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超高真空多靶磁控溅射镀膜系统

镀膜机品牌：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司型号：JGP-560

仪器名称：

超高真空多靶磁控溅射镀膜系统

英文名称：

所属分类：

其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

物理学

主要技术指标：

极限压力：2.010-4Pa（经烘烤除气后）。恢复真空时间：40分钟可达到6.610-4Pa。磁控靶组件：永磁靶5套；靶材尺寸φ60mm；样品尺寸：φ30mm，可放置6片。运动方式：0~360°往复回转。

主要功能：

主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。

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