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红外后对准双面光刻机

光刻机品牌：AB 型号：ABM/350/6/DCCD/BSIR

仪器名称：

红外后对准双面光刻机

英文名称：

ABM High Resolution Mask Alignment and Exposure System BSIR)

所属分类：

其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

物理学

主要技术指标：

主要用于功率电子器件、传感器、微波器件及MEMS（微电子机械系统）等新型电子元器件的单双面对准及曝光工艺。最小光刻线条：0.6μm或更好对准精度：正面对准: <><5μm 可支持的曝光模式：软接触、硬接触、真空模式、接近模式。="" 可用于20mm="">

主要功能：

350Watt 备用近紫外汞灯光源, 5 Gallon 显影液 300MIF, 1Gallon AZ 5214E-IR Positive Image Reversal Photoresist

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