离子源

API4000 调整离子源位置，更换离子源 ，冲洗离子源 分别是怎么进行的 谁有相关的资料或是视频 由于刚接触这个仪器 没有培训 也没有人指导 ？ 难度很大！！！ 万方感谢

我是新手,想请问一下,什么样的离子源是正离子源,什么样的离子源是负离子源?谢谢

从事GC-MS的版友。大家应该都有清洗离子源的经历。还记得第一次清洗离子源吗？不同的GC-ms，离子源的设计有区别吗？

1离子源清洗准备工作1、按照硬件说明书拆卸离子源。2、重要的是所有陶瓷片、入口和离子聚焦镜绝缘体，离子加热块，所有的螺母和灯丝都应该放置在一张干净，无纤维材料（例如经过溶剂洗涤的或火焰处理过的锡纸）上，并且避免与任何溶剂接触。3、将金属元件分离开来有助于更加容易地清洗离子源。2离子源清洗方法及步骤方法一：利用砂纸清洗离子源。方法二：专业法清洗清洗离子源。具体步骤如下：1、向少量超细粉中加入去离子水，将超细铝粉调成均匀而浓稠的浆状。2、用棉签将少量的超细铝粉浆状物涂在金属组件表面。摩擦去除表层附着的材料后，可获得光洁的金属表面。清洗EI和CI离子源源体时，清洗灯丝孔也很重要。使用木质的牙签将超细铝粉浆状物涂在孔中，在离子源清洗程序结束之前再将灯丝孔中的超细铝粉浆状物清除掉。最容易受污染的部件有离子源源体、推斥极和拉出极透镜。清洗这些部件时需要格外小心。3、用去离子水冲洗所有部件。尽可能将超细铝粉清除干净。4、将冲洗后的部件全部放在烧杯中，加入去离子水浸没所有部件，超声清洗5分钟。5、使用金属镊子将部件从装有水的烧杯中小心地取出来，浸入一个装有甲醇（农残或HPLC级）的烧杯中。超声清洗5分钟。6、使用金属镊子将部件从装有甲醇的烧杯中小心地取出来，浸入一个装有丙酮（农残或HPLC级）的烧杯中。超声清洗5分钟。7、使用金属镊子将部件从装有丙酮的烧杯中小心地取出来，浸入一个装有己烷（农残或HPLC级）的烧杯中。超声清洗5分钟。8、使用金属镊子将部件从装有己烷的烧杯中小心地取出来，放置在一张干净的锡纸或无纤维的纸巾上。按照说明书认真组装各个部件。检查灯丝，若发现破损，立即更换。认真检查推斥极上的陶瓷片，确保无裂痕，通常由于被拧得太紧而导致裂痕。9、立即重新将离子源安装回质谱仪。不需要将离子源放入柱温箱中烤，经过丙酮清洗后，离子源应该非常干燥，经过迅速挥发的己烷清洗后，离子源应该不带有机物。只有您使用的清洁溶剂中的残留物可能残留，这就是要求使用高纯度溶剂的原因。离子源清洗顺序3离子源清洗注意事项1、离子源具体清洗方法和步骤，需根据不同的仪器型号进行。2、对于第一次没有清洗过离子源者，最好经由专业工程师进行操作，并后期进行相关指导。

离子源系统的作用就是将中性原子或分子转换成具有一定能量和一定形状的正或负的聚焦良好的离子束。根据被分析物质的状态，它的物理化学性质，选择合适的电离方式。并随着电离方式的不同（例如：电子轰击、离子轰击、场致电离、光致电离、化学电离等），配置必要的组件，组成相应的离子源系统。在离子源电离区域形成的离子，经离子源透镜公聚成品质良好的、合乎需要的离子束。整个离子源的由中性原子或分子到离子的转换效率，取决于离子源的电离效率和离子光学系统的离子传输效率。这对那些要求实现高灵敏度质谱分析的课题，是十分重要的。

GC-MS测试中在什么情况下、’怎样发现并判断离子源脏了，需要清洗离子源？

离子源的温度选择和要分析物质的性质，柱箱的最高运行温度等因素有关。离子源温度过高会影响其寿命。[size=2]例如测定TEPA（三-[氮杂环丙基]-[/size][font=宋体][size=2]氧亚膦）离子源温度有人选择200°C，邻苯二酸酯和多环芳烃PAHs有人选择250°C，三聚氰胺有人选择230°C，也有人250°C，多溴联苯（醚），选300°C等不同温度等等。安捷伦的默认离子源温度是230°C，不知其它仪器的是多少？想问问，用于什么样分析时，大家离子源的温度设置多少？回帖格式如下（按格式回帖加分）：待测物类别：离子源温度：仪器型号：[/size][/font]

想请教大家一个菜鸟级的问题，那天帮老师清洗EI离子源，但是最近打算怀孕，不知道EI离子源拆下来之后有没有辐射呢，会不会影响自己呢？

最近做样品时，发现同一个样老是结果重现性不好，换了隔垫、衬管，都没改善，后来进行每日调谐检查，结果发现检测器电压有点高，1700多V（仪器刚使用半年），问了一下厂家工程师，说是离子源脏了，换个离子源，于是换了，离子源，调谐老是通过不了，进行全诊断，发现检测器电压还是1700多V，难道这个离子源没洗干净，于是，拆下来重新洗。说到洗离子源，我们采用的是甘油加氧化铝，然后用棉签擦拭离子源内部，每次擦洗后棉签都是黑的，难道我们的样品这么脏吗？擦洗了好久，感觉上是干净的，如果严格的话，可能还要继续擦洗，由于超声清洗机坏了，只能等到下个星期才能有超声清洗机清洗。 大家平时都是怎么清洗离子源的，要擦拭到棉签不会变黑色为止吗http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif有没判断离子源有没清洗干净的办法http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif

国庆放假就把质谱关了，昨天来了把仪器打开，抽了一天真空，今天准备进样，结果调谐不通过很是郁闷，发现是离子源脏了，再清洗完离子源后，查看峰的时候发现57的位置竟然出现了峰，用的是EI源，而且整个实验室都没有甲烷气体啊。各位能给点意见吗？今天是自己第一次清洗离子源，之前都是自家的技术部的人负责的，还望各位能给点关于清洗离子源的整个过程的一些意见，拜谢。所用仪器是赛默飞的ISQ QD就是不带真空锁定的那款。

请问有没有人有介绍离子源，四级杆，打拿极，电子倍增器的资料，最好是每个部件都能拆开介绍的。尤其是离子源，什么推斥极，拉出极，离子聚焦透镜那些图片对应名词对应效果十分感谢。

因为热电的仪器可以比较容易的清洗离子源的volume，所以很长时间内只是清洗ion volume。看到版上的一个贴说彻底清洗了离子源谱图大为改善，http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20110418/3255154/index.shtml不过检查过整个离子源，发现除了这个ion volume，其他地方真的看不出脏的痕迹。请问有用热电的版友是否比较过清洗了所有离子源部件和只清洗这个小部件的结果？

我只知道华质泰科卖离子源，还有其他的竞争对手吗？市场前景怎么样？

岛津 GC-MS 2010 plus 离子源可以用氧化铝打磨吗？我们的离子源钝化得很厉害了。另，专用的岛津的打磨纸哪里有卖啊？

本来以前我的离子源可以用半年的，但这次只用了还不到2个月，电压就升到8000多了，很郁闷啊，怎么会这样呢？今天换了个新的离子源，换之前杂峰只有126，但是换了，抽真空以后再调谐，杂峰有800多个了，柱子是刚换的，想请教下这种情况一般由那些因素引起呢？为什么会这样呢？

实验室agilent 7890-7000A GC/CI/MS 有两个离子源，一个是旧的，一个是新的。但是用旧的离子源得到的信号强度只有新的离子源10分子一。所有信噪比就比新的大了。请问各位前辈，离子源中什么东西会影响灵敏度。如果要换，应该换什么？另外想请问下在tune结果中m/z41应该比267高还是低。因为新的离子源得到的tune是41低。但是旧的却是41高。

[em09509]我用的是GCMS（nci源）洗离子源后由于急着进样，抽了15分钟就开始调谐，然后进样，结果洗离子源之前100W的响应，洗后变成20W了，调谐报告中真空度是2.14*10-4，能达到负离子源正常进样要求，是什么原因造成响应值低呢？是没洗干净吗？补充下，以后会每天响应高点，一个月后就会高回到100W啦。

1离子源清洗准备工作1、按照硬件说明书拆卸离子源。2、重要的是所有陶瓷片、入口和离子聚焦镜绝缘体，离子加热块，所有的螺母和灯丝都应该放置在一张干净，无纤维材料（例如经过溶剂洗涤的或火焰处理过的锡纸）上，并且避免与任何溶剂接触。3、将金属元件分离开来有助于更加容易地清洗离子源。2离子源清洗方法及步骤方法一：利用砂纸清洗离子源。方法二：专业法清洗清洗离子源。具体步骤如下：1、向少量超细粉中加入去离子水，将超细铝粉调成均匀而浓稠的浆状。2、用棉签将少量的超细铝粉浆状物涂在金属组件表面。摩擦去除表层附着的材料后，可获得光洁的金属表面。清洗EI和CI离子源源体时，清洗灯丝孔也很重要。使用木质的牙签将超细铝粉浆状物涂在孔中，在离子源清洗程序结束之前再将灯丝孔中的超细铝粉浆状物清除掉。最容易受污染的部件有离子源源体、推斥极和拉出极透镜。清洗这些部件时需要格外小心。3、用去离子水冲洗所有部件。尽可能将超细铝粉清除干净。4、将冲洗后的部件全部放在烧杯中，加入去离子水浸没所有部件，超声清洗5分钟。5、使用金属镊子将部件从装有水的烧杯中小心地取出来，浸入一个装有甲醇（农残或HPLC级）的烧杯中。超声清洗5分钟。6、使用金属镊子将部件从装有甲醇的烧杯中小心地取出来，浸入一个装有丙酮（农残或HPLC级）的烧杯中。超声清洗5分钟。7、使用金属镊子将部件从装有丙酮的烧杯中小心地取出来，浸入一个装有己烷（农残或HPLC级）的烧杯中。超声清洗5分钟。8、使用金属镊子将部件从装有己烷的烧杯中小心地取出来，放置在一张干净的锡纸或无纤维的纸巾上。按照说明书认真组装各个部件。检查灯丝，若发现破损，立即更换。认真检查推斥极上的陶瓷片，确保无裂痕，通常由于被拧得太紧而导致裂痕。9、立即重新将离子源安装回质谱仪。不需要将离子源放入柱温箱中烤，经过丙酮清洗后，离子源应该非常干燥，经过迅速挥发的己烷清洗后，离子源应该不带有机物。只有您使用的清洁溶剂中的残留物可能残留，这就是要求使用高纯度溶剂的原因。离子源清洗顺序3离子源清洗注意事项1、离子源具体清洗方法和步骤，需根据不同的仪器型号进行。2、对于第一次没有清洗过离子源者，最好经由专业工程师进行操作，并后期进行相关指导。

ISQ待机时离子源 接口温度 工程师一开始说可以是200℃，后来说可以和做样一样 离子源280℃ 接口260℃。温度低应该是寿命长吧，又有看到说ISQ离子源通常设的比较高

离子源分为哪几个部件？

离子源的作用是接受样品产生离子，常用的离子化方式有:电子轰击离子化(electron impact ionization，EI)EI是最常用的一种离子源，有机分子被一束电子流(能量一般为70eV)轰击，失去一个外层电子，形成带正电荷的分子离子(M+)，M+进一步碎裂成各种碎片离子、中性离子或游离基，在电场作用下，正离子被加速、聚焦、进入质量分析器分析。[b]EI特点:[/b]⑴、结构简单，操作方便。⑵、图谱具有特征性，化合物分子碎裂大，能提供较多信息，对化合物的鉴别和结构解析十分有利。⑶、所得分子离子峰不强，有时不能识别。本法不适合于高分子量和热不稳定的化合物。化学离子化(chemicalionization，CI)将反应气(甲烷、异丁烷、氨气等)与样品按一定比例混合，然后进行电子轰击，甲烷分子先被电离，形成一次、二次离子，这些离子再与样品分子发生反应，形成比样品分子大一个质量数的(M+1) 离子，或称为准分子离子。准分子离子也可能失去一个H2，形成(M-1)离子。

有人说突然停电离子源会被氧化，但是清洗完离子源放烘箱里烘烤的时候也是在空气中怎么不担心被氧化呢？

一般离子源清洗时都是用有机溶剂蘸氧化铝粉末擦拭，这个办法到底是通过什么原理将离子源清洗干净的呢？

大家讨论了很多关于调谐的问题，比如PFTBA的性质啊，调谐的参数啊，不过大家有没有想过，PFTBA是怎么进入离子源的。我们知道每次调谐PFTBA都是通过电磁阀直接进入离子源，那么有没有想过是从那个口进入离子源的呢？

安捷伦[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/bp][color=#3333ff]气质[/color][/url]5973待机状态下，离子源温度稳定在设定值。但是调谐的时候或者是进样运行的时候，离子源温度会一直升高，能升高到368℃，赶紧点击停止，然后离子源温度会慢慢降到设定值。四级杆的温度一直正常稳定在设定值，更换过离子源未得到解决。有哪位大神遇到过类似的问题吗？

离子源的选择跟样品分子的极性又什么关系？谢谢！

安捷伦的GC-MS的离子源清洗是使用三氧化二铝粉末混合超纯水打磨，而PE，岛津则是直接拿砂纸打磨，这样的处理方式有什么不同？砂纸打磨会不会把离子源表面刮花而影响其性能呢？

[align=center][font=DengXian]离子源[/font][/align][font=DengXian]离子源的作用是将被分析的有机化合物分子电离成离子，并使这些离子在离子光源系统[/font][font=DengXian]的作用下会聚成有一定几何形状和一定能量的离子束，然后进入质量分析器被分离。离子源的结构、性能与有机质谱仪的灵敏度和分辨率有密切的关系。根据有机化合物的热稳定性和电离的难易程度，可以选择不同的离子源，以期能得到该有机化合物的分子离子。有机质谱仪常用的离子源有电子轰击离子源（[/font]EI[font=DengXian]），化学电离源（[/font]CI[font=DengXian]）和解吸化学电离源（[/font]DCI[font=DengXian]），场致电离源（[/font]FI[font=DengXian]）和场解吸电离源（[/font]FD[font=DengXian]），快中子轰击电离源（[/font]FAB[font=DengXian]）和离子轰击电离源（[/font]IB[font=DengXian]），激光解吸电离源（[/font]LD[font=DengXian]），锎[/font]-252[font=DengXian]等离子解吸电离源（[/font]252Cf-PD[font=DengXian]）。[/font][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url][font=DengXian]联用仪中的热喷雾接口和电喷雾接口也可单独作为离子源使有机化合物分子电离。[/font]