典型用户

多功能离子束增强沉积设备

自动进样器（多功能）品牌：同创型号：IBED-C600M

仪器名称：

多功能离子束增强沉积设备

英文名称：

Multifunctional Ion Beam Enhanced Deposition Equipment

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电真空器件工艺实验设备

学科领域：

物理学材料科学电子与通信技术

主要技术指标：

真空系统采用机械泵－涡轮分子泵复合系统，30分钟真空度可达到6.67×10-3 Pa，极限真空度：6.6×10-4 Pa；采用三路质量流量计对工艺气体进行计量、控制。离子溅射源束斑直径60－80mm，电压800－3000V，束流30－80mA；离子辅助源束斑直径60－80mm；电压800－3000V，束流30－80mA；大束流气体离子源束斑直径120－200mm；最高加速电压60kV，最大束流10mA；膜厚不均匀性：15％范围内。

主要功能：

1）多种气体离子或混合离子的大束流注入； 2）多种气体离子掺杂的材料表面改性； 3）氧化物等电介质薄膜的增强沉积； 4）金属和合金薄膜的增强沉积； 5）新型功能薄膜的离子束合成制备； 6）多层薄膜的溅射沉积和掺杂等。

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