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三靶全自动薄膜沉积系统

化学气相沉积(CVD) 品牌:中国科学院沈阳科学仪器有限公司 型号:TRP-450

仪器名称:
三靶全自动薄膜沉积系统

英文名称:
Thin Film Deposition System

所属分类:
其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
化学 材料科学 产品应用相关工程与技术

主要技术指标:
三靶全自动薄膜沉积系统

主要功能:
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