反应离子刻蚀机
甲烷/非甲烷烃检测仪
品牌:TE
型号:TRION SIRUS T2
仪器名称:
反应离子刻蚀机
英文名称:
所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备
学科领域:
物理学
主要技术指标:
?刻蚀基片规格:>200mm(8英寸)
?反应电极规格:8英寸
?反应腔体材料:SUS304不锈钢
?反应室材料:镍合金
?自动调谐射频发生器频率:13.56MHZ,功率600瓦
?反应离子气体刻蚀均匀度:<>
主要功能:
TRION TECHNOLOGY SIRUS T2反应离子刻蚀机是一套桌面式等离子刻蚀系统,可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。SIRUS T2的内部程序中已经制定了蚀刻硅,二氧化硅,氮化硅,石英,聚酰亚胺, 钽,钨,钛钨和其他材料所需要的基本控制,具有良好的选择性和刻蚀均匀性。