沃特世光刻胶成分分析和杂质鉴定方案 半导体晶圆制造过程中，为了形成精细的图案，在光刻环节中确认材料纯度、把控反应进程、以及鉴定杂质的结构等分析至关重要。报告中将分享光刻胶配方成分的分析和杂质的鉴定思路，有助于新材料的开发（例如扩散更可控的PAG光酸生成剂）、光刻胶配方研究、工艺过程比对、以及问题溯源等，以应对半导体行业光刻应用面临的挑战。 光刻工艺和光刻材料设计所面临的挑战； 光刻材料配方分析、光刻过程控制； 光酸生成剂成分分析、未知杂质鉴定和溯源；
