典型用户

MOCVD系统辅助压力设备

化学气相沉积(CVD) 品牌:中国科学院半导体研究所 型号:

仪器名称:
MOCVD系统辅助压力设备

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
其他

主要技术指标:
制备1nm以上厚度的GaN基外延薄膜。

主要功能:
外延生长GaN基材料

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