典型用户

高真空磁控溅射镀膜机

镀膜机品牌：沈阳型号：172100

仪器名称：

高真空磁控溅射镀膜机

英文名称：

所属分类：

其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

材料科学电子与通信技术

主要技术指标：

设备共有3腔（反溅腔、溅射腔、氧化腔） 8靶极限真空可达到5*10-6Pa，能进行2英寸晶圆镀膜。

主要功能：

可通过直流溅射和射频溅射对不同的靶材进行溅射沉积镀膜。

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甘肃省科学院传感技术研究所拥有离子束刻蚀机、高真空磁控溅射镀膜机、激光直写机、光谱椭偏仪、真空磁热退火炉、微波等离子去胶机等科研仪器。

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