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低背景浓度金属有机物化学气相沉积设备

化学气相沉积（CVD）品牌：AIXTRONAG 型号：AIX2800G4

仪器名称：

低背景浓度金属有机物化学气相沉积设备

英文名称：

MOCVD

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

其他

主要技术指标：

±3% 厚度均匀性

主要功能：

外延片生长

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