典型用户

原子层沉积系统

原子层沉积系统(ALD) 品牌:TE 型号:Savannah S100

仪器名称:
原子层沉积系统

英文名称:

所属分类:
其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
化学

主要技术指标:
基片尺寸:8英寸 加热温度:室温-450oC 均匀性: +/- 1% 前驱体数:4路 兼容性:可兼容100级超净室 真空度:5x10-7 Torr Base Pressure

主要功能:
1.可以通过控制反应周期数简单精确地控制薄膜的厚度,形成达到原子层厚度精度的薄膜 2.前驱体是饱和化学吸附,保证生成大面积均匀性的薄膜 3.可生成极好的三维保形性化学计量薄膜,作为台阶覆盖和纳米多孔材料的涂层 5.可以沉积多组份纳米薄层和混合氧化物 6.可在低温(室温到400oC)下生长薄膜 7. 可广泛适用于各种形状的衬底。 8.可以沉积氧化物、氮化物、氟化物、金属、碳化物、硫化物等多种薄膜材料

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中国科学院山西煤炭化学研究所拥有光电化学测试系统、CHNS/O有机元素分析仪、气质联用仪、原位 X射线粉末衍射仪、台式扫描电子显微镜、MOS波谱仪、液质联用仪、康塔IQ—微孔物理吸附仪、红外光谱仪、X-射线光电子能谱等科研仪器。

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