典型用户

扫描电子/聚焦离子束双束系统(SEM/FIB)

扫描电镜（SEM）品牌：荷兰，美国FEI公司型号：Nova200 NanoLab

仪器名称：

扫描电子/聚焦离子束双束系统(SEM/FIB)

英文名称：

Scanning Electron Microscope (SEM)/Focused Ion Beam (FIB) DualBeam System

所属分类：

分析仪器 > 显微镜及图象分析仪器 > 其他

学科领域：

物理学化学

主要技术指标：

1.分辨率：电子束 1.1 nm @ 15kv ；离子束 7nm @ 30kv 2.最小沉积线宽 (Pt) ：电子束下30nm ；离子束下50nm 3.最小刻蚀线宽 (Si) ：30nm 4.最大样品尺寸： 2 英寸

主要功能：

功能：采用聚焦离子束(Ga+)加工或电子束曝光生成、修改与表征微纳米级结构。主要包括：(1)离子束刻蚀；(2)电子束曝光；(3)离子束/电子束沉积Pt或SiO2生成微纳结构；(4)透射电镜TEM样品制备;(5)XeF2绝缘体增强刻蚀；(6)电子束/离子束成像。主要附件：德国Raith公司电子束曝光系统

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国家纳米科学中心拥有振动圆二色光谱仪(Biotools)、120KV透射电子显微镜(Ht-7700)、硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机(ICPRIE-180)、捏合机、高精度3D打印装置、场发射透射电子显微镜(F-20)、扫描探针显微镜（东楼-Multimode)、电子束蒸发镀膜系统(O-50B)、原子力显微镜、研究级倒置显微镜等科研仪器。

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