去胶机
甲烷/非甲烷烃检测仪
品牌:TE
型号:IoN Wave10
仪器名称:
去胶机
英文名称:
MicroWave Plasma etching
所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备
学科领域:
电子与通信技术
主要技术指标:
全自动操作,可用于6inch或8inch晶圆的去胶。 片内去胶均一性优于±10%;片间去胶重复性优于±5%。 功率600W的2.45GHz发生器。 Windows中文操作系统,图形化操作界面。 可配备多路MFC。
主要功能:
PVA TePla IoN Wave 10利用微波等离子体清除晶圆表面的光刻胶或用于MEMS结构的释放。