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原子层沉积ALD镀膜设备

样品前处理工作站品牌：锡迈纳德微纳技术有限公司型号：d-100-32p

仪器名称：

原子层沉积ALD镀膜设备

英文名称：

所属分类：

分析仪器 > 样品前处理及制备仪器 > 其他

学科领域：

化学材料科学

主要技术指标：

衬底尺寸：4-12英寸(可兼容156*156 mm，200 *200 mm衬底) 衬底温度：室温-400度(含水冷)，控制精度：±1℃ 真空腔：316不锈钢腔体前驱体输送系统：4-6路(可选配液源、固源和气源) 沉积模式：快速模式、高纵深比模式和专业掺杂模式

主要功能：

原子层沉积技术（AtomicLayer Deposition, ALD），基于原子层沉积过程的自限制反应过程，所镀上的膜可以达到单层原子的厚度，因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层，所以能够在纳米尺度上对沉积工艺进行完全控制，操作过程简易。与目前的其他镀膜方法相比，具有沉积温度低，精确控制膜厚、薄膜结合强度好、逐层沉积膜层厚度一致、成分均匀性好等优越性，是先进的纳米表面处理技术。原子层沉积设备已应用于半导体集成电路产业，给半导体工程，微机电系统和其他纳米技术应用提供了广阔的应用平台。/

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