典型用户

三室复合薄膜沉积系统

化学气相沉积（CVD）品牌：中国科学院沈阳科学仪器研制中心型号：三室型

仪器名称：

三室复合薄膜沉积系统

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

其他

主要技术指标：

溅射室极限真空度：≤1X10-5Pa (经烘烤除气后) 蒸发室极限真空度：≤2X10-7Pa (经烘烤除气后) 进样室极限真空度：≤6.67X10-4 Pa (经烘烤除气后) 系统真空检漏漏率：≤5.0X10-7 Pa.l/S 系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气溅射室40分钟可达到6.6X10-4 Pa 蒸发室40分钟可达到6.6X10-4 Pa 进样室40分钟可达到6.6X10-3 Pa 溅射室停泵关机12小时后真空度：≤1 Pa 蒸发室停泵关机12小时后真空度：≤0.5 Pa 进样室停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa

主要功能：

可以实现不间断的进样，能够使用磁控溅射方法一次性连续制备不多于6层薄膜的薄膜系统，能够通过蒸发方式同时蒸发不多于4种元素的薄膜组成。

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