反应离子刻蚀机台
甲烷/非甲烷烃检测仪
品牌：AMC
型号：SHL FA100P
仪器名称：
反应离子刻蚀机台
英文名称：
RIE
所属分类：
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备
学科领域：
电子与通信技术 信息与系统科学相关工程与技术 航空、航天科学技术
主要技术指标：
1. 高选择性各向异性腐蚀，符合苛刻的制程要求； 2. 全自动"一键"操作完全代替手动操作； 3. 易于使用的电脑触屏的参数控制和配方输入和存储； 4. 晶圆尺寸达8"英寸直径，圆滑、紧凑的设计使用最少的洁净室空间； 5. RIE-10NR设计用于蚀刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化学的薄膜或基片。其安装在节省空间的平台上的模块化设计，使其成为全世界许多用户的首选系统；
主要功能：
全面开发出各种工艺，用于对使用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻，其中包括：碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨
