磁控溅射
物理气相沉积(PVD)
品牌:SK
型号:PVD75
仪器名称:
磁控溅射
英文名称:
Magnetron Sputtering
所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电子产品通用工艺实验设备
学科领域:
化学 信息与系统科学相关工程与技术 材料科学 化学工程
主要技术指标:
1.衬底尺寸:最大4英寸,向下兼容 2.坩埚尺寸:4个8cc蒸发源 3.衬底温度:加热至800℃ 4.配备一个热蒸发源 5.配备辅助沉积的离子束源 6.工艺气体:Ar/O2,MFC控制 7.配有膜厚仪实时对膜厚进行检测,实现对薄膜的厚度的精确控制
主要功能:
可沉积各种金属材料包括难熔金属、绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品