典型用户

气相沉积仪

物理气相沉积(PVD) 品牌:DE 型号:LWL-55347

仪器名称:
气相沉积仪

英文名称:
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

所属分类:
工艺试验仪器 > 化工、制药工艺实验设备 > 化学反应工艺实验设备

学科领域:
材料科学

主要技术指标:
成膜范围直径大于200mm,基板温度低至300度,可以使用不少于4种工艺气体成膜,沉积及清洗过程控制数字化、自动化,成膜质量稳定。射频源:13.56MHZ 气路:NH3,Ar,H2,C2H2 清洗:CH4/Ar混合气体 样品尺寸:8英寸 真空度:<3×10-2 Pa 温度范围:<300℃

主要功能:
制备薄膜材料,可沉积碳纳米管薄膜

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