计。它具有超高性能，结构简单以及无需工具就可进行ESI和APCI探头更换的特点，探头在x，y，z三个方向均可调节。无论对于低流速还是高流速，都可以优化最佳位置获得最好的灵敏度。* 满足各种需要的离子源配置：ESI(电喷雾电离源），APCI(大气压化学电离源），APPI（大气压光电离源），纳喷电离源（NSI)。主要应用：* 应对代谢物鉴定和确证，LTQ系列质谱可自动查找到所有可能的代谢物。* 基于离子/离子化学的电子转移解离(ETD)，LTQ XL离子阱是实现此技术的最完美仪器。ETD与CID互为补充，提高蛋白序列覆盖率；保护不稳定PTM翻译后修饰基团，简化数据分析；单次进样自动启动CID和ETD。* 母离子智能选择：自动数据依赖多级质谱采集技术不仅能为用户提供预测代谢物（母离子列表）结构信息，也能提供提供未预测的代谢物结构信息。此外，使用自动固定中性丢失数据依赖性（CNL)扫描触发三级质谱扫描能检测某一类的代谢物。使用MetWorks和MassFrontier分析软件增强复杂基质钟代谢物筛选和鉴别功能，使谱图解析更加简便。* 应对蛋白质组学和生物标记问题，ETD解离技术使LTQ XL成为蛋白质组学研究更强大的分析工具。* LTQ和LTQ XL质谱均可配置ETD裂解源，ETD能够为线性离子阱提供类似ECD（电子捕获解离）的裂解碎片，在生成大量肽段碎片的同时，保护不稳定的PTM翻译后修饰集团，例如磷酸化翻译后修饰。ETD功能与赛默飞世尔线性离子阱的高离子储存量相结合，是蛋白质和肽类分析的新型有效工具。

一、产品概述：离子研磨系统是一种用于样品表面精密处理的设备，利用离子束对材料表面进行刻蚀和抛光。该系统广泛应用于材料科学、电子工程及显微镜样品制备等领域，能够实现高质量的表面平整度和光滑度。二、设备用途/原理：设备用途离子研磨系统主要用于制备电子显微镜样品、改善材料表面的特性以及去除表面缺陷。工程师和研究人员可以利用该系统进行材料的表面分析和处理，以确保样品在后续测试中的可靠性和准确性。工作原理离子研磨系统通过产生高能离子束并将其聚焦到样品表面，利用离子束的轰击作用去除表面材料。系统可以调节离子束的能量、角度和处理时间，以实现不同深度和形状的表面处理。通过精确控制这些参数，用户可以获得所需的表面光滑度和特性，确保样品在显微镜观察或其他测试中的高质量表现。三、主要技术指标：1. 为了对样品内部结构进行观察、分析，必须让样品内部结构显露出来，日立离子研磨装置使用大面积低能量的Ar离子束，加工出无应力损伤的截面，为SEM观察样品的内部多层结构、结晶状态、 异物解析、层厚测量等提供有效的处理方法2. 制成的低损伤的截面便于表层以下内部结构分析 3. 适用样品：电子元件如IC芯片、PCB、LED等（多层、裂4. 痕、孔洞分析）、金属（EBSD晶体结构、EDS元素分析、镀 层）、高分子材料、纸、陶瓷、玻璃、粉末等5. 可移动的样品座可精确定位、实现对特定位置的研磨6. 大样品: 宽20 mm× 长12 mm× 厚7 mm 7. 联用样品台在机械研磨、离子研磨、SEM观察（Hitachi机型）之间不用更换样品台

单靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，具有结构紧凑，简单易用，集成度高，设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。 单靶等离子溅射镀膜仪适用范围：可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。主要技术参数样品台尺寸Φ138mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速1-20rpm可调等离子溅射头1支2寸等离子靶真空腔体腔体尺寸Φ180mm×150mm 腔体材料高纯石英观察窗口全向透明开启方式顶盖拆卸式前极泵VRD-4抽气速率旋片泵：1.1L/S 极限真空1.0E-1Pa抽气接口KF16排气接口KF16真空测量数字真空计其他供电电压AC220V,50Hz整机功率800W溅射真空20Pa整机尺寸长360mm宽300mm高470mm整机重量30Kg

三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制，简单直观易于上手，能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作，十分适合实验室选购。本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。三靶等离子溅射镀膜仪适用范围： 可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。三靶等离子溅射镀膜仪技术参数：三靶等离子溅射镀膜仪样品台尺寸φ138mm控温精度±1℃加热温度*高500℃转速1-20rpm可调直流溅射头数量2"×1 （1~3个靶可选）真空腔体腔体尺寸φ180mm × 150mm观察窗口全向透明腔体材料高纯石英开启方式顶盖上翻式真空系统机械泵旋片泵抽气接口KF16真空测量电阻规排气接口KF16极限真空1.0E-1Pa供电电源AC 220V 50/60Hz抽气速率旋片泵：1.1L/S电源配置数量直流电源 x1*大输出功率150W其他供电电压AC220V,50Hz整机尺寸360mm × 300mm × 470mm整机功率800W整机重量40kg

产品名称：等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介：GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备，可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析，尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵，分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害！主要特点：抽速快，操作简便，真空度高，安全可靠技术参数：●试样处理室 （1）钟罩：内径250mm× 高度340mm （2）玻璃处理室： 玻璃罩 A：内径88mm× 高度140mm 玻璃罩 B：内径88mm× 高度57mm （3）试样台：直径40mm（最大） （4）试样旋转：电动 （5）挡板：电动 （6）蒸发加热器：可同时安装两个加热器 ●真空系统 （1）抽气系统：由分子泵、机械泵组成的高真空机组 （2）真空检测：热偶计、冷规 （3）常用真空度：1.3× 10-2 ~6× 10-3Pa （4）操作：手动 ●处理电源 （1）高压电源：DC3千伏10mA连续可变，用表指示。 （2）低压电源：AC10V100A连续可变，电流用表指示。 （3）电源要求：AC220V 50HZ 10A ●气体要求 氩气纯度99.9%（对样品有特殊要求时可使用） ●冷却要求 本系统采用F100/110F―普通轴承风冷涡轮分子泵，其冷却方式为风扇强制风冷和通水冷却两种，当工作环境低于32℃时，可采用风冷冷却，当工作环境温度高于32℃时，则必须采用水冷。重量：约150公斤 体积：L800mm× W560mm× H1340mm可选配件：氧化铝坩埚，石英坩埚，真空泵等具体信息请点击查看：

价格货期电议美国 KRI 离子源应用于蒸镀直径 1.5m 天文望远镜镜片全反射膜 上海伯东代理美国 KRI 大尺寸霍尔离子源 EH 3000 HC, 离子束具有业界中最高广角的涵盖面积及最高密度的离子浓度, 在离子辅助镀膜工艺中 Ion Beam Assisted Deposition, IBAD 可以获得高均匀性及高致密性的膜层. EH 3000 HC 近日成功应用于直径 2.2m 蒸镀机, 用于蒸镀 1.5m 天文望远镜镜片. 通过使用上海伯东 KRI 离子源镀全反射膜, 高均匀性及高致密性的膜层可以保障光源有效反射, 尽可能减少吸收. 直径 2.2m 镀膜腔, 仅需安装1台 EH 3000 HC 霍尔离子源, 即可完成镀膜, 直接降低企业成本!上海伯东离子源蒸镀典型案例: 根据客户 2.2m 镀膜腔体尺寸, 基材尺寸和工艺条件, 推荐选用霍尔离子源 eh3000 HC, 配置中空阴极, 中和器, 自动控制器1. 设备: 2.2m 蒸镀镀膜机.2. 基材: 1.5m 天文望远镜镜片镀铝 Al, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜3. 离子源条件: Vb:120V ( 离子束阳极电压 ), Ib:14A ( 离子束阳极电流 ), O2 gas:45sccm( 氧气 ).4. 离子源应用: 天文望远镜镜片镀全反射膜, 约3个小时 保障光源有效反射, 尽可能减少吸收.霍尔离子源 EH 3000 HC 主要技术参数尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”放电电压 / 电流: 50-300V / 20A可通气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2,离子束发散角度： 45° (hwhm)水冷 类似应用: 汽车头灯模块镀全反射膜, 使发光源的光全部反射出去照亮 美国 KRi 霍尔离子源凭借高密度的离子浓度, 广角度涵盖面积的离子束, 可控制离子的强度及浓度, 已广泛应用于离子辅助镀膜 IBAD , 获得高质量的膜层. 上海伯东美国 KRi 霍尔源可依客户镀膜机尺寸, 基材尺寸及工艺条件选择对应型号: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000. 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解离子源镀膜案例, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

MiniQS 作为一款高性价比离子溅射镀膜仪，能够提供可重复且操作简单的镀膜效果，其采用一个磁控溅射头及圆形靶材设计。

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 考夫曼离子源 KDC 10上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA. KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数型号KDC 10供电DC magnetic confinement - 阴极灯丝1 - 阳极电压0-100V DC - 栅极直径1cm中和器灯丝电源控制KSC 1202配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 - 架构移动或快速法兰 - 高度4.5' - 直径1.52' - 离子束集中平行散设 -加工材料金属电介质半导体 -工艺气体惰性活性混合 -安装距离2-12” - 自动控制控制4种气体KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域离子清洗, 显微镜抛光 IBP溅镀和蒸发镀膜 PC辅助镀膜(光学镀膜) IBAD表面改性, 激活 SM离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE若您需要进一步的了解上海伯东考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品信息和价格仅供参考，详请可留言咨询。　　印染、农药生产过程中会产生大量的高盐废水，随着工业生产水平的不断提高，水资源的价值越来越高，高盐化工废水对水资源的污染也越来越严重。与传统废水处理技术相比，膜技术具有无相变、设备紧凑、易与其它技术集成等优点，在废水处理和回用方面得到了应用。　　膜分离技术主要有反渗透、纳滤、超滤和微滤。纳滤膜技术作为一种介于反渗透和超滤之间的膜过滤技术，能有效截留水中的有机污染物和盐分。同时，由于纳滤膜技术在水中对单价盐的截留率较低，可以更好地分离单价和多价离子。纳滤膜技术在处理高盐化工废水和回收利用废水中有用物质方面具有优点，值得进一步应用和推广。

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物 　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。 用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理 可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件 通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知 金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

传统的机械研磨方式制备样品断面，断面不可避免的存在机械损伤和磨料嵌入样品引起的污染。使用氩离子束切割样品制备，可以制备出没有机械损伤和表面污染的平整断面，非常适用于 制备电池材料和部件的断面样品，从而进行扫 描电子显微镜结构表征分析。Thermo Scientific CleanMillTM 为电池断面样品提供了完善的氩离子束研磨方案，可实现对电子束敏感材料和空气敏感材料本真状态下的SEM成像和表征分析。 Thermo Scientific CleanMillTM 氩离子束断面研磨系统（BIB-CP）旨在为精确的表征提供优质高效的样品制备方案。其标配的 16 keV 超高能离子源在保证研磨质量下具有更强的溅射能力和更高的研磨效率。同时，低能量离子源可实现对具有精细结构和易受离子束辐照损伤样品的无损精抛和清洁。 诸多电池材料和部件具备电子束敏感和空气敏感的特性。Thermo Scientific CleanMillTM 与 CleanConnectTM 兼容，使得 Thermo Scientific IGST 工作流程完善。CleanConnect 样品转移系 统提供了一套超高性价比的集成化解决方案，允许样品在惰性气体 / 真空下快速转移至电子显微镜样品仓内。这种真空联锁解决方案采用直径达 25mm 的标准样品台，极大地简化了不同样品在 SEM/DualBeam 系统转移的工作。样品可在手套箱内装载至 CleanConnect 样品仓内，进而通过 CleanConnect 转移至 CleanMill 中进行断面样品制备。随后，将CleanMill中制备好的 断面样品采用CleanConnect 转移至 Thermo Scientific SEM 中进行微观结构表征。整个过程中样品都处于惰性气体保护状态以保证其断面完整性。该工作流程极大地简化了样品转移工作，提高 了结果获取速度，实现了在本真状态下对空气敏感材料的结构表征。 关键优势 高能量离子枪可实现快速研磨和抛光 采用专用90°样品台制备截面样品 自动化参数设置和操作，可实现样品旋转和摆动操作 可进行空气敏感材料的样品制备，使得赛默飞惰性气体样品转移工作流程（IGST）更为完善 配备高分辨CMOS相机和触控屏，可实时观察样品研磨过程 可选配低能量离子枪，实现对具有精细结构和易受辐照损伤样品的 无损精抛和清洁。 可选配冷台，在进行电子束敏感样品的冷冻研磨时可实现自动液氮加注 Thermo Scientific CleanMill 与 CleanConnect 和全套 IGST 工作流程兼容，实现对空气敏感材料在本真状态下的表征分析。规格参数 离子枪选择标配超高能量离子枪，加速电压连续可调 2 – 16 keV 离子束电流范围：20 – 500 A 溅射速率： 500 m/hr 选配低能量离子枪 加速电压：100 eV – 2 keV 自动化的离子源设置成像系统带有固定X10放大功能的高分辨CMOS相机，其数字放大功能可实 现连续调至X120样品台 样品倾斜：0°到180°，0.1°增量 样品旋转：面内旋转 360°样品摆动：面内摇摆，从±1°到 ±180°，1°/步样品托种类和可承载尺寸 标准型表面抛光样品托 承载样品尺寸Ø 30 mm x 15 mm CleanConnect兼容样品托： 表面抛光o 承载样品尺寸Ø 28 mm x 3 mmo 可互换样品托可承载样品尺寸Ø 20.5 mm x 8.5 mm 截面抛光o 90° 样品托：承载样品尺寸 10 mm (长) x 10 mm (宽) x 3 mm (高)真空系统 无油隔膜泵和涡轮分子泵，带（皮拉尼/潘宁）真空计气体供应体统 氩气 （纯度99.999%） 高精度气体流量控制系统计算机控制系统 易操作的触控屏图形用户界面（Touch GUI）o 系统设置o 研磨参数设置o 操作控制 Touch GUI采用Windows 11系统可选配件 带有自动加注功能的液氮制冷台，可实现无间断冷冻磨抛 样品调节定位装置 其他备件和易耗损件 适用于可加载CleanConnect的手套箱端口装置保修和培训 1年保修 设计简化，仅需简单培训 包含使用说明的用户手册安装要求 预留安装端口 (其他附件不能共用此端口) 环境：与普通显微镜的要求相同，见预安装手册 仪器右侧必须留有足够空间，以便使用CleanConnect转移杆 系统尺寸： 70 cm (宽) x 70 cm (深) x 61 cm (高) 由CleanMill制备的NMC阴极极片截面，采用Apreo 2S成像

一、产品特点： 1、面积大：0~?25毫米、0~?50毫米； 2、溅射样品表面膜层更均匀； 3、颗粒度更小（3nm左右）； 4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小；（适用温度敏感性高的样品） 5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）； 6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高； 7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差； 8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀； 9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等； 10、数字化自动控制系统。二、技术参数： 1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）； 2、*高压：（1）200~6000V； 3、样品台可旋转； 4、具有自保护功能； 5、单离子枪； 6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）； 7、支持手套箱。

一、产品特点： 1、面积大：0~?25毫米、0~?50毫米； 2、溅射样品表面膜层更均匀； 3、颗粒度更小（3nm左右）； 4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小；（适用温度敏感性高的样品） 5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）； 6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高； 7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差 ； 8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀； 9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等； 10、数字化自动控制系统。二、技术参数： 1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）； 2、*高压：（1）200~6000V； 3、样品台可旋转； 4、具有自保护功能； 5、单离子枪； 6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）。

价格货期电议上海伯东美国 KRI 射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!上海伯东射频离子源客户案例: 国内某知名 LED 制造商1. 离子源应用: LED-DBR 镀膜生产2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.3. 离子源: 采用美国 KRI 射频离子源 RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界较高等级, 离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.4. 离子源功能: 通过射频离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.上海伯东射频离子源安装案例: KRI RFICP 325 射频离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.KRI 射频离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试.1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试2. 测试结果--------- 使用其他品牌离子源--- ---- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------------------从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边 上海伯东美国射频离子源 KRI RFICP 325 优点:高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广 镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质 模块化设计, 保养快速方便 增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率 全自动控制设计, 操作简易 低耗材成本, 安装简易 上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请查看官网或咨询叶女士

价格货期电议Europlasma 聚丙烯 PP膜等离子表面亲水改性PP 膜单纯的表面活化亲水效果一般只能维持几分钟到几小时, 随着工业的发展, 需要 PP 膜材料表面能达到持久亲水的效果. 已满足过滤介质, 电池隔膜等应用. 上海伯东 Europlasma 等离子机通过多种混合气体进行等离子处理来达到 PP膜持久表面亲水改性的目的. 这些混合气体为碳氢化合物和激活气体, 如 O2 或 N2O, 并提供卷对卷等离子设备. Europlasma 等离子表面处理是一种干式处理方法, 不会产生污染物和废弃物, 不需要消耗水资源, 符合各行各业当下对于环保的要求！聚丙烯 PP膜等离子表面亲水改性 使用设备: Europlasma CD 400 PC Roll 单片和卷绕处理设备集成 在卷对卷等离子处理设备上处理聚丙烯 PP 或聚对苯二甲酸丁二醇酯 PBT, 可以得到持久的亲水性表面, 广泛应用于血液过滤介质或电池隔板材料.聚丙烯材质 PP 电池隔板膜在自然状态下有明显的拒水性, 采用上海伯东 Europlasma 等离子处理工艺使其持久亲水性显著提高. 对处理过的样品进行虹吸实验, 未处理的材料无虹吸作用, 而处理过的材料在 2个月以后, 在 200mm 长度的样品上碱液（30%KOH无离子水溶液）的虹吸高度达到 40mm, 证明材料具有持久的亲水特性, 说明用 Europlasma 工艺处理的材料其虹吸效果比用其他任何化学方法处理更为有效.若您需要进一步的了解 Europlasma 等离子机详细信息或讨论, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Orion Star T930离子滴定仪基于等位点滴定和预设pH或mV滴定终点的多样化样品分析以及多点已知加量（MKA）模式，专用于离子浓度滴定，如：• 食品中的盐/氯• 果汁和牛奶中的钙• 饮用水和废水的总硬度、氯化物• 废水中的氨与总凯氏氮（TKN）• 消费产品中的表面活性剂 使用MKA模式，滴定仪通过向样品中加入等分量的标准样品进行自动校准并且计算样品浓度，无需单独校准，并能减小背景干扰。将滴定仪与我们的高端离子选择电极进行组合，或者选择我们预配置的滴定仪和电极套装，可获得性价比更高的滴定方案。 功能特点：• 仪器可无人值守自行完成滴定过程，解放操作人员，提高实验室效率• 提供易于使用的导航界面来进行设置到实时滴定分析再到数据传输• 5.7寸彩页触摸屏可显示滴定过程、指示说明、帮助菜单，即使穿戴实验室橡胶手套也可操作• 最多可以创建和保存10组用户自定义方法• 数据存储量多达100组，带时间日期标记，并可轻松传输至打印机或外部存储器• 紧凑坚固的设计仅需要非常小的空间• 滴定仪部件便于拆卸，减少了维护时间，同时高耐久度的电极可以节省使用者的成本优势：• 可重现的结果：自动完成滴定流程，允许每次使用相同的设置参数和计算来运行分析• 更快的设置时间：可自定义设置和保存电极、滴定剂和滴定参数信息来创建测量方法• 提高了实验室效率：开始滴定并让仪器在无人监管的情况下运行• 降低成本和停机时间：可轻松、简便地更换滴定仪部件，尽量减少维护停机时间，同时耐用的电极可降低拥有成本• 安全记录测试结果：在汇总报告和100 条数据记录中实时查看结果• 应用数据库：经过测试和验证的预设 方法可以通过U盘轻松加载到滴定仪中 技术参数：滴定技术等位点或预设终点增量技术多点已知加量（MKA）等位点1 或2预设终点1、2或 3多点已知添加点zuiduo5个滴定类型直接或反向滴定空白选项固定值或使用滴定的变量值每个滴定运行的循环数zuiduo5次重复滴定，可以根据平均值和RSD结果，排除异常滴定滴定测定自动标定或手动输入浓度滴定流程控制常规、快速、缓速或用户自定义滴定精度±0.5% RSD，取决于环境和操作条件搅拌器速度5个可选速度，250至3700 RPM样品ID自动递增、手动或关闭滴定设置向导每当开始新的滴定工作流程会显示向导方法多达10组，可选择密码保护方法转移通过U盘导入/导出，汇总至计算机软件或小型打印机数据日志样品滴定、滴定剂标定、校准、直接测量 - 每项100组数据数据日志导出CSV或PDF报告文件时间和日期有，电池备份直接测量模式离子选择性电极（ISE）、mV测量范围ISE：0.0001 ~ 19990mV：-2000.0 ~ +2000.0 mV分辨率最小0.0001，有效数字1至4（用户可选）；0.1mV相对精度±0.2 mV或读数的±0.05％，以较大者为准；±0.2 mV校准模式1-5点ISE校准温度范围/分辨率/相对精度-5.0 to 100.0℃； 23.0 to 212℉/0.1℃ 0.1℉/±0.2℃温度输入手动或自动,具有1点可选的ATC探头校正显示类型5.7寸彩色电容式触摸屏，640 x 480分辨率，可调节背光，兼容实验室手套声音通知滴定周期完成，zuida滴定剂量、数据日志满、校准到期、维护提醒操作语言中文、英语、法语、德语、意大利语、日语、韩语、葡萄牙语、西班牙语滴定仪设置向导有固件可更新可使用U盘更新固件滴定管规格10 mL，20 mL（标配），50 mL - 符合ISO8655-3要求滴定管分辨率先进的微步技术可为每次电机旋转提供 25,600 个微步，以实现平稳、滴定管定位（在整个滴定管冲程范围提供 200 万微步）滴定管功能自动冲洗循环和具有连续选项的离散分液体积认证CE，TUV三合一，FCC，EN / EIC61326-1，IEC 61010，IP-51重量和尺寸5.67 kg，25.4 cm×40.6 cm×35.6 cm（长×宽×高）12.5 lb，10“×16”×14“（长x宽x高） 电源要求100-240 V，50/60 H订货指南：货号内容备注START9300Orion Star T930离子滴定仪（无电极），包括20 mL滴定管，搅拌器，分配器探头，管件套件，1L塑料瓶，瓶盖，干燥剂管，电脑连接线，U盘（含说明书），110-240V电源不含电极START9301Orion Star T930 氯离子/盐滴定仪套装，包括9780SC银电极，91CBNC电极导线，20 mL滴定管，搅拌器，分配器探头，管件套件，1L塑料瓶，瓶盖，干燥剂管，电脑连接线，U盘（含说明书），110-240V电源含9780SC银电极，91CBNC电极导线

GU-AI系列离子加工仪器具有独特的无磁聚集离子束设计，实现高效的大面积样品加工，并可将样品表面的损伤层或变形层降至低，获得样品内部真实的结构信息。 GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备,亦或是大面积平面抛光，GU-AI8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品、复合材料样品.…适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备,亦或是大面积平面抛光，GU-AI8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品、复合材料样品.…适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。

二手Thermo Fisher赛默飞戴安离子色谱ICS 3000 二手赛默飞戴安离子色谱ICS 3000仪器简介：ICS-3000是戴安公司新推出的高端研究级色谱系统，其功能整合了离子色谱、生物液相、氨基酸分析的全部应用，全新的模块设计具有极大的灵活性、功能更全面，操作更简便，其完美卓越的性能将色谱分析带入一个新的更高境界。该型号产品因此而荣获2005年度美国匹兹堡展览编辑部银奖。 ICS-3000的创新性在于提高了工作效率，扩展了开发能力、提高了性能。 先进的单/双泵模块，极大拓展应用分析潜力 ICS-3000与以往型号显著的不同是可以在一个模块中选择使用单泵或双泵，单泵（SP）或双泵（DP）的选择是由实际操作中的应用决定的。两种方式都支持梯度淋洗和等度淋洗。根据实际需求单泵系统可以很方便的升级为双泵系统。 高压泵组件可以方便的取出，操作和使用极为简单。 先进的惰性耐腐蚀泵系统 ICS-3000的高压输液泵流路系统全部由惰性PEEK材料制作；内置的流体动力学混合器确保淋洗液充分混合均匀；泵头为可变速串联双柱塞设计，可确保提供稳定的流速、极少的压力波动、极低的检测噪音；具有稳定的基线和优佳的色谱重现性。新的泵系统在流速的精确度和准确度上比已往提高了10倍；四元梯度泵可以完成多种直线和曲线线性梯度模式。 提高工作效率 可选择双泵与单或双淋洗液系统组合双通道同时工作 智能全自动进样器为双通道分析输送样品 先进的单/双泵模块，极大拓展应用分析潜力 可靠性和完整的监控功能 ICS-3000的高压泵具有自动密封活塞定期清洗/监控装置，可以有效地清洗因淋洗液或缓冲液蒸发而出现的研磨性结晶盐，延长密封圈的使用寿命；自动监控泵密封圈的泄漏状况并及时提示更换，从而确保泵的使用可靠性。 戴安公司独有的高容量分析柱，其交换容量比普通柱高2-100倍，（CS16阳离子分析柱的柱容量高达到8400μmol），充分改善弱保留组分的定量和大体积进样做ppb级样品的分析能力，比如在高浓度钠存在下铵的检测，离子浓度比可达到4000:1，使用寿命是普通分析柱的2-4倍； 由于OH-体系淋洗液可使检测的背景电导降低到0S，极大地提高检测灵敏度，所以OH-选择性已成为阴离子分析柱的发展方向。 戴安公司所有类型的分析柱均可在ICS3000色谱系统上使用。 二手赛默飞戴安离子色谱ICS 3000技术参数：构造：泵头和管路均为化学惰性非金属的PEEK材料，兼容pH： 0-14的水相淋洗液以及各种反相淋洗液体系 类型：串联双活塞，恒定冲程 流速范围：0.001-10 mL/min 流速精确度： 1.0 mL/min时，精确度：0.1 ％ 流速精密度：1.0 mL/min时，精密度：0.1 ％ 压力范围：50-5000 psi 压力脉动：1 ％ 梯度比例精确度： 2.0 mL/min时，精确度在 ±0.5 ％ 梯度比例精密度： 2.0 mL/min时，精密度在 ±0.5 ％ 可选择淋洗液数量：等度泵：1种，梯度泵：4种 梯度泵延迟体积：400μL EG 淋洗液自动发生装置技术参数 淋洗液浓度范围：0.01-100 mM 淋洗液种类：KOH、LiOH、NaOH、CO32－/HCO3－、CO32－、MSA（甲基磺酸） 浓度增量：0.01 mM 流速范围：0.1-3.0 mL/min 高操作压力：3000 psi（21 MPa） 有机物大浓度：阴离子系统：25 ％甲醇 阳离子系统：不允许有有机溶剂存在 操作温度范围：4－40 ℃ 操作湿度范围：5-95 ％相对湿度（无冷凝） 尺寸（高×宽×深）：41×23×56 cm （16.05×8.75×21.58 英寸） 重量：25公斤 （40磅） 电源条件：90-265 V，47-63 Hz 交流电 离子储备罐：尺寸（高×宽×深）23×7×10 cm（9×2.75×4 英寸） 重量：1.6公斤（3.5磅） Cr-TC捕获柱：尺寸（高×宽×深）3.8×3.8×5.8 cm（1.5×1.5×2.3 英寸） 重量：60 g （0.13磅） 流动相组织器（EO）： 可放置4个1 L或2 L或2个4 L的半透明抗腐蚀聚乙烯和环氧乙烯材料塑料瓶； 在DC模块上可同时放置两个流动相组织器； 带有清晰的刻度线可以随时监测流动相液面高度； 淋洗液管入口处安装有5μm的聚乙烯过滤器； 可以进行压力校准。 详细参数请见样本。二手赛默飞戴安离子色谱ICS 3000主要特点： ICS-3000是戴安公司新推出的高端研究级色谱系统，其功能整合了离子色谱、生物液相、氨基酸分析的全部应用，全新的模块设计具有极大的灵活性、功能更全面，操作更简便，其完美卓越的性能将色谱分析带入一个新的更高境界。该型号产品因此而荣获2005年度美国匹兹堡展览编辑部银奖。 扩展工作能力 生物样品分析－生物液相功能 氨基酸直接分析－氨基酸分析功能 离子色谱分析－离子色谱功能 提高色谱性能 色谱管理模块整合系统管理 新型电化学检测器具有3D数据功能 多点精确控温

描述： Thermo 赛默飞 ICS-2100 2000 离子色谱仪ICS-2100是离子色谱历史上同时集淋洗液在线发生器（RFIC-EG）和免化学试剂电解样品前处理装置（RFIC-ESP）于一体的离子色谱仪，同时具有等度和梯度淋洗功能。2 mm体系色谱柱与4 mm体系色谱柱均可在该仪器上完成工作。ICS-2100免化学试剂电解样品前处理离子色谱仪，利用阀切换和电解水原理，可以用于多种基体样品的不同前处理。拥有USB连接方式和成熟的数字输出模式的ICS-2100系统实现了自动化，配合连续自动微膜器（SRS-300）和全新的变色龙软件（Chromeleon）使用，可以让使用者享受便捷的同时，坐拥操作乐趣和方便。

赛默飞ICS-1600是为等度淋洗而设计的离子色谱仪，配合在线电解淋洗液发生器（RFC-30）使用可具备梯度淋洗功能。兼容赛默飞谱睿系列前处理技术：利用阀切换和电解水原理，可以用于多种复杂基体样品的在线前处理。选配淋洗液在线循环再生装置（RFIC-ER）时，ICS-1600可以保证连续四周不间断工作且无需添加或更换淋洗液。 赛默飞ICS-1600带有内置精确控温柱温箱，使用赛默飞生产的全系列高容量高效离子色谱柱，可保证色谱分析的良好精密度和稳定性。使用自动电解连续再生微膜抑制器，不需要配制再生液。采用变色龙软件控制，功能强大，操作方便。ICS-1600技术特点● 前触摸屏，显示仪器运行状况与实时谱图，具有报警提示功能；可通过前触屏对仪器进行操作● 高性能泵：双柱塞高压泵可提供高精度，低漂移和无脉动的淋洗液流速，全PEEK流路避免了金属污染。耐高压、耐酸碱和反相有机溶剂● 内置精确控温柱温箱，配合高容量高效阴阳离子色谱柱使用，避免色谱柱压力和保留时间的偏移，确保检测结果准确性和重现性● 高效淋洗液脱气装置，可实现淋洗液在线脱气，可按需要选择连续或自动间隔运转模式● 灵活配置淋洗液瓶，可选用1，2，4L淋洗液瓶，可选择玻璃或聚四氟乙烯材质

SD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适； 特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大； 前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体； 调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好； 高压输出可使成膜更加牢固快速。 功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵。 SD-3000型是一款针对做电极研究和半导体研究的仪器，相对于基础型溅射仪，SD-3000型的镀层和样品之间更贴合，更有附着力，以便后续的研究。需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料参数：?主机规格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）?靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）?靶材：Au（标配）?样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H）?靶材尺寸：Ф50mm ?真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar?离子电流表： 最大电流：50mA?定时器： 最长时间：1-360s?微型真空气阀：可连接φ3mm软管?可通入气体： 多种?最高电压： -2800 DCV?机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8）特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。7、涂层牢固，特别适用于非导体材料实验电极制作和半导体材料的研究。

ICS-900离子色谱仪以赛默飞先进离子色谱技术为依托，专门为满足用户常规阴、阳离子检测需要而设计。配备有双柱塞等度泵，可兼容电解或化学连续再生微膜抑制器。采用变色龙软件操控，具有操作简单、启动快速、性能可靠稳定等特点。仪器操作者只需经过简单培训就可进行独立操作，维护成本极低。ICS-900仪器特点● 双活塞脉冲输液泵系统，精度高，流速范围宽、维护费用低、连续运行时间长。● 先进的数字式电导检测器具有高灵敏度和高稳定性，测定结果更加准确。● 采用DCR（自循环再生）技术的MMS&trade 300微膜抑制器，大大降低基线漂移，易于操作。同时也可兼容使用ERS 500系列抑制器型自动电解连续电解再生微膜抑制器。● 全PEEK材质流路设计避免了金属污染，能够耐受高压，并耐酸、碱腐蚀和有机溶剂。● 采用USB高速数据传输连接接口与其它设备连接，可自动识别电脑或其它选配部件。● 完整的IQ/OQ/PQ多项认证，使分析结果更具权威性。与AS-DV自动进样器兼容，可实现免人工自动连续工作。● 可采用多种类型高效色谱柱，应用灵活可靠。赛默飞离子色谱抑制器技术1975年赛默飞率先研制并生产出了抑制器，由此开创了现代离子色谱时代。时至今日赛默飞已开发出了10代具有专利技术的抑制器，并一直引领者离子色谱抑制器技术的发展，代表着世界抑制器技术的最高水平。赛默飞可提供阴/阳离子两种电解膜抑制器。其生产的自动电解连续再生微膜抑制器抑制容量高，无需使用蠕动泵再生。另外具有平衡快，抗污染，重复性好，零维护和操作简单的特点。在离子色谱流动系统中，待分析物以及淋洗液中的可离解物质均以离子状态存在，而电导检测器检测的就是淋洗液中所有离子的总电导率。为准确检测待测离子，需要使用抑制器将淋洗液中的反离子除去（以阴离子分析为例，系统中的阳离子就是反离子）。以达到降低基线背景和噪音，提高检测组分响应值的效果。正是由于抑制器的发明才使得使用离子色谱作为一种分析手段成为可能。

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成 在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等） 未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

Thermo奥立龙9416BN银/硫离子选择电极9416BN 银/硫半电池电极和9616BNWP Sure-Flow™ 银/硫复合电极能快速、简便、准确、经济的测量水溶液中的银离子和硫离子。由于硫化银不溶于水，因此水溶液中不会同时存在这两种离子。该电极还可用于低浓度卤化物的滴定。Thermo奥立龙9416BN银/硫离子选择电极9616BNWP复合电极*的复合参比设计，无需单独另配参比电极，使其方便测量小体检样品。畅通的Sure-Flow液接界保证稳定、无漂移的测量结果，且在测量较脏样品时不易堵塞，可通过轻轻按压电极帽冲洗液接界。该电极适用于Star系列仪表，采用的BNWP接口具有良好的防水性和安全性。BNWP接口与标准BNC接口一样适用于大部分pH计。防水BNC接口电极电缆线长1m。Screw cap接口需要另配转接线。Thermo奥立龙9416BN银/硫离子选择电极简介Thermo Scientifi c Orion 是研制出首支离子电极 － 钙离子电极的制造商，公司发展40 年来已开发30 多种具有技术的离子电极，为众多行业广泛使用，成为同业中zhu名的离子电极制造商。Orion 的许多离子电极分析方法已被众多国家的政府组织列为相关行业中的标准方法，例如：牙膏中氟化物的测定（国家牙膏标准GB 8372-2001）。当今采用离子电极从事物质研究分析的科研机构中有70% 以上使用的都是Thermo Scientifi c Orion 离子电极，Thermo Scientific Orion 离子电极是您进行离子分析可信赖的品牌。Thermo奥立龙9416BN银/硫离子选择电极的应用离子选择性电极是一种简单、迅速、能用于有色和混浊溶液的非破坏性分析工具，一般不需进行化学分离，不要求复杂的仪器，可以分辨不同离子的存在形式，能测量少到几微升的样品，所以十分适用于野外分析和现场自动连续监测。与其他分析方法相比，它在阴离子分析方面特别具有竞争能力。电极对活度产生响应这一点也有特殊意义，使它不但可用作络合物化学和动力学的研究工具，而且通过电极的微型化已被用于直接观察体液甚至细胞内某些重要离子的活度变化。离子选择性电极的分析对象十分广泛，它已成功地应用于环境监测、水质和土壤分析、临床化验、海洋考察、工业流程控制以及地质、冶金、农业、食品和药物分析等领域。Thermo奥立龙9416BN银/硫离子选择电极测量常识 离子测量前，要尽可能先查阅相关的技术文献，选择正确的离子测量方法和离子浓度测量仪与电极 由于各种溶液的成份不一样，离子价态也不一样，其温度系数也不一样，故分析仪要做到对任何溶液都做出温度补偿那是办不到的，在进行离子浓度的精确测量时，需要将离子标准液和样品温度调节到同一温度 离子浓度的测量，需要配合相应的离子强度调节剂和标准液Thermo奥立龙9416BN银/硫离子选择电极技术参数测量范围 :1.0 到10-7M；Ag+0.01 - 107900ppm；S2-0.003 - 32100ppm；测量温度 :0 - 80°C校正标准液 :参照操作说明ISA型号 :Ag+940011； S2-941609填充液货号：900062(Ag+/S2-)；900067(Ag+)；900061(S2-)

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的材料制备技术，广泛应用于物理学、化学、材料科学等多个领域。该系统通过在高真空环境下利用射频、微波等能量源将反应气体激发成等离子体状态，进而在基片表面发生化学反应，沉积出所需的薄膜材料。这种技术具有沉积温度低、沉积速率快、薄膜质量高等优点，能够制备出多种功能性薄膜，如氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层等关键薄膜，提高器件的可靠性和性能。光伏产业：在太阳能电池制造中，PECVD系统被广泛应用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜、减反射膜等，以提高光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示器件的制造中，PECVD系统用于制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等关键薄膜。微电子与纳米技术：在微纳电子器件、纳米传感器等领域，PECVD系统能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如抗腐蚀层、绝缘层等。3. 设备特点 1 高真空环境：PECVD系统通常配备有高真空泵组，以确保反应室内的真空度达到较高水平，从而减少杂质对薄膜质量的影响。 2 等离子体增强：通过射频或微波等能量源将反应气体激发成等离子体，使气体分子高度活化，降低反应温度，提高沉积速率和薄膜质量。 3 精确控制：系统配备有精密的控制系统，可以对反应气体的流量、压力、温度以及射频功率等参数进行精确控制，从而实现对薄膜厚度、成分和结构的精确调控。 4 多功能性：PECVD系统具有广泛的应用范围，可以制备出多种不同成分和结构的薄膜材料，满足不同领域的需求。4 设备参数真空室结构:方形侧开门真空室尺寸:设计待定限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:设计待定 样品尺寸，温度:设计待定占地面积（长x宽x高）:约6米×3米x2米（设计待定）电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的材料制备技术，广泛应用于物理学、化学、材料科学等多个领域。该系统通过在高真空环境下利用射频、微波等能量源将反应气体激发成等离子体状态，进而在基片表面发生化学反应，沉积出所需的薄膜材料。这种技术具有沉积温度低、沉积速率快、薄膜质量高等优点，能够制备出多种功能性薄膜，如氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层等关键薄膜，提高器件的可靠性和性能。光伏产业：在太阳能电池制造中，PECVD系统被广泛应用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜、减反射膜等，以提高光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示器件的制造中，PECVD系统用于制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等关键薄膜。微电子与纳米技术：在微纳电子器件、纳米传感器等领域，PECVD系统能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如抗腐蚀层、绝缘层等。3. 设备特点1 高真空环境：PECVD系统通常配备有高真空泵组，以确保反应室内的真空度达到较高水平，从而减少杂质对薄膜质量的影响。 2 等离子体增强：通过射频或微波等能量源将反应气体激发成等离子体，使气体分子高度活化，降低反应温度，提高沉积速率和薄膜质量。 3 精确控制：系统配备有精密的控制系统，可以对反应气体的流量、压力、温度以及射频功率等参数进行精确控制，从而实现对薄膜厚度、成分和结构的精确调控。 4 多功能性：PECVD系统具有广泛的应用范围，可以制备出多种不同成分和结构的薄膜材料，满足不同领域的需求。真空室结构:1个中央传输室：蝶形结构；3个沉积室：方形结构； 1个进样室：方形结构真空室尺寸:中央传输室：Φ1000×280mm ； 沉积室：260×260×280mm ；进样室：300×300×300mm限真空度:中央传输室：6.67E-4 Pa；沉积室：6.67E-6 Pa ；进样室：6.67 Pa沉积源:设计待定样品尺寸，温度:114X114X3mm， 加热温度350度，机械手传递样品占地面积（长x宽x高）:约13米x9米x2.3米（设计待定）电控描述:全自动控制工艺:在80X80mm范围内硅膜的厚度均匀性优于±5%特色参数:共有8路工作气体