典型用户

三靶共溅射磁控溅射镀膜机

镀膜机品牌：真空型号：JSD600

仪器名称：

三靶共溅射磁控溅射镀膜机

英文名称：

Three-target co-sputtering magnetron sputtering coating machine

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

材料科学

主要技术指标：

样品能加热到600℃，控制精度不大于±1℃；射频电源频率13.56MHZ，功率0-600W可调，功率不稳定度≤2W，自动匹配调节，配备自动匹配器，匹配时间精度不大于5秒。高性能真空系统，极限真空6×10-5Pa；沉积200nm的薄膜。在3英寸平面基底上十字交叉取9个点进行测试。薄膜厚度不均匀性≤±5%，边缘去除5mm。

主要功能：

可使用单/双/三靶对同一基片进行磁控溅射镀膜实验，配备加热系统可以将抽真空速度加快，本底真空降低；可使用双/三靶溅射制备掺杂薄膜，较非掺杂薄膜性质变多，性能不同，更利于发现新功能、高性能薄膜。设备自动化程度较高，开/关机配备一键启动/关闭功能，方便操作。