典型用户

MOCVD

化学气相沉积（CVD）品牌：TS 型号：CCSFT

仪器名称：

MOCVD

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

其他

主要技术指标：

1、外延能力：6×2″和3×3″ 2、工作温度：1000℃~1300℃ 3、加热方式：加热丝加热 4、工艺压力范围：流量在30slm下30~500Torr可调

主要功能：

主要用于GaN异质外延生长

典型用户

宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室

北京市科研单位

宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室拥有专用清洗机、GaN外延层MOCVD、自动键合机、高温打胶机、SiC CVD系统、动态特性测试仪、快速退火炉、湿法刻蚀机、MOCVD、真空焊接炉等科研仪器。

ERM

0台仪器 6家供应商

2台仪器 3家供应商

泰思

7台仪器 2家供应商

瑞士铝业

0台仪器 2家供应商

11台仪器 1家供应商

ECO

1台仪器 1家供应商

0台仪器 1家供应商