典型用户

Singulus磁控溅射沉积系统

废气/废水处理机品牌：SI 型号：SingulusRPTARIS

仪器名称：

Singulus磁控溅射沉积系统

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

材料科学

主要技术指标：

1、晶圆尺寸：最大为8寸晶圆。 2、12个PVD溅射靶材，靶材直径100mm。 3、最多4个阴极共溅射。 4、溅射模式：直流、脉冲直流、射频溅射。 5、2个晶圆腔室，可一次性处理50个晶圆，整个过程可设置全自动并行实现。 6、三个主要腔室，可完成表面刻蚀、多材料物理气相沉积、自然氧化和真空退火功能。 7、溅射模式分动态和静态两种。

主要功能：

德国Singlus磁控溅射沉积系统是一台族群式溅射设备，可完成8寸薄膜溅射沉积过程，实现小批量生产，功能包括表面刻蚀、多材料物理气相沉积、自然氧化和真空退火功能，整个过程由CTC族群式控制器控制。