聚焦离子束（FIB）的广泛应用与纳米图形、透射样品制备、三维成像和分析。然而传统的Ga+离子本身也存在一些局限性，比如加工尺寸小，有些样品易于受到Ga的污染。这里将介绍新型离子束的一些应用发展比如Xe,O,Ar,N离子。这些新型离子源为应对更大的加工效率和消除对样品的污染提供全新方法。可以针对材料的种类选择最优化的离子种类。
