典型用户

MCVD工艺研发平台

化学气相沉积（CVD）品牌：OP 型号：MCVD

仪器名称：

MCVD工艺研发平台

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

其他

主要技术指标：

具有稀土掺杂能力，最高工作温度2300℃，最大沉积尺寸φ28mm。

主要功能：

MCVD工艺(改进的化学汽相沉积法Modified Chemical Vapour Deposition)，是光纤预制棒四大制备技术之一，MCVD工艺研发平台是特种光纤的主要研发平台之一。 MCVD工艺是在一根石英包皮管内沉积内包皮层和芯层玻璃，整个系统是处于全封闭的超提纯状态，在火焰加热石英管的同时，在管内进行化学气相沉积，可以精确的调整原材料的成分和比例，从而有利于制备波导结构复杂的特种光纤。

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