典型用户

晶边缺陷检查设备

ECV设备品牌：TE 型号：CV300R

仪器名称：

晶边缺陷检查设备

英文名称：

wafer edge inspection tool

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

电子与通信技术

主要技术指标：

1. 高扫描精度, 其入射光斑小于2微米;2. 高光学放大倍率,至少达到500倍;3. 缺陷扫描能够覆盖上平面,上斜坡面,边缘顶点,下斜坡面和下平面 5个区域.

主要功能：

该设备可用于45纳米的工艺研发过程中的晶圆边缘缺陷检测

典型用户

上海集成电路研发中心有限公司

上海市企业

上海集成电路研发中心有限公司拥有频谱分析仪、晶边缺陷检查设备、缺陷检查设备、PSA系列频谱分析仪3Hz-26.5GHz、图像传感器测试机、CASCADE探针台、气体检漏系统、膜厚测量仪、IC-CAP软件及噪声测试硬件、匀胶显影设备等科研仪器。

安捷伦

1531台仪器 242家供应商

15台仪器 3家供应商

2台仪器 3家供应商

9台仪器 2家供应商

威尔

4台仪器 2家供应商

11台仪器 1家供应商

AMA

1台仪器 1家供应商