典型用户

高精度立式双面磨削机

其它通用分析 品牌:宇环数控机床股份有限公司 型号:YH2M7711,1070*495

仪器名称:
高精度立式双面磨削机

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 其他

学科领域:
机械工程

主要技术指标:
"研磨盘尺寸(外径×厚度):≥φ640mm×20mm; 工作环尺寸(外径×内径×高度):≥φ268mm×φ238mm×50mm (3件); 工件尺寸:≤φ220mm; 研磨件平面度:≤0.005mm(φ80); 抛光件平面度:≤0.008mm; 研磨件表面粗糙度:Ra≤0.15μm; 抛光件表面粗糙度:Ra≤0.125μm; 研磨盘转速:5~90 r/min(无级调速); 工作环转速:0~90 r/min(无级调速); 气缸(缸径×行程):φ63mm×600mm(3件); 加工工位数量≥3个; 洁净室改造要求: 洁净室改造包括但不限于实验室彩钢板隔墙、天花,环氧树脂地板,实验室照明,实验室空调设备,实验室送回风工程等; 洁净室空间不小于14m×5m×4m,有效利用安装场地; 三十万级洁净室,空气洁净度达到GMP(药品生产质量管理规范)洁净区(室)空气洁净度等级C级(对应ISO14644-1标准7级)以上; 恒温恒湿,温度23℃±2℃,相对湿度为65%±5%; 洁净室相对周围的空间有一定的正压≥5Pa; 洁净室地基要求150mm整体混凝土,同时预留

主要功能:
主要用于蓝宝石、陶瓷、硅、锗、石英晶体、玻璃、砷化碳、铁氧体、铌酸锂等非金属硬脆性材料薄片零件和极软材料如铝合金、蓝玻璃表面的高精度单面研磨抛光。

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