盐窗口

1、窗口材料特性1、窗口材料特性材料特性应用K9(BK7)透射范围：330－2100nm折射率：1.5164@588nm可见和近红外光谱范围内适宜大多数应用石英透射范围：185－2500nm折射率：1.4858@308nm低热膨胀系数：0.54*10-6K从紫外到红外有更好性能；有更好的抗热性能； 激光窗口（Windows）及毛玻璃产品说明 产品说明：产品类别产品编号窗口定义指标光学窗口OGW11-直径K9标准精度平面窗口(Optic Windows:K9 Normal precision)材料：精退火K9光学玻璃表面面型：&lambda /2 @633nm窗口表面平行差：小于1分表面光洁度：3－4级OGW12-直径K9高精度平面窗口(Optic Windows:K9 High precision)材料：精退火K9光学玻璃表面面型：&lambda /10 @633nm窗口表面平行差：小于10秒表面光洁度：1－2级OGW21-直径石英标准精度平面窗口(Optic Windows:Fused Silica Normal precision)材料：紫外熔融石英表面面型：&lambda /2 @633nm窗口表面平行差：小于1分表面光洁度：3－4级OGW22-直径石英高精度平面窗口(Optic Windows:Fused Silica High precision)材料：紫外熔融石英表面面型：&lambda /10 @633nm窗口表面平行差：小于10秒表面光洁度：1－2级毛玻璃OMDxx-厚度(圆形)OMDxxxx-厚度(方形)正面是毛面；另一面是光面.毛玻璃毛面的粗糙度,一般用粒度值标称(1平方英寸内的颗粒数),常用的毛玻璃粒度值为几百. 3、产品一览表：选型表：OGW11系列，K9玻璃，标准精度，平面窗口(1)产品编号产品说明直径（mm）厚度（mm）OGW11-020K9标准精度平面窗口202OGW11-025K9标准精度平面窗口252OGW11-25.4K9标准精度平面窗口25.42OGW11系列，K9玻璃，标准精度，平面窗口(2)产品编号产品说明直径（mm）厚度（mm）OGW11-030K9标准精度平面窗口303OGW11-038K9标准精度平面窗口384OGW11-050K9标准精度平面窗口504OGW12系列，K9玻璃，高精度，平面窗口产品编号产品说明直径（mm）厚度（mm）OGW12-020K9高精度平面窗口206OGW12-025K9高精度平面窗口256OGW12-030K9高精度平面窗口3010OGW12-038K9高精度平面窗口3810OGW12-050K9高精度平面窗口5010OGW21系列，紫外熔融石英，标准精度，平面窗口产品编号产品说明直径（mm）厚度（mm）OGW21-020石英标准精度平面窗口202OGW21-025石英标准精度平面窗口252OGW21-030石英标准精度平面窗口303OGW21-038石英标准精度平面窗口384OGW21-050石英标准精度平面窗口504OGW22系列，紫外熔融石英，高精度，平面窗口产品编号产品说明直径（mm）厚度（mm）OGW22-020石英高精度平面窗口206OGW22-025石英高精度平面窗口256OMD系列,毛玻璃产品编号产品说明尺寸（mm）厚度（mm）OMD25-2毛玻璃&phi 252OMD30-2毛玻璃&phi 302OMD50-2毛玻璃&phi 502OMD5050-2毛玻璃50× 502OMD100100-2毛玻璃100× 1002.4OMD120120-2毛玻璃120× 1202.4

RAFSW熔融石英窗口片-JGS1，JGS2，JGS3，Corning7979，Corning7980等特点：石英窗口片具有良好的耐温特性，急速高低温具有良好的耐受性，低光谱损耗，紫外-红外宽光谱透过，，高精度，低膨胀系数等特点 ■紫外熔融石英JGS1光谱范围185-2500nm■光学熔融石英JGS2光谱范围200-2500nm ■全光谱熔融石英JGS3光谱范围260-3500nm■紫外透过率比K9透过率高 JGS1，JGS2，JGS3典型参考光谱曲线应用于：光源窗口，紫外探测窗口，航天航空，激光系统，科研实验窗口，检测器窗口等由于瑞研提供石英玻璃的具有各种优良特性，它是近代jian端技术中空间技术、原子能工业、自动化系统，以及半导体、冶金、化工、电光源、通讯、轻工、建材、电光源器、半导通信装置、激光器，光学仪器，实验室仪器、电学设备、医疗设备和耐高温耐腐蚀的化学仪器国防等工业中不可缺少的优良材料之一，应用十分广泛。石英窗口片物理性能石英玻璃片是用二氧化硅制造的特种工业技术玻璃，是一种非常优良的基础材料。石英玻璃片具有一系列优良的物理、化学性能，如：1、耐高温。石英玻璃的软化点温度约1730℃，可在1100℃下长时间使用，短时间zui高使用温度可达1450℃。2、耐腐蚀。除氢氟酸外，石英玻璃几乎不与其他酸类物质发生化学反应，其耐酸能力是陶瓷的30倍，不锈钢的150倍，尤其是在高温下的化学稳定性，是其他任何工程材料都无法比拟的。3、热稳定性好。适应玻璃的热膨胀系数极小，能承受剧烈的温度变化，将石英玻璃加热至1100℃左右，放入常温水中也不会炸裂。4、透光性能好。石英玻璃片在紫外线到红外线的整个光谱波段都有交好的透光性能，可见光透过率在93%以上，特别是在紫外线光谱区，zui大透过率可达80以上。5、石英玻璃的电绝缘性能好。石英玻璃的电阻值相当于普通玻璃的100倍，是极好的电绝缘材料，即使在常温下也具有良好的电性能。 石英玻璃片的光学性能有其独到之处，它既可以透过远紫外线，是所有透紫外材料zui优者，又可透过可见光可近红外光谱。由于石英玻璃耐高温，热膨胀系数极小，化学稳定性好，气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美，所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系数的必不可少的光学材料。 三种常见窗口片材料特性JGS1，JGS2，JGS3JGS1特性介绍：它是用高纯度氢氧熔化的光学石英玻璃，所以含有大量的羟基（2000ppm），具有优良的透紫外性能，特别是在短波紫外区，其透过性能远远地胜过所有其他玻璃，在185μm处的透过率可达90％，合成石英玻璃在2730nm处具有很强的吸收峰，无颗粒结构，是185-2500mμ波段范围内的优良光学材料。 JGS2特性介绍：石英原料和氢氧焰生产的石英玻璃，含有几十ppm的金属杂质。在2730nm处有吸收峰（羟基含量100-200ppm），有条纹和颗粒结构。它是透过220—2500μm波段范围内的良好材料。 JGS3特性介绍：用石英原料和真空电熔法生产的石英玻璃，含有几十ppm的金属杂质。有小气泡，颗粒结构和条纹，几乎不含（OH），具有较高的透红外性能，透过率高达85％以上，其应用波段范围260—3500μm的光学材料。 瑞研科技专业提供石英窗口片及镀膜服务可提供石英窗口片镀膜服务：抗反射膜，特定波长增透膜，宽波段增透膜，特定角度增透膜，激光波长增透膜755nm双面增透膜，1064nm增透膜，氟化镁增透膜，双面400-700nm增透膜，1064nm&532nm双波长增透膜，1654nm增透膜，700-1000nm增透膜，疏水膜层，防水膜层670nm增透膜，900-1000nm增透膜，640-840增透膜，405nm增透膜，400-900nm增透膜，400-1000nm增透膜，532nm增透膜，632.8nm增透膜，808nm增透膜，980nm增透膜，1064nm增透膜，1550nm增透膜，425-675nm增透膜；600-1050nm增透膜，370-675nm增透膜，650-1050nm增透膜，1050-1620nm增透膜，AR镀膜等 高精度定制服务：可提供高精度面型窗口片定制服务：1/10λ；1/20λ面型精度概念：面型精度采用精密抛光表面与理想平面的偏差量来表征。因为使用可以测量波面的干涉仪来测量，所以也称为反射面精度。面型精度的干涉条纹数的单位是λ。λ是干涉仪所用的氦氖激光器的波长632.8nm。表征面型精度有两个参数：PV和RMS值。PV值是 Peak to Valley （峰值与谷值的差值 ），RMS值是 Root Mean Square （ 均方根值 ），根据经验RMS值是PV值的1/3左右。因为像平面这类的简单形状，大多使用PV值来表示。例如：面型精度的PV值是1/4λ时，表示理想平面的zui大偏差值是158.2nm。 定制参数信息：光洁度：40-20；60-40；20-10等平行度：＜3′；＜2′；1-2′；＜3″；≤5 arcsec；≤1 arcsec等厚度：0.5mm，1mm，1.3mm，1.5mm，2mm，2.5mm，3mm，4mm，5mm，8mm，10mm，20mm等波前畸变：λ/4@632.8nm；λ/8 @632.8nm；λ/10 @632.8nm；λ/20 @632.8nm平面窗口片楔角度，楔形定制，提供超大尺寸定制瑞研光学提供各种石英窗口片，包括JGS1，JGS2，JGS3，Suprasil 300，Corning 7940，Suprasil 1，Suprasil 2等定制高精密窗口片，瑞研光学可提供Zygo干涉仪校准紫外熔融石英窗口片紫外熔融石英从紫外到近红外波段（185-2100nm）都有很高的透过率，它是应用于紫外到近红外波长范围的理想选择。此外，与H-K9L（N-BK7）相比，紫外级熔融石英具有更好的均匀性和更低的热膨胀系数。瑞研光学提供未镀膜和镀膜的高精度窗口片，客户也可定制尺寸和镀膜。紫外熔融石英超薄窗口片超薄窗口片的厚度只有传统紫外熔融石英窗口片的1/10，此种窗口片属于易碎品，需小心处理。瑞研光学提供未镀膜和镀膜的高精度窗口片，客户也可定制尺寸和镀膜 基本参数尺寸公差：-0.2mm/+0厚度公差：±0.2mm棱边倒角：＜0.25mm×45°通光孔径：90%光洁度：40-20表面精度：λ/4 @632.8nm平行度：＜1′型号名称材料光谱范围厚度RAFSW1-1紫外石英窗口片JGS1185-2500nm１ｍｍRAFSW1-2紫外石英窗口片JGS1185-2500nm２ｍｍRAFSW1-3紫外石英窗口片JGS1185-2500nm３ｍｍRAFSW1-5紫外石英窗口片JGS1185-2500nm５ｍｍRAFSW1-10紫外石英窗口片JGS1185-2500nm10mmRAFSW2-1石英窗口片JGS2200-2500nm１ｍｍRAFSW2-2石英窗口片JGS2200-2500nm２ｍｍRAFSW2-3石英窗口片JGS2200-2500nm３ｍｍRAFSW2-5石英窗口片JGS2200-2500nm５ｍｍRAFSW2-10石英窗口片JGS2200-2500nm10mmRAFSW3-1全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm１ｍｍRAFSW3-2全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm２ｍｍRAFSW3-3全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm３ｍｍRAFSW3-5全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm５ｍｍRAFSW3-10全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm10mm提供尺寸D10mm，D12.5mm，D25mm，25x25mm，D50mm，50x50mm等部分库存产品型号材料尺寸镀膜备注参数RAFSW1-D30-2JGS1D30X2mm无RAFSW1-D25.4-6JGS1D25.4X6mm无RAFSW7979-12.7-0.5Corning7979D12.7X0.5mm无RAFSW7979-30-2Corning7979D30X2mm无RAFSW1-D10-2-ARJGS1D10X2mm190-220nm增透RAFSW1-D20-2JGS1D20X2mm无RAFSW1-20-10-1JGS120x10mmx1mm无RAFSW1-D6-1JGS1D6x1mm无RAFSW1-D50.8-2JGS1D50.8X2mm无RAFSW1-D50.8-3JGS1D50.8X3mm无RAFSW1-D50.8-4JGS1D50.8X4mm无RAFSW1-D50.8-5JGS1D50.8X5mm无RAFSW1-D50.8-6JGS1D50.8X6mm无RAFSW3-D10-1-ARJGS3D10X1mm1500-2500nm增透RAFSW1-D6.95-7-ARJGS1D6.95mmx7mm900-1700nm增透RAFSW2-D30-2JGS2D30X2mm无RAFSW2-D20-2JGS2D20X2mm无RAFSW2-12-20-3JGS212x20x3mm无RAFSW2-D18-1.5JGS2D18X1.5mm无RAFSW2-D40-5JGS2D40X5mm无RAFSW2-D100-2.5JGS2D100X2.5mm无RAFSW1-D40-2-ARJGS1D40mmx2mm1064nm增透RAFSW1-D30-2-ARJGS1D30X2mm400-700nm增透RAFSW1-D12.7-3-ARJGS1D12.7x3mm532nm增透RAFSW1-80S-ARJGS280x80mmx1mm400-700nm增透 石英窗口片和K9窗口片；提供激光单波长增透；双波长增透；宽波段增透：166nm；193nm；284nm；351nm；355nm；532nm；632.8nm；745nm；670nm；780nm；792nm；808nm；980nm；1030nm；1064nm；1310nm；1535nm；1550nm；2060nm；350-650nm；420-670nm；650-1050nm；1050-1550nm增透指定波长透过率＞99.8% 产品使用注意事项1，石英窗口片使用时须轻拿轻放，使用前需要清洗，一般用乙醇乙醚混合液，或者无水乙醇清洗，条件允许可采购瑞研销售的柯达进口专用清洗液清洗，操作时应戴手套，不允许用手直接触碰窗口片，尤其已经镀膜的窗口片。2，每种规格的石英窗口片都有一个zui高使用温度，使用时不应超过此温度3，如果石英窗口片已经在高温下工作，建议连续使用，这对窗口片使用寿命是有好处的，频繁处于高低温循环环境中，会虽短窗口片使用寿命。4.石英窗口片具有良好的热稳定性，可耐受急速温度变化，但是由于应力及机械尺寸的影响，热稳定性会下降。5.石英窗口片具有耐酸碱特性，但是使用时要避免多种化学酸碱物质混合接触石英窗口片。

锗窗口片(锗受温度影响严重，透过率随温度的升高而降低，因此，它们只能在100C以下应用。在设计对重量有严格要求的系统的时候要考虑锗的密度(5.33 g/cm3)。锗主要应用在热成像系统和前视红外（FLIR）领域里面。锗的努氏硬度是780，大概是氟化镁硬度的两倍，这使它比较适合变化光学的IR领域的应用。锗窗口片在红外光学中的应用，主要是用来制造红外光学镜头以及保护红外光学镜头的红外光学窗口。60%以上的中低端红外光学镜头和50%的高端红外光学镜头均为锗单晶制造，锗材料在红外镜头中的应用十分广泛，包括军事应用和民用，在军事上主要用在机载红外镜头，舰载红外镜头，路基红外镜头，车载红外镜头，红外枪瞄镜头，头盔红外镜头，手持红外镜头等；民用红外窗口主要应用在各种监控热像仪，夜间驾驶仪，安防，民用车辆，民用船只，民用飞机等材质Optical grade germanium single crystals 通光孔径90% 尺寸公差+/-0.02mm 厚度公差 +/-0.02mm 面型20/10平行度 30 arc seconds倒角 0.3-0.5mmx45degree 镀膜 AR/AR@7-14μm DLC/AR@7-14μm BBAR/BBAR@3-12μm 以上参数仅供参考，具体内容请咨询客服人员。

Zygo光学元件窗口ZYGO为最高精度、最先进的应用提供光学窗片，在全球范围内备受信赖。45年来，我们一直专注于将最具挑战性的光学设计变为现实中的产品。ZYGO作为您的设计合作伙伴，确保您收到的窗片符合您最严格的规格。光学窗片是一种抛光材料，在电磁波谱的某一部分是透明的，这允许所需的光谱部分不受改变地进入光学仪器。ZYGO的优势ZYGO的光学窗片采用严格的制造工艺，这使它们能够在各种极端环境下可靠地工作。ZYGO窗口被用在水下、沙漠、高海拔地区和地球轨道上。我们生产的一些常见类型的窗片包括：共形窗片碎片防护罩激光窗口计量透射平面潜望镜窗口真空窗观察窗我们为客户定制设计每一个光学窗口，旨在满足或超越他们的要求。我们采用最先进的制造技术，制造出来的窗口是独一无二的。ZYGO的专有工艺使我们能够制造出符合高规格要求的光学窗片，例如：直径达到1米，甚至大于1米的尺寸先进的薄膜涂层优异的透射波前误差高纵横比精确的楔角公差高抗弯强度高激光损伤阈值复杂的几何形貌应用ZYGO在制造用于各种应用的定制光学窗片方面有着悠久的历史。凭借我们的计量专业知识、制造经验、耐用涂层和环境测试能力，我们可以为您提供相关数据，确保我们提供的产品满足您最苛刻的要求。国防&航空航天情报、监视和侦察（ISR）FLIR传感系统高能激光（HEL）/定向能源项目医学/生命科学符合ISO13485:2003标准的工厂制造研究与开发物理粒子研究地球科学卫星材料ZYGO能够加工用于紫外、可见光和红外波长区域的各种光学材料。我们的工程师可以随时根据成本、时间计划和性能，帮助您选择或建议您选择适合您具体应用的材料。

联系我们：X射线透射显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形) 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm) 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品(30-500nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线(例如碳边吸收谱)，100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下：　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 ≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm ≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm ≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定(粗糙度小于1nm)，对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、同步辐射X射线(紫外或极紫外)透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜(薄膜直接沉积在窗口上)。 3、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 氮化硅薄膜窗口系列 SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口阵列系列 SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2阵列，膜厚：50nm SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列；膜厚：50nm SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm 氧化硅薄膜窗口系列 SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：50nm SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：100nm SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列 SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm 特殊定制产品 SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整张，10×10mm切片 衬底厚度：200um 温度范围：1000℃ 真空适应：1个大气压 厚度可以选择：200um，381um，525um，需要提前说明。联系我们：

窗口玻璃WKCK【简介】： 窗口玻璃WKCK的种类包括紫外光学窗口、可见光学窗口、红外光学窗口，其中红外光学窗口是非制冷红外焦平面探测器系统中必要的部件，主要应用于热成像领域，其要求是红外透过率的同时，滤掉某些杂散光，以达到成像效果清晰。 在某些应用领域对于红外成像的要求越来越高；并且因为大部分时间在野外工作，因此环境中的雨滴、砂粒等颗粒会对窗口表面膜层产生比较大的冲击，其表面需要镀制保护膜以提高其抗雨蚀、砂蚀的能力。红外光学窗口性能优异，真空封装后气密性好，可广泛应用于红外热像仪、测温仪、红外传感器等。窗口玻璃WKCK【技术指标】：序号名称参数1种类紫外光学窗口、可见光学窗口、红外光学窗口2材料光学玻璃 熔融石英 蓝宝石 航空有机玻璃3外 形4mm～1200mm+0.0/-0.1mm4厚度公差±0.1mm5平行度10arc sec～3arc min面 型：l/10-l/46光 洁 度10/5-80/507通光孔径90%8镀 膜光学真空镀膜9表面缺陷标准依据标准MIL-PRF-13830B用两组数字表示表面缺陷大小10划痕以标准《MIL-O-13830》的表面质量划痕样板作为各级数划痕的比对标准11麻点以标准《MIL-PRF-13830B》麻点的级数取允许缺陷的实际直径，规定以1/100mm作为计量单位。如果麻点形状不规则，则取最大长度和宽度的平均值作为直径。12加工主要设备有光学研磨抛光机、光学精雕机、磨边机、光学真空镀膜机等设备

窗口火试验模型模拟垂直的建筑面由主墙和与之垂直的副墙构成，外保温系统安装在建筑面上，试验模型底部燃烧室的开口模拟实际建筑中楼层的窗口或洞口，点燃的木材或燃气的火焰从窗口溢出，模拟房间内发生轰燃后的火焰从窗口或洞口溢出时对外保温系统的攻击，检验外保温系统的受损程度，并对其火焰传播性进行判定。试验用火源采用约400kg的木材，30分钟内释放的总热量约为4500MJ，热释放速率峰值约为(3± 0.5)MW。 该测试系统，提供了5分钟后的点火提示警报，当点燃后，自动判定测试开始时间，同时可以自动判别测试过温，同时电脑可视频显示燃烧测试状态，同时电脑软件可以记录滴落时间、垮塌时间、温度数值同时显示温度曲线等测试相关信息。 窗口火试验装置满足 GB/T 29416-2012测试标准，其组成部分包括： 1、 美国Medtherm 水冷热流计，量程为0-100KW/M2 3个 （如果使用燃气作为燃烧源需要选择）2、 风速传感器1个，0-10M/S，精度为0.1M/S3、 摄像机2台，含电脑显示装置2套4、 美国OMEGA热电偶30支5、 热电偶线500英尺6、 研华数据采集板卡4套7、 电脑2台8、 热流计可移动信号箱1个9、 电控箱1个10、信号转换箱1个11、现场布线

TECHSPEC® 锗窗口片 红外应用可选未镀膜版和镀增透膜版，适用于各种红外应用低色散使色像差相对变得极低非常适合用于需要坚固光学窗口片的红外应用此外还提供DLC 镀膜锗窗口片TECHSPEC® 锗 (Ge) 窗口片有现货，可选三种增透膜: 3 - 5μm波段的增透膜适用于中红外应用，3 - 12μm波段的增透膜适用于宽带多光谱应用, 8 - 12μm波段的增透膜适用于热成像应用。锗光学材料也比较适合做设计波长在8-12μm内的增透膜（AR）镀膜的膜层材料。锗受温度影响严重，透过率随温度的升高而降低，因此，它们只能在100® C以下应用。在设计对重量有严格要求的系统的时候要考虑锗的密度(5.33 g/cm3)。锗主要应用在热成像系统和前视红外（FLIR）领域里面。锗的努氏硬度是780，大概是氟化镁硬度的两倍，这使它比较适合变化光学的IR领域的应用。#20-167 锗窗口片 其它通用分析

Edmund λ/10 #23-136 紫外熔融石英窗口片 其它通用分析产品系列说明可选紫外、可见光以及近红外波段镀减反膜版适用于高精度应用的高容限功能尺寸介于直径 5 - 150mm 之间另有 1λ 或 λ/4 紫外熔融石英窗口片可供选择高精度的TECHSPEC® λ/10 UV熔融石英窗口片具有激光等级的表面精度和平行度。不仅如此，这些窗口片将会把透射的波前畸变度限制在λ/10。本产品备有无镀膜窗口片，以及经优化用于UV或可见光光谱的增透膜窗口片。它结合了yi 流的透射率、jue 佳的热属性以及高容限生产规格，因此极为适合用于条件严苛的应用中。

擎轩科技布儒斯特精密窗口片的详细信息品牌：其他型号：QXBULST材质：?UV熔融石英基底适用范围：本窗口片成为从紫外到近红外的理想选择用途：非常适合在激光腔内使用装箱数：1000加工定制：加工定制外形尺寸：25mm重量：0.01㎏Wavelength Range：185 nm - 2.1 μm UncoatedTransmitted Wavefront Errora： λ/10Clear Aperture：90% of Minor AxisBrewster Angle：55° 32' @ 633 nm擎轩科技布儒斯特精密窗口片布儒斯特窗口片 特性 激光腔的理想选择 UV熔融石英基底 小直径尺寸：6 mm、8 mm、13 mm、16 mm、20 mm和25 mm P偏振光透过，无反射损耗 提供布儒斯特窗口片安装座布儒斯特窗口片的基底不镀膜，可串联用作偏振片，或用来提纯部分偏振光。以布儒斯特角放置时，光束的P偏振分量通过窗口片时无损耗，而S偏振分量将通过布儒斯特窗口片时会部分反射。右图显示的是633 nm的光通过UVF熔融石英时S和P偏振的反射率。我们布鲁斯特窗口片的表面质量为10-5划痕-麻点，λ/10的透过波前误差，非常适合在激光腔内使用。这些布儒斯特窗口片是用紫外熔融石英制作的，这使得激光经过它的时候几乎不能诱发出荧光(在193 nm下测量)，从而让本窗口片成为从紫外到近红外的理想选择。欲知紫外熔融石英的透射率曲线，请见上面的曲线图标签。由于紫外熔融石英的折射率随波长变化，布鲁斯特角取决于波长，曲线标签包含了对应的变化关系。我们提供可以安装8 mm、13 mm、16 mm、20 mm和25 mm小直径布儒斯特窗口片的安装座。这些安装座有55° 32’的安装角(633 nm下的布鲁斯特角)，并带有一个出射s偏振反射光的端口，以便在任一方向都可以使用安装座。Minor Diameter 6.0 mm8.0 mm8.0 mm13.0 mm16.0 mm20.0 mm25.0 mmMinor Diameter Tolerance+0.00 / -0.10 mmThickness1.0 mm2.0 mmThickness Tolerance±0.1 mm±0.2 mm±0.1 mmBrewster Angle55° 32' @ 633 nmClear Aperture90% of Minor AxisParallelism≤5 arcsecTransmitted Wavefront Errora λ/10Surface Quality10-5 Scratch-DigWavelength Range185 nm - 2.1 μm (Uncoated)

紫外熔融石英楔形激光窗口片”参数说明型号：紫外熔融石英楔形规格：2.0 - 16 μm商标：一博包装：纸箱Diameter Tolerance：+0.0 / -0.2 mm紫外熔融石英楔形激光窗口片”详细介绍特性30弧分楔形N-BK7或者UV熔融石英基底镀增透膜，中心波长在普通激光激发波长附近（范围为261 - 1100 nm）?1英寸窗口片，厚5.0 mm损伤阈值高（请参看下方了解细节）联系我们可定制尺寸QXKJ提供一系列两边都镀膜的楔形激光保护窗口片。这种楔形光学元件消除了条纹样式，避免了腔反馈。窗片可以保护激光输出不受环境影响方面，用于光束取样应用 。这些楔形窗口片镀有中心波长在普通激光波长附近的增透膜，并且损伤阈值很高，能为大多数工业和激光保护应用提供非常好的解决方案。我们还提供不同基底材料和镀膜选项的其它楔形窗口片。此外，可定制楔形窗口片的尺寸、厚度或楔形角度；更多详情请联系我公司技术。 Wedge Angle30 ± 10 arcminDiameter 1"Diameter Tolerance+0.0 / -0.2 mmClear Aperture≥22.86 mmThickness5.0 mmThickness Tolerance±0.4 mmSurface Flatnessa≤λ/20 Over Central ?10 mm ≤λ/10 Over Entire Clear ApertureSurface Quality10-5 Scratch-DigAR Coating Range261 - 266 nm350 - 450 nmReflectance over AR Coating Rangeb每个表面Ravg 0.5%；两面镀膜SubstrateUV Fused SilicacDamage Threshold2 J/cm2 (266 nm, 10 ns, 10 Hz, ?0.271 mm)10 J/cm2 (355 nm, 10 ns, 10 Hz, ?0.170 mm)

简介：具有多面观察窗口，液氮管路和电气连接线设置在腔体上表面，合适封闭的光路测试需求。配套仪器型号：岛津UV2600、爱丁堡光谱仪配套：A230（一英寸滤光片安装窗口）、A2302（不同材质窗片）、A1405 （真空阀门）、 A2601（真空电学接头）、A2506（光谱仪竖直腔体安装板）；制冷方式：液氮制冷温度范围：-196到600℃显示精度：0.1℃控温精度：0.1℃样品区域：30*35mm最大加热速率：50℃/min最大冷却速率：-40℃/min观察窗口大小：φ41/25mm窗口个数：四面外观尺寸：φ110*250mm腔体净重：2.5KG真空度：≤1Pa备注：选配滤光片

简介：采用旋盖结构取放样品。变温区间大，适合不同材料的光学性质研究（见附录11.3）。窗口可更换不同材质的窗片，同时腔体可根据光谱仪不同厂家型号订制安装板；配套：A2402（光谱仪圆腔安装板）、A2404（光学平台圆腔支架）、A2501（XYZ轴位移台）；制冷方式：无温度范围（℃）：-196到600℃显示精度（℃）：0.1控温精度：0.1℃样品区域：30*35mm最大加热速率：50℃/min最大冷却速率：-40℃/min正面观察窗口大小：φ41mm背面观察窗口大小：φ25mm外观尺寸：90*120*40mm腔体净重：200g备注：选配光纤接口

原位芯片是目前全球为数不多的有能力制造原位液体芯片的制造商。原位芯片目前可以提供用于透射电子显微镜的原位液体芯片TL-400，同步辐射及扫描电子显微镜的原位液体芯片:TBL500，此外，原位芯片也可根据实际实验条件及要求进行定制。 TEM原位液体芯片TL-400液体芯片可以实现高分辨原位TEM液体观测，分辨率可以达到1nm以上。液体芯片中间有40 x 40 x 0.1um的氮化硅薄膜观察窗口，芯片左右两侧各有一个液体滴加口和一个负压吸液口。 原位实验时首先在液体滴加口滴入待测液体，利用配套的负压装置，通过负压将待测液体吸入液体腔室中，再使用环氧树脂密封两个液体滴加窗口，待胶固化后即可进行原位液体观测。TL-400可应用于以下研究分析： • TEM、SEM和拉曼等设备的液体环境样品观测和分析；• 原位化学反应观测、晶体生长和腐蚀原位研究；• 观测研究液态环境中的活细菌和细胞等生物样品。 同步辐射/SEM原位液体芯片TBL-500液体芯片可以实现高分辨原位同步辐射和SEM液体（兼容扫描透射模式）观测。液体芯片中间有400 x 800 x 1um的大型耐真空氮化硅薄膜观察窗口，芯片左右两侧各有一个液体滴加口和一个负压吸液口。 原位实验时首先在液体滴加口滴入待测液体，利用配套的负压装置，通过负压将待测液体吸入液体腔室中，再使用环氧树脂密封两个液体滴加窗口，待胶固化后即可进行原位液体观测。TBL-500可用于： • 同步辐射、SEM和拉曼等设备的液体环境样品观测和分析；• 原位化学反应观测、晶体生长和腐蚀原位研究；• 观测研究液态环境中的活细菌和细胞等生物样品。

抗反射AR高精度激光窗口片 该窗口片具有超高的光学透过率以及超低的透过畸变，经常作为Nd:YAG激光器应用的最佳保护性窗片§ 高质量的BK7或UV FS材料基底§ 针对266 nm, 355 nm, 532 nm 或1064 nm 的增透AR膜

SG系列原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格SG系列由先进的微电子工艺打造，可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形，适用于所有TEM样品杆，为适用于多种实验条件，原位芯片为科研人员提供了单窗格，多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用低应力技术（250MPa），化硅膜薄透且不易破损，非常适合于前沿的生物、材料、物理、化学等方面的研究。 产品应用• 搭载TEM、SEM、AFM、拉曼和XRD等设备的样品。超薄的氮化硅膜可以为您提供稳定的样品观测平台；• 可适用于需要加热处理的样品观测，本产品可耐受约1000℃高温；• 可适用于需要化学处理的样品观测，可以耐受盐酸、硫酸和强碱的腐蚀；• 可用于生物样品观测，氮化硅薄膜具有良好的生物亲和性；• 可适用于需要避C/Cu等元素的样品观测，载网表面无碳元素薄膜；• 可用于TEM、SEM、AFM、拉曼、XRD和同步辐射等设备的单一以及联合交叉检测。 技术参数SG同步辐射氮化硅薄膜窗口外框项目参数外框参数材料N/P 型硅片 电阻率1~10Q*cm氮化硅项目 参数 氮化硅项目 参数材料 LPCVD 氮化硅 应力250MPa介电常数6-7介电强度10 (106V/cm）电阻率1016Ω*cm粗糙度（Ra)0.28±5% nm杨氏模量270Gpa 粗糙度(Rms)0.40±5% nm 产品型号产品编号膜厚窗口尺寸SG010Z10nm0.10×0.10mmSG015Z10nm0.15×0.15mmSG025Z10nm0.25×0.25mmSG050Z10nm0.50×0.50mmSG025A15nm0.25x0.25mmSG050A15nm0.5x0.5mmSG100A15nm1x1mmSG025B30nm0.25x0.25mmSG050B30nm0.5x0.5mmSG100B30nm1x1mmSG025C50nm0.25x0.25mmSG050C50nm0.5x0.5mmSG100C50nm1x1mmSG050D100nm0.5x0.5mmSG025E200nm0.25x0.25mmSG050E200nm0.5x0.5mm每盒包含10枚芯片

KEWLAB旗下标准精度平面窗口均可根据您的需求添加镀膜，镀膜方式可选：1. VIS增透膜@350~700nm2. NIR增透膜@600~1100nm3. SWIR增透膜@900~1700nm 产品概述：材料：精退火K9光学玻璃表面面型：波长/ 2 @ 633 nm平行差：小于1分表面光洁度：3~4级直径误差：+0.0/-0.2mm厚度公差：±0.2mm倒边：0.2mmX45°镀膜：详见KEWLAB产品列表 产品规格：图纸直径Dia (mm) 50厚度（mm）4更多不同尺寸标准精度平面窗口，请移步KEWLAB中国。

在以前，实验室使用电子显微镜观测样品做实验使用的耗材，这些氮化硅薄膜观测窗口基本都是从国外进口。耗材成本先不说，就购买的时间成本是非常长的。如果实验数据不是很理想，还要花时间和费用去购买耗材，非常不便捷。 为了打破这种垄断，在电镜氮化硅薄膜观测窗口的国产化上，国内科研人员也是花费了时间和精力去开发和生产。目前，原位芯片提供的显微镜氮化硅薄膜观测窗口已经可以取代进口，广泛用于高校、科研机构，也远销国外，成为实验室“好帮手”。原位芯片可以提供多种电镜氮化硅薄膜观测窗口，其中微孔氮化硅薄膜窗口主要是ME/NE系列。 ME/NE系列原位芯片生产的微孔/纳米孔氮化硅薄膜窗口均在百级洁净环境中制备，在窗口薄膜上利用MEMS工艺制备不同孔径大小的阵列，方便研究人员用于特殊样品观测。目前苏州原位芯片已推出以下标准微孔/纳米孔氮化硅薄膜窗口，如客户有其他微孔/纳米孔薄膜窗口需求，原位芯片可提供开发定制。 定制服务原位芯片拥有一支超过10年MEMS工艺经验的团队，拥有完整的设计，制造和测试能力。如您的实验需要更多定制化，高质量，高可靠性的氮化硅薄膜窗口，欢迎随时联系我们。为什么要选择原位芯片定制服务

SHNTI的X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。现在SHNTI可以提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：外框尺寸 (4种标准规格):5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形)7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm)10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形)边框厚度： 200μm、381μm、525μm。Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nmSHNTI也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。现在SHNTI可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：外框尺寸:3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm) 边框厚度： 200μm、381μm。Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nmSHNTI也可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标：表面平整度：我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。亲水性该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。温度特性：氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。化学特性：氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。应用简介和优点：1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、 背景氮化硅无定形、无特征。5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。氮化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。作为耐用基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现氧化硅薄膜窗格的价值。优点：&bull SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。&bull x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。&bull 无氮高温应用，氮化硅薄膜在1000°C高温下仍能保持稳定的性能。使用前清洁：氮化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。详细情况，您可以与我们取得联系。我们为您一一解答。

可提供高品质、大尺寸、宽波段、平面等窗口材料。详情请见官网

λ/4表面精度可选择宽带增透膜窗口片OEM批量采购便可享有定制的镀膜和尺寸另外也备有激光V型镀膜TECHSPEC® λ/4 N-BK7精密窗口片非常适合用于工业及低功率激光应用。其高精度设计使得窗口片甚少发生波束畸变与散射的情况。宽带镀膜选项让可见光和近红外光谱产品方面的精密窗口片选择变得更为广泛。Edmund #45-573 精密窗口片光学仪器通用规格 色散系数 (vd):64.17有效孔径 (%):90热膨胀系数 CTE (10-6/°C):7.1努氏硬度 (GPa):610杨氏模量 (GPa) :82密度 (g/cm3):2.51 折射率 nd:1.516泊松比 :0.206基底:N-BK7表面质量:60-40 厚度容差 (mm):±0.20

Tydex太赫兹窗口片（THz Windows）我们提供晶体材料和聚合物材料的THZ窗口片品牌：俄罗斯Tydex一、晶体材料窗口片1.1、 HRFZ-Si 窗口片技术参数：材料 HRFZ-Si外型 平行平板最大直径, mm 150直径加工公差,mm 0厚度公差, mm +/0.1通光口径, % =90平行度, arc. min 3表面质量, scr/dig 60/40表面精细度, mm +/-0.01和理想平板的差异膜层 高透膜层1.1、 聚合物材料窗片技术参数：材料 TPX 和 HDPE外型 平行平板, 楔型(楔角为6 mrad)最大直径, mm 100直径公差,1mm + /-0.25通光口径, % =90表面质量, scr/dig 80/50 scr/dig (两面抛光) fine-ground (only HDPE)表面粗糙度 Rz 0.025 (TPX) Rz 0.05 (抛光 HDPE) Rz 0.1 (fine-ground HDPE)表面精细度, mm +/-0.01 和理想平行平板的偏差关于俄罗斯Tydex公司： Tydex公司位于俄罗斯圣彼得堡,是世界上Golay Cell的唯一的原产商。Tydex公司还生产离轴抛物面镜，大口径天文光学器件等产品。

Spectrogon超宽反射窗口Broad Band Antireflection (BBAR) WindowsSpectral curve at room temperature and normal incidence angle is supplied with each window.一般规格：Diameter tol: φ25.4 mm +0/-0.2 mm, φ75.0 and φ100.0 mm +0/-0.3 mmThickness tol: +/- 0.2 mmSurface finish: S&D 60/40CA: 90 % centerSpectrogon超宽反射窗口参数Art noDescriptionSub-stratemin Tavg %716.700.640BBAR-3000-5000 nm φ25.4x0.5 mmSi97 %716.700.641BBAR-3000-5000 nm φ25.4x1.0 mmSi97 %716.700.642BBAR-3000-5000 nm φ100.0x0.5 mmSi97 %716.700.643BBAR-3000-5000 nm φ100.0x1.0 mmSi97 %716.700.650BBAR-8000-12000 nm φ25.4x0.5 mmSi88 %716.700.651BBAR-8000-12000 nm φ25.4x1.0 mmSi88 %716.700.652BBAR-8000-12000 nm φ100.0x0.5 mmSi88 %716.700.653BBAR-8000-12000 nm φ100.0x1.0 mmSi88 %716.700.660BBAR-2500-14000 nm φ25.4x0.5 mmSi3-5 μm 90 % 8-12 μm 80 %716.700.661BBAR-2500-14000 nm φ25.4x1.0 mmSi3-5 μm 90 % 8-12 μm 80 %716.700.662BBAR-2500-14000 nm φ100.0x0.5 mmSi3-5 μm 90 % 8-12 μm 80 %

产品概述：材料：光学级蓝宝石材料表面面型：1~2波长 @ 633 nm平行差：小于3分表面光洁度：5级直径误差：+0.0/-0.1mm厚度公差：±0.1mm倒边：0.1mmX45°镀膜：无 产品规格：图纸直径Dia (mm) 12.5厚度（mm）1更多不同尺寸蓝宝石标准精度平面窗口，请移步KEWLAB中国。

产品概述：材料:光学级蓝宝石材料表面面型:波长/4 @ 633 nm平行差:小于30秒表面光洁度:3级直径误差:+0.0/-0.1mm厚度公差：±0.1mm倒边:0.1mmX45°镀膜:无 产品规格：图纸直径Dia (mm) 6.3厚度（mm）1更多不同尺寸蓝宝石高精度平面窗口，请移步KEWLAB中国。

产品概述：材料：精退火K9光学玻璃表面面型：波长/10 @ 633 nm平行差：小于10秒表面光洁度：1~2级直径误差：+0.0/-0.1mm厚度公差：±0.2mm倒边：0.2mmX45°镀膜：无 产品规格：图纸直径Dia (mm) 75厚度（mm）14更多不同尺寸高精度平面窗口，请移步KEWLAB中国。

TE系列：原位芯片X-Ray氮化硅薄膜窗口TE系列，为满足科研人员对样品的观测需求，苏州原位芯片采用先进的微电子工艺，设计并制造了专门用于同步辐射线站及扫描电子显微镜(SEM)的标准氮化硅膜窗格。苏州原位芯片氮化硅膜窗格具有高洁净度，高X-射线透射性，低应力，高强度且膜厚均匀一致的特性，适用于高温(～1000℃)实验以及不同压力环境的测试。目前我们的产品已被全球范围内的科研人员广泛认可且用于其生物、材料、物理、化学等方面的研究。 产品应用纳米材料，半导体材料，光学晶体材料，功能薄膜材料胶体，气凝胶，有机材料和纳米颗粒的表征实验含碳样品分析（光阻剂，聚合物，食品，油品，燃料等)用于化学反应及退火效应的原位表征作为生物、细胞载体技术参数TE同步辐射氮化硅薄膜窗口外框项目参数外框参数材料N/P 型硅片 电阻率1~10Q*cm氮化硅项目 参数 氮化硅项目 参数材料 LPCVD 氮化硅 应力250MPa介电常数6-7介电强度10 (106V/cm）电阻率1016Ω*cm粗糙度（Ra)0.28±5% nm折射率@630nm2.15-2.17 粗糙度(Rms)0.40±5% nm 产品型号产品编号膜厚窗口尺寸框架大小TE025Z10nm0.25x0.25mm5x5mmTE050Z10nm0.5x0.5mm5x5mmTE025Y20nm0.25x0.25mm5x5mmTE050Y20nm0.5x0.5mm5x5mmTE025A30nm0.25x0.25mm5x5mmTE050A30nm0.5x0.5mm5x5mmTE100A30nm1x1mm5x5mmTE025B50nm0.25x0.25mm5x5mmTE050B50nm0.5x0.5mm5x5mmTE100B50nm1x1mm5x5mmTE150B50nm1.5x1.5mm5x5mmTE200B50nm2x2mm5x5mmTE025C100nm0.25x0.25mm5x5mmTE050C100nm0.5x0.5mm5x5mmTE100C100nm1x1mm5x5mmTE150C100nm1.5x1.5mm5x5mmTE200C100nm2x2mm5x5mmTE75050C100nm0.5x0.5mm7.5x7.5mmTE75200C100nm2x2mm7.5x7.5mmTE100300C(5pcs)100nm3x3mm10x10mmTE100500C(5pcs)100nm5x5mm10x10mmTE010D200nm0.1x0.1mm5x5mmTE025D200nm0.25x0.25mm5x5mmTE050D200nm0.5x0.5mm5x5mmTE100D200nm1x1mm5x5mmTE150D200nm1.5x1.5mm5x5mmTE200D200nm2x2mm5x5mmTE250D200nm2.5x2.5mm5x5mm每盒包含10枚芯片

医用创口冲洗机是一款专业的犬伤伤口冲洗设备，配有专用弱碱性皮肤黏膜冲洗消毒剂及高低位冲洗池，通过脉冲式水流对伤口、创口进行交替灌洗，达到减少细菌病毒数量的目的，符合规范化犬伤伤口处置规范，是犬咬伤标准化门诊建设常用设备。研发背景：近年来，随着我国宠物饲养量的快速增加，动物致伤尤其被犬、猫伤害的人数不断增加，再加上运动、野外作业等意外产生的外伤，污染伤口清创作为外伤处置第一步，也就显得尤为重要；处理不慎增加了感染狂犬病、破伤风的风险！一. 我国是受动物致伤（狂犬病）危害最为严重的国家之一，仅次于印度，居全球第二位，狂犬病一直位于我国各类传染病报告死亡数的前三位。二. 狂犬病不但严重威胁人民群众的生命安全，而且容易造成严重的心理影响和沉重的经济负担，不利于社会和谐发展，因而狂犬病的防治显得尤为重要。处置规范要求：卫生部2009版《预防处置规范》：第 7 条 伤口冲洗:用20%的肥皂水(或者其他弱碱性清洁剂) 和一定压力的流动清水交替彻底清洗、冲洗所有咬伤和抓伤处至少15分钟......较深伤口冲洗时,用注射器或者高压脉冲器械伸入伤口深部进行灌注清洗, 做到全面彻底。国家疾控2016版 《技术指南》：2、暴露后处置:伤口冲洗:用肥皂水(或其他弱碱性清洗剂)和一定 压力的流动清水交替清洗咬伤和抓伤的每处伤口至少 15 分钟。 如条件允许,建议使用狂犬病专业清洗设备和专用清洗剂对伤口内部进行冲洗。医用创口冲洗机优势：一：脉冲式水流：具有增压期和减压期，使伤口内的细菌、病毒的异物能借弹跳作用和组织分离，起到彻底清创的目的。二：配有专用弱碱性皮肤黏膜冲洗消毒剂和高低位池，满足标准化犬伤门诊建设要求三：国内唯一一家可移动式冲洗机，可以满足更多环境需求。四：自动打印功能，冲洗完毕自动打印冲洗凭证五：语音播报，各功能语音播报六：自动化，自动实现交替冲洗15分钟

Thorlabs 1英寸蓝宝石精密窗口片WG31050-D光学仪器特性直径1/2英寸和直径1英寸两种尺寸可选未镀膜的波长范围：200 nm - 4.5 µ m两边可选1.65 µ m - 3.0 µ m或2.0 µ m - 5.0 µ m的增透膜在较宽的温度范围上性能稳定我们的蓝宝石精密窗口片有1/2英寸和1英寸两种直径可选。未镀膜的版本设计用于150 nm - 4.5 μm范围内的应用，而镀增透膜的版本两边镀有抗反射膜，设计用于1.65 µ m - 3.0 µ m(-D)或2.0 µ m - 5.0 µ m(-E1)的范围。下方给出了性能曲线。每片窗口片都刻有产品型号，帮助识别。未镀膜的蓝宝石具有出色的表面硬度，且透过率的范围从紫外延伸到中红外波长区域。蓝宝石只能被除它之外的少数几种物质划伤。未镀膜的基底具有化学惰性，且在温度最高约1000°C时也不溶于水、常见的酸或碱。我们的蓝宝石窗口是z轴切面，所以晶体的c轴与光轴平行，消除了透射光的双折射效应。提供由多种其它基底材料制作而成的精密窗口片，用于多种激光和工业应用。关于我们完整的精密窗口片系列产品，请看右表“Flat Window Selection Guide ”。我们还提供激光器窗口片，它镀有中心波长为常用激光波长的增透膜；也提供布鲁斯特窗口片，它用来消除p偏振光的反射。Thorlabs Ø 1英寸蓝宝石精密窗口片Item #WG30530-DWG31050-DDiameter1/2" (12.7 mm)1" (25.4 mm)Diameter Tolerance+0.0 / -0.2 mmThickness3.0 mm5.0 mmThickness Tolerance±0.3 mmClear Aperture≥Ø 11.43 mm≥Ø 22.86 mmParallelism≤3 arcminSurface Flatnessa≤λ/2 Over Central Ø 5 mm≤λ Over Full Clear ApertureSurface Quality60-40 Scratch-DigAR Coating Range1.65 - 3 µ m (-D Coating)Reflectance over AR Coating RangebRavg 1.0% per Surface Both Sides are CoatedThorlabs Ø 1英寸蓝宝石精密窗口片

KEWLAB旗下紫外熔融石英标准精度平面窗口均可根据您的需求添加镀膜，镀膜方式可选：1. UV增透膜@250~425nm2. VIS增透膜@350~700nm3. NIR增透膜@600~1100nm4. SWIR增透膜@900~1700nm 产品概述：材料：紫外熔融石英表面面型：波长/2 @ 633 nm平行差：小于1分表面光洁度：3~4级直径误差：+0.0/-0.1mm厚度公差：±0.2mm倒边：0.2mmX45°镀膜：详见KEWLAB产品列表产品规格：图纸直径Dia (mm) 30厚度（mm）3更多不同尺寸紫外熔融石英标准精度平面窗口，请移步KEWLAB中国。