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仪器信息网 典型用户 宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室 SiC CVD系统

SiC CVD系统

化学气相沉积（CVD） 品牌：AIXTRON 型号：VP2400G4PW

仪器名称：
SiC CVD系统

英文名称：

所属分类：
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：
其他

主要技术指标：
1、外延能力：6×3″和6×4″ 2、工作温度：1550℃~1650℃ 3、加热方式：高频加热 4、工艺压力范围：流量在100slm下100~1000mbar可调

主要功能：
主要用于SiC同质外延生长

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宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室

 北京市 科研单位

宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室拥有专用清洗机、GaN外延层MOCVD、自动键合机、高温打胶机、SiC CVD系统、动态特性测试仪、快速退火炉、湿法刻蚀机、MOCVD、真空焊接炉等科研仪器。

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