典型用户

超高真空磁控溅射设备

水浴、油浴、恒温槽品牌：真空型号：MS500B型

仪器名称：

超高真空磁控溅射设备

英文名称：

UHVTritargetMagnetronCoSputteringSystem

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电子产品通用工艺实验设备

学科领域：

材料科学能源科学技术环境科学技术及资源科学技术

主要技术指标：

1、系统真空指标：磁控溅射室：经48小时连续烘烤（150℃），优于6.0×10-6Pa；样品室：经12小时连续烘烤（120℃），优于6.0×10-5Pa；2、抽气速率：磁控溅射室：系统充入干燥氮气后暴露大气5分钟内开始抽气，在≤30分钟内，其真空度≤8.0×10-4Pa；样品室：系统充入干燥氮气后暴露大气5分钟内开始抽气，在≤30分钟内，其真空度≤7.0×10-4Pa；3、系统检漏漏率：优于1.3×10-8Pa?L/S。4、真空获得及测量溅射室：FB1200涡轮分子泵+2X

主要功能：

该设备采用磁控溅射方式，用于开发纳米级的单层及多层功能膜—各种金属膜、半导体膜、介质膜及各类光学薄膜、磁记录薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜等。