典型用户

低压化学气相淀积台

其它测量/计量仪器品牌：青岛赛瑞达设备制造有限公司型号：SRD/L4210

仪器名称：

低压化学气相淀积台

英文名称：

所属分类：

计量仪器 > 热学计量仪器 > 银、铝、锌、锡、铟、镓水三相点定点装置

学科领域：

电子与通信技术

主要技术指标：

主要技术指标 ◆ 适用硅片尺寸：4~6 ” ◆ 工作温度范围：350~1000℃ ◆ 恒温长度及精度：760mm±1℃ ◆ 温度梯度：0~30℃可调 ◆ 系统极限真空度：0.8 Pa ◆ 工作压力范围：30Pa~133Pa可调 ◆ 淀积膜种类：Si3N4 片内＜±3% 片间＜±3% 批间＜±4% ◆ 淀积膜均匀性：Poiy－Si 片内＜±3% 片间＜±3% 批间＜±4% ◆ 淀积膜均匀性：SiO2 片内＜±3%

主要功能：

LPCVD 用于淀积Poly－Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及难熔金属硅化物等多种薄膜。广泛应用于半导体集成电路、电力、电子、光电子及MEMS等行业的生产工艺中。

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