典型用户

等离子增强型化学气相沉积系统

化学气相沉积(CVD) 品牌:OV 型号:Novellus Concept one

仪器名称:
等离子增强型化学气相沉积系统

英文名称:
Concept one

所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域:
电子与通信技术

主要技术指标:

主要功能:
Nitrid-Depositio-rate-1800+/-200A/minUniformit-WIW,WTW,LTL-<3%Stress-(1.0-2.0)E-compreessiv-dynes/cm2Oxid-Depositio-rate-4400+/-300A/minUniformit-WIW.WTW.LTL-<3%Refractiv-Index-1.45+/-0.05Stress-<1.5E-conpressiv-dynes/cm2Particle-Mechanica-particle(<0.3um)-<30Particl-o-film(0.3um)-<5

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