X射线光电子能谱法作为一种实用的表面分析技术，广泛应用于材料表面的化学态表征。特别是基材上的覆盖薄膜层，可以使用XPS获得薄膜层的化学组成、薄层厚度以及元素随深度变化等重要信息。报告结合两个相关国家标准，分别介绍了用于准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的XPS方法以及应用XPS方法进行薄膜分析相关结果报告的指导。
