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PicoMaster激光直写光刻机在全息防伪和微纳制造中的应用

主讲人:宋毅 上传时间:2021/03/10 15:22
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课程详情

   矽万(上海)半导体科技有限公司,和其合作伙伴荷兰4PICO公司共同研发的PicoMaster系列无掩模激光直写光刻机,具有高分辨率、3D灰度光刻能力、设计灵活等优点,目前在全息防伪、半导体、微纳光学器件、光学衍射器件、微流控芯片、MEMS器件等领域具有广泛的科研院所和企业客户群体。  本报告将集中介绍PicoMaster无掩模激光直写光刻机的技术和应用。该产品采用405纳米激光光源和针对i-line光刻胶的375纳米激光光源,实现业界最高的250纳米光刻分辨率,利用红光激光控制器实现+/-300微米范围的自动聚焦。   同时,我们对客户提供包括涂胶、光刻、显影、测量在内的全套工艺解决方案,针对全息防伪应用提供最先进的全息设计软件,这里我们还会展示针对不同应用的加工样品。

讲师简介:

宋毅:宋毅博士,矽万(上海)半导体科技有限公司研发负责人,武汉大学工业科学研究院副教授、微电子学院装备部部长。2011年-2019年期间先后工作于比利时的imec微电子研究中心和荷兰的ASML光刻机公司。其主要研究方向包括3D激光直写、计算光刻、纳米尺寸光学测量、制程良率控制。

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