随着集成电路制造技术的不断发展，对于其所使用的材料要求也不断提高，其中无机元素含量已成为半导体材料品质控制中最为重要的指标之一。但对于硅及先进半导体材料、光刻胶、特种气体等，其中无机元素的超痕量分析都存在着不小的挑战。安捷伦ICP-MS的发展持续关注半导体行业的测试需求，为半导体材料分析提供可靠的解决方案。
