X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。在本次报告中，我们将重点介绍XPS和角分辨XPS技术，通过这些技术我们可以精准高效的表征超薄薄膜和半导体器件材料。分享的案例包括SiO2类栅极氧化层材料、氮氧化物高介电超薄薄膜的角分辨无损深度检测，以及有机半导体器件材料的团簇无损深度剖析等。
