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LAB18薄膜沉积系统

化学气相沉积(CVD) 品牌:RT 型号:KJLC

仪器名称:
LAB18薄膜沉积系统

英文名称:
--

所属分类:
分析仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
电子与通信技术

主要技术指标:
金属及氧化物材料磁控溅射:包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等;本底真空:10E-8Torr

主要功能:
该设备的特点如下:本底真空可达到10E-8Torr量级;基片温度可以控制在室温~550℃;可对基片进行等离子体清洗;可实现6英寸及以下尺寸的硅片的溅射镀膜;溅射镀膜的粘附性好,片内均匀性能够达到5%以下;可对多种材料进行溅射,目前主要有金属、氧化物和氮化物薄膜,包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等

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