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如何用原子力显微镜评价高质量薄膜

主讲人:刘志文(牛津仪器科技(上海)有限公司) 上传时间:2021/09/23 14:09
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近几年,由于2D材料的火热和半导体行业的飞速发展,高质量薄膜沉积和外延生长越来越受到关注。CVD技术是制备高质量薄膜的技术之一。如何评价高质量薄膜对优化工艺非常关键。原子力显微镜(AFM)是评价薄膜质量不可或缺的技术手段。在本次讲座中,主要用AFM评价薄膜质量,材料涉及衬底、2D材料、半导体材料,量子点等,评价涉及薄膜生长机制、表面不均匀性、缺陷类型、薄膜粗糙度、力学性质、电学性质等,从而实现对薄膜质量的全面评估。

讲师简介:

2006年博士毕业于大连理工大学三束国家重点实验室,主要利用AFM, TEM, XRD等技术手段研究PVD制备的氧化物薄膜的生长机制。曾任Agilent纳米测量部应用科学家,主要从事AFM的应用工作。现为牛津仪器的资深应用科学家,从事原子力显微镜的应用推广、测试方法以及AFM相关的多系统耦合的研究。

相关领域:

(电子/电气/通讯/半导体)-(半导体)

相关仪器:

(光学仪器及设备)-(电子显微镜)-(扫描探针显微镜SPM(原子力显微镜AFM、扫描隧道显微镜STM))

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