Singulus磁控溅射沉积系统
废气/废水处理机
品牌:SI
型号:SingulusRPTARIS
仪器名称:
Singulus磁控溅射沉积系统
英文名称:
所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备
学科领域:
材料科学
主要技术指标:
1、晶圆尺寸:最大为8寸晶圆。
2、12个PVD溅射靶材,靶材直径100mm。
3、最多4个阴极共溅射。
4、溅射模式:直流、脉冲直流、射频溅射。
5、2个晶圆腔室,可一次性处理50个晶圆,整个过程可设置全自动并行实现。
6、三个主要腔室,可完成表面刻蚀、多材料物理气相沉积、自然氧化和真空退火功能。
7、溅射模式分动态和静态两种。
主要功能:
德国Singlus磁控溅射沉积系统是一台族群式溅射设备,可完成8寸薄膜溅射沉积过程,实现小批量生产,功能包括表面刻蚀、多材料物理气相沉积、自然氧化和真空退火功能,整个过程由CTC族群式控制器控制。