典型用户

高真空PEVCD制备系统

圆二色光谱品牌：沈阳奇汇型号：QHV-P400D

仪器名称：

高真空PEVCD制备系统

英文名称：

High Vacuum plasma-enhanced chemical vapor deposition system

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

物理学

主要技术指标：

PECVD可沉积100×100mm衬底一片，基片加热温度室温～500℃，靶面到衬底距离20～70MM连续可调。最高真空优于9*10-6pa、恢复真空6.6×10-4Pa。

主要功能：

主要制备材料:非晶硅、多晶硅薄膜及相应的N型/P型掺杂薄膜, 淀积不均匀性：≤±5％。PECVD沉积室，真空室内尺寸Ф400×350的圆柱体，真空专用不锈钢壳体，水冷壁结构。外表面喷砂处理，内表面抛光。各种刀口法兰接口布局合理，与真空泵组及真空测控系统、样品加热系统及测量控制、进气口，观察窗等连接匹配。

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