鞠焕鑫博士，PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司应用科学家。2009年-2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位，毕业后在国家同步辐射实验室从事博士后研究。2012-2103年在美国华盛顿大学（西雅图）国家公派联合培养。2016年6月-2018年10月，中国科学技术大学国家同步辐射实验室副研究员，负责中国科学技术大学国家同步辐射实验室催化与表面科学实验站的运行管理，主要从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究。在学术研究方面与用户合作在Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文80余篇；主持/参与国家自然科学基金委青年科学基金、大科学装置联合基金培育项目和重点项目、国家重点研发计划等多个国家级科研项目。2018年11月，加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司，担任应用专家，负责 PHI CHINA南京表面分析实验室的创建以及运行管理。