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四轴激光图形化直写设备

废气/废水处理机 品牌:苏州苏大维格光电科技股份有限公司 型号:Microlab

仪器名称:
四轴激光图形化直写设备

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 机加工工艺实验设备

学科领域:
机械工程

主要技术指标:
最小结构尺寸0.2um 具有三个不同分辨率的光学镜头,支持基底厚度1-15mm支持Z轴基底翘曲100um 支持扫描曝光,灰度曝光,拖曳曝光 书写速度不小于10mm2/min@0.5um;40mm2/min@0.5um;80mm2/min@0.5um; 套刻精度小于等于500nm 支持256阶3D灰度光刻

主要功能:
制作微米级器件的微结构,如光学器件(光栅,光子晶体,光波导)电学器件,二极管,晶体管等,纳米桥,超导器件等。

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湖南大学拥有冷均发射扫描电镜、气质联用仪、电感耦合等离子体串联质谱仪、超高真空超低温扫描隧道显微镜系统、台式扫描电子显微镜、高分辨光谱型共聚焦显微系统、非饱和土三轴试验仪、机载高光谱成像仪、快扫描共聚焦与全内反射荧光显微镜、场发射透射电镜等科研仪器。

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