典型用户

接触接近式光刻机

光刻机品牌：SUS 型号：MA6

仪器名称：

接触接近式光刻机

英文名称：

所属分类：

其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

电子与通信技术

主要技术指标：

硅片尺寸 Size 4〞(ф100.0mm) 硅片直径及偏差 Diameter 100.0mm ±0.25 厚度范围 Thickness range 650 μm±25μm 总厚度偏差 TTV ≤5um 局部平整度（site 10mm×10mm）LTV ≤1 um 弯曲度 Bow ≤20um 翘曲度 Warp ≤30um 曝光最小线宽500nm

主要功能：

光刻胶匀胶显影；硅片尺寸 Size 4〞(ф100.0mm)；光刻胶曝光图案化。

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北京航空航天大学青岛研究院

山东省高校

北京航空航天大学青岛研究院拥有扫描电子显微镜、磁场真空退火系统、微型CT、液氦低温磁光测量系统、运动捕捉系统、面内低温磁场探针台、隧穿磁电阻比率测量仪、EMC电磁兼容测量接收机、原子力显微镜、多功能磁光克尔成像系统等科研仪器。

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