典型用户

全自动型感应耦合等离子体刻蚀机

等离子体/化学刻蚀设备 品牌:北京创世威纳技术有限公司 型号:ICP

仪器名称:
全自动型感应耦合等离子体刻蚀机

英文名称:
Inductively coupled plasma etching machine

所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域:
物理学 材料科学

主要技术指标:
样片尺寸:6英寸,刻蚀不均匀性:优于±5%(Φ6英寸范围),刻蚀室尺寸:不小于Φ350,电极尺寸: 不小于Φ220mm,深宽比:大于10:1(Si),选择比:大于50:1(光刻胶:Si), 衬底加热:tm≤500±5℃, 射频电源:频率 13.56MHz,功率500W

主要功能:
主要用于Si、SiO2、Si3N4、石英 / Cr、Al / GaN、GaAs、InP等材料的刻蚀

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