典型用户

三室复合薄膜沉积系统

化学气相沉积(CVD) 品牌:沈阳科学仪器研制中心股份有限公司 型号:

仪器名称:
三室复合薄膜沉积系统

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
材料科学 能源科学技术

主要技术指标:
1、真空室极限真空1X10-5Pa; 2蒸发室极限真空1X10-5Pa; 3靶材尺寸直径60mm。

主要功能:
使用磁控溅射法制备各种薄膜

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