典型用户

全自动离子束刻蚀机

废气/废水处理机 品牌:北京创世威纳科技有限公司 型号:MIBE-150

仪器名称:
全自动离子束刻蚀机

英文名称:
Automatic ion beam etching machine

所属分类:
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 电加工工艺实验设备

学科领域:
物理学 电子与通信技术

主要技术指标:
1. 刻蚀室真空度极限:≤9×10-5Pa 2. 刻蚀材料:各种金属薄膜、硬质薄膜等 3. 刻蚀速率:≥100 - 2000À/min (与刻蚀材料和工艺有关) 4. 离子源: 口径 12cm射频离子源。 5. Ar+离子能量范围:100 - 1000eV 6. 离子束功率密度:1w/cm2 7. 离子束流密度:  1mA/cm2 8. 离子束有效直径:≥75mm 9. 刻蚀工作台(最大刻蚀面积):15cm 10. 工作台旋转方式:自转 0 - 30rpm。 11. 刻蚀角度:可调节,倾角调整角度 0 - 90°。 12. 刻蚀距离:可调节,调节范围18-22cm。 13. 刻蚀不均匀性:±5%(Φ3英寸范围内) 14. 电源稳定度:±1%

主要功能:
可实现对金属膜、化合物膜、硬质膜等各种薄膜材料进行高性能干法刻蚀。

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